电子显微学报是几区
电子显微学报是几区
国内物理电子学类期刊
2008-05-10 12:38:59
1、传感器技术(月刊)
本刊是信息产业部电子第四十九研究所主办的国家级综合技术刊物。该刊是中文核心期刊,是中国国际图书贸易总公司对外推荐的中文期刊,是《中国科学引文数据库》、《计量测试文摘》、《中国电子科技文摘》等的收录期刊。荣获第二届全国优秀科技期刊奖,中国期刊方阵双效期刊奖、电子工业部优秀科技期刊奖,信息产业部优秀科技期刊奖,黑龙江省优秀科技期刊奖。主要报道国内各类敏感元件,传感器及电子技术,科研成果及产品等,同时报道企业概况、人物介绍、行业活动、市场信息、技术信息、经济信息等。
主管单位:信息产业部
主办单位:信息产业部电子第四十九研究所
编辑单位:《传感器技术》编辑部
主 编:范茂军
主 任:
地 址:哈尔滨市南岗区一曼街29号(哈尔滨44信箱信息中心)
邮政编码:150001
电 话:
传 真:
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国内刊号:23-1300/TN
国际刊号:1000-9787
邮发代号:14-203
定 价:7.5
2、光学技术(双月刊)
本刊由国防科工委主管,中国兵工学会,北京理工大学,中国北方光电工业总公司联合主办,北京理工大学光电工程系和中国兵工学会光学学会承办,光学技术杂志社编辑出版的中央级学术类和技术类期刊。1975年创刊,现为双月刊,96页,大16开版本,每单月20日出版。国内邮发号为2-830,国外邮发号为4127BM。本刊杂志从1990年开始一直被美国工程索引(EI)列为固定的收录期刊,文章收录率一直为87%左右。本惠的发行范围较广,基本上覆盖了国内的整个光电行业。
主管单位:国防科工委
主办单位:中国兵工学会,北京理工大学,中国北方光电工业部公司
编辑单位:光学技术杂志编辑部
主 编:揭德尔
主 任:
地 址:北京市海淀区中关村南大街5号
邮政编码:100081
电 话:68471784
传 真:68412867
电子邮件:
国内刊号:11-1879/O4
国际刊号:1002-1582
邮发代号:2-830
定 价:15
3、电子显微学报(双月刊)
本刊由中国物理学会主办,电子显微镜分会承办。是国内惟一一份报道电子显微学和其它显微学新的研究成果和应用成果、新仪器研制生产及实验技术的双月刊。本学报及时反映电子显微学和其他显微学的新动态、新进展,及时报道利用电子显微学研究诸如生命科学(生物学、医学),材料科学(特别是新兴的纳米材料、薄膜材料)、化学化工、地质科学等所取得的高科技成果。《电子显微学报》报道的内容涵盖自然科学领域之广,为自然科学类期刊中仅见的学术期刊。
主管单位:中国科协
主办单位:中国物理学会
编辑单位:《电子显微学报》编辑部
主 编:姚骏恩
主 任:李宁春
地 址:北京2724信箱电子显微学报编辑部
邮政编码:100080
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国内刊号:11-2295/TN
国际刊号:1000-6281
邮发代号:
定 价:20
4、激光与红外(双月刊)
本刊是中国光学光电子行业协会、电子部激光与红外专业情报网、中国电子学会量子与光电子学分会的联合刊物,报道光电子技术领域的科技进展、新技术成果等。设有综述与评论、激光技术、红外技术、光电器件、光电材料、市场动态和文献信息等栏目。
主管单位:中华人民共和国信息产业部
主办单位:华北光电技术研究所
编辑单位:《激光与红外》编辑部
主 编:袁继俊
主 任:所洪涛
地 址:北京8511信箱(北京朝阳区、酒仙桥路4号)
邮政编码:100015
电 话:64362211-310
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国内刊号:11-2436/TN
国际刊号:1001-5078
邮发代号:2-312
定 价:8
5、激光杂志(双月刊)
本刊是国家新闻出版局批准的国内外公开发行的刊物,以报导光电与激光技术为主的科技期刊。从1992上起被列为中国科技论文统计源刊物,所刊登论文被美国《EI》检索。
主管单位:重庆市科学技术委员会
主办单位:重庆市光学机械研究所
编辑单位:《激光杂志》编委会
主 编:程正学
主 任:刘凌云
地 址:重庆市石桥铺渝州路35号
邮政编码:400039
电 话:
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国内刊号:50-1085/TN
国际刊号:0253-2743
邮发代号:78-9
定 价:10
6、激光技术(双月刊)
本刊是国家新委批准出版的全国性自然科学技术期刊,属国家级科学技术刊物。本刊从科学技术的角度反映激光在我国国防、工业、农业、生物、医学、通信及人们生活相应用,进展及成果,跟踪国外高技术发展;密切注视各国激光技术的研制状况和动态,为我国科研、教学、生产和应用提供最新信息。
主管单位:中国兵器工业总公司
主办单位:西南技术物理研究所
编辑单位:激光技术编委会
主 编:侯天晋
主 任:於祖兰
地 址:成都市238信箱209分箱
邮政编码:610041
电 话:-291
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国内刊号:51-1125/TN
国际刊号:1001-3806
邮发代号:62-74
定 价:15
7、红外与毫米波学报(双月刊)
