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文献类型：学位论文作者杨朝兴学位类别博士答辩日期2016授予单位中国科学院上海光学精密机械研究所...杨朝兴.基于遗传算法的光刻机光源掩模优化技术研究[D].中国科学院上海光学精密机械研究所.2016.入库方式：OAI...
光刻图形转移技术适合不知如何写光刻方面的相关专业大学硕士和本科毕业论文以及关于中国14纳米芯片光刻机论文开题报告范文和相关职称论文写作参考文献资料下载。免费关于光刻论文范文，与光刻有关论文写作参考文献资料。
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
微电子工艺——光刻工艺学生姓名电子科学与技术指导教师二O一三光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京摘要：光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。.被...
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
光学光刻技术与其它光1光刻机基本工作原理目前高档光刻机都是采用投影式的工作刻技术相比，具有生产率高、成本低、易实现高的对准和套刻精度、掩模制作相对简单、工原理（如图1所示）：准分子激光器作为照明光源；激光光束通过照明系统形成部分
清华团队论文登Nature，或为EUV光刻机发展提供新想法.【新智元导读】2月25日，清华大学工程物理系唐传祥研究组与合作团队在《自然》上发表研究论文《稳态微聚束原理的实验演示》，报告了一种新型粒子加速器光源「稳态微聚束」的首个原理验证实验。.与...
光源是光刻机核心之一，光刻机的工艺能力首先取决于其光源的波长。下表是各类光刻机光源的具体参数：最早光刻机的光源是采用汞灯产生的紫外光源(UV:UltravioletLight)，从g-line一直发展到i-line，波长缩小到365nm，实际对应的分辨率大约在200nm以上。
本书是我国高端光刻机领域的第一部著作，书中介绍了集成电路与光刻机的发展历程；重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能、基本结构、工作原理、关键技术等；简要介绍了计算光刻技术；最后介绍了光刻机成像质量的提升与光刻机整机、分...
“EUV光刻机工作相当于用波长只有头发直径一万分之一的极紫外光，在晶圆上雕刻电路，能够让指甲盖大小的芯片包含上百亿个晶体管。阿斯麦光刻机用的就是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体后产生波长13.5纳米的EUV光源，功率约250瓦。
47参考文献48附录1攻读硕士学位期间发表的学术论文目录绪论1.1课题的来源、背景和意义1.1.1课题的来源本论文的研究工作受以下项目资助:(1)国家02科技...
关于光刻机精细对准方法的研究文档信息主题:关于“论文”中“期刊戒会讫论文”的参考范文。属性:F-0DWBSH,doc格式,正文2527字。质优实惠,欢迎下载!适用:...
光刻机光源中单元光学系统ZEMAX模拟-物理电子学专业论文.docx,华中科技大学硕士学位论文华中科技大学硕士学位论文PAGE10PAGE101绪论1.1光刻技术光刻技...
【摘要】:极紫外光刻(EUVL)是下一代光刻技术中最有前途的方法,它向人们提供了突破22nm节点的途径。但是,限制EUV技术发展的一个主要制约因素是大功率,高质量大功率的EUV光源难...
NIKON光刻机的对准优化设计论文.doc46页内容提供方:大漠天下大小:2.26MB字数:约2.68万字发布时间:2019-01-08浏览人气:170下载次数:仅上传者可见收...
让全世界都感到震惊，该科技的论文论证过程已经在世界顶尖杂志期刊《自然杂志》发表，之所以很多人感到诧异，是因为光刻机的光源核心技术实在太难突破了，目前仅有少数几个国家实现，...
探索利用光刻技术在蓝光LED表面微米级多孔结构,并研究其出光效率的改善;用阳极氧化的方法了多孔氧化铝(AAO)模板,利用纳米压印技术将AAO米级多孔结构...
提出一种基于二次规划的光刻机光源优化方法.采用空间像与目标像的图形误差为目标函数,根据空间像强度与不同位置的点光源之间的线性关系,将光源优化转换成二次规...
同被引文献701胡台光,吴爱清,刘秋华.光可变衰减器[J].光通信研究,1993(1):22-26.被引量:32袁琼雁,王向朝,施伟杰,李小平.浸没式光刻技术的研究进展[J].激光与光电子学进...
内容提示:书书第34卷第10期光学学报Vol.34,No.102014年10月ACTAOPTICASINICAOctober,2014基于二次规划的光刻机光源优化方法闫观勇1,2李思坤1王向朝1...