本学报由中国科学院主管,中科院上海技术物理研究所主办。主要刊登在红外物理、凝聚态光学地质、非线性光学、红外光电子学、红外与毫米波技术等方面有创新的论文、具有国内外先进水平的研究报告。并设置了交叉学科研究专栏。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国光学学会 中国科学院上海技术物理所
编辑单位:《红外与毫米波学报》编辑委员会
主 编:褚君浩
主 任:糜正瑜
地 址:上海中山北一路420号
邮政编码:200083
电 话:-36323或36307
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国内刊号:31-1577/TN
国际刊号:1001-9014
邮发代号:4-335
定 价:10
8、 光电工程(月刊)
本刊刊登内容包括工程光学和光电技术方面的学术论文和技术报告,主要有自适应光学,应用光学,微光学,光电捕获跟踪测量技术,光学设计,薄膜光学,自动控制,电视技术,激光技术,光刻,精密刻划和光电传感技术,光通信,光计算,以及光学方面的其它高新技术。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国科学院光电技术研究所
编辑单位:《光电工程》编辑部
主 编:马佳光
主 任:
地 址:四川省成都市双流350信箱29分箱
邮政编码:610209
电 话:
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国内刊号:51-1346/O4
国际刊号:1003-501X
邮发代号:
定 价:11
9、 激光与光电子学进展(月刊)
本刊由中科院上海光学精密机械研究所和国家惯性约束聚变委员会联合主办。旨在关注科技发展热点,报道高新技术前沿,追踪科技研发动态,介绍科学探索历程;展示最新科技产品,汇萃时尚科技讯息。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国光学学会 中国科学院上海光学精密机械研究所
编辑单位:《激光与光电子学进展》编辑部
主 编:范滇元
主 任:陈秀娥
地 址:上海市嘉定清河路390号(上海市800-211信箱)
邮政编码:201800
电 话:,69918166
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国内刊号:31-1690/TN
国际刊号:1006-4125
邮发代号:4-179
定 价:20
10、 光电子技术与信息(双月刊)
本刊为光电子学、光电子技术类科技双月刊。主要报道范围有激光技术(如激光加工、激光医学及其他激光应用技术)、红外技术、大气光学与环境光学、光学与光电探测技术、光纤通信与传感技术,以及光电子新材料、新器件和新技术探索等国内外光电子技术领域的研究现状、应用水平及最新进展。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国科学院安徽光学精密机械研究所、中国光学学会光电技术专业委员会
编辑单位:《光电子技术与信息》编辑部
主 编:余吟山
主 任:
地 址:合肥市1125信箱
邮政编码:230031
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国内刊号:34-1138/TN
国际刊号:1006-1231
邮发代号:26-145
定 价:6
11、 中国光学快报(英文版)(月刊)
本刊是我国唯一全面反映激光领域最新成就的英文版专业学报类期刊。主要发表我国在激光、光学、材料应用及激光医学方面卓有成就的科学家的研究论文。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国光学学会
编辑单位:《中国光学快报》编辑部
主 编:徐至展
主 任:颜严
地 址: 上海800-211信箱(上海喜定区清河路390号)
邮政编码:201800
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国内刊号:31-1890/O3
国际刊号:1671-7694
邮发代号:4-644
定 价:35
12、 中国激光(月刊)
本刊是我国唯一全面反映激光领域最新成就的专业学报类期刊。主要发表我国在激光、光学、材料应用及激光医学方面卓有成就的科学家的研究论文。涉及领域包括激光器件、新型激光器、非成性光学、激光在材料中的应用、激光及光纤技术在医学中的使用,锁模超短脉冲技术、精密光谱学、强光物理、量子光学、全息技术及光信息处理。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国光学学会
编辑单位:《中国激光》编辑委员会
主 编:周炳琨
主 任:雷仕湛
地 址:上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
邮政编码:201800
电 话:
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国内刊号:31-1339/TN
国际刊号:0258-7025
邮发代号:4-201
定 价:25
13、量子电子学报(双月刊)
本刊主要刊登光学、激光以及光学的电子学交叉学科等量子电子学领域具有创新意义的研究成果。刊
物曾多次获搣中国光学期刊攠、搣华东地区优秀期刊攠及、搣安徽省优秀期刊攍och 奖。已被国际权威检索期刊《科学文摘》(SA)、《化学文摘》(CA)以及国内《中国科学引文数据库》、《中国期刊网》等收录。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国光学学会基础光学专业委员会
编辑单位:《量子电子学报》编委会
主 编:龚和本
主 任:王广昌
地 址:合肥市1125邮政信箱
邮政编码:230031
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国内刊号:34-1163/TN
国际刊号:1007-5461
邮发代号:26-89
定 价:12
14、 光学与光电技术(双月刊)
本刊属无线电电子学电信技术类学术型刊物,是民用与军用相结合怕综合性光电技术信息载体,由中国船舶重工集团公司华中光电技术研究所与湖北省光学学会联合主办。
主管单位:湖北省科学技术协会
主办单位:华中光电技术研究所 湖北省光学学会
编辑单位:《光学与光电技术》编辑部
主 编:潘德彬
主 任:刘爱东
地 址:武汉市雄楚大街981号
邮政编码:430073
电 话:-2351
传 真:
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国内刊号:42-1696/O3
国际刊号:1672-3392
邮发代号:
定 价:10
15、 光电子技术(季刊)
本刊是由国家科委批准公开发行的学术类刊物,主要刊登国内外光电子技术领域的学术论文、研究报告和综述文章,及时报道该领域的新技术、新产品、新材料、新工艺及有关器件、整机的应用。
主管单位:信息产业部
主办单位:南京电子器件研究所
编辑单位:《光电子技术》编辑部
主 编:陈向真
主 任:刘广荣
地 址:南京中山东路524号(南京1601信箱)
邮政编码:210016
电 话:-5864
传 真:
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国内刊号:32-1347/TN
国际刊号:1005-488X
邮发代号:
定 价:8
16、 光电子穧激光(月刊)
本刊为专业技术性刊物。报道光电子、激光技术领域的研究成果,内容包括新型光电子器件、装置和材料、光电控制和检测、光存贮和光电信息处理、通讯和光纤应用技术光电集成技术、光计算和光学神经网络、激光加工和激光应用、光电生物医学等方面。
主管单位:天津市教育委员会
主办单位:国家自然科学基金委员会信息科学部 中国光学学会光电技术专业委员会 天津理工学院
编辑单位:《光电子穧激光》编辑部
主 编:巴恩旭
主 任:汪美林
地 址:天津杨南开区红旗南路263号
邮政编码:300191
电 话:
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国内刊号:12-1182
国际刊号:1005-0086
邮发代号:6-123
定 价:10
17、应用激光(双月刊)
本刊1981年创刊,刊登激光技术在我国工业、农业、科研、医学等领域的应用文章,深受广大读者欢迎,1985年发行量达到4250册/期。成为同类刊物中发行量最大的期刊。《应用激光》论文被搣中国科技引文数据库攠选为引文源期刊,并被美国EI、德车FIZ选用。1996年《应用激光》列入全国搣影响因子攠最大的前五十种刊物之一。
管单位:上海科学院
主办单位:中国光学学会激光加工专业委员会
编辑单位:《应用激光》杂志社
主 编:王之江
主 任:
地 址:上海市宜山路770号
邮政编码:200233
电 话:-3401
传 真:
电子邮件:
国内刊号:31-1375
国际刊号:1000-372X
邮发代号:4-376
定 价:7.5
18、 西安电子科技大学学报(自然科学版)(双月刊)
本学报是信处科学与电子科学的学术理论刊物。被国内外多种重要检索系统收录,2000年再次被列为中文核心期刊。报道范围包括通信与信息工程,信号与信息处理,计算机科学与技术,机械制造与自动化,物理电子学,微电子学与固体电子学,电磁场与微波技术,应用数学,密码学,管理科学与工程等。
主管单位:教育部
主办单位:西安电子科技大学
编辑单位:《西安电子科技大学学报》编辑部
主 编:梁昌洪
主 任:李维东
地 址:西安市太白南路2号349信箱西安电子科技大学学报编辑部
邮政编码:710071
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国内刊号:61-1076/TN
国际刊号:1001-2400
邮发代号:
定 价:10
19、 电子科技大学学报(双月刊)
本学报是电子科技大学主办的由国家教育部主管的自然科学类期刊,是集创造性、学术性、科学性为一体的电子综合性刊物。主要刊登电子通信、电子测量、电视技术、生物电子学、雷达、电子对抗、遥感遥测、信息论、电磁场工程、天线、微波理论与技术、半导体物理与器件、电子材料与元件、电子机械、自动控制、电子物理与器件、激光与光纤技术、计算机科学与技术、管理科学、系统工程、数理化等基础科学理论和应用技术的学术论文;科研成果的学术性总结;新技术、新工艺的论述;国内外科技动态的综合评述;不同学术观点的争鸣等。
主管单位:国家教育部
主办单位:电子科技大学
编辑单位:《电子科技大学学报》编辑部
主 编:林为干
主 任:徐安玉
地 址:成都东郊建设北路
邮政编码:610054
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国内刊号:51-1207/T
国际刊号:1001-0548
邮发代号:62-34
定 价:5
20、光通信技术(月刊)
本刊为专业技术性刊物。报道光通信、光纤维传感技术在公用通信、专用通信和国防通信中的应用研究成果,包括系统与网络、光纤光缆与器件、光通信相关技术的开发及新技术新产品介绍等,还刊登专题讲座、厂商简介、书刊评价、人物专访、重大活动报道。读者对象为相关专业及部门的工程技术人员和管理人员。
主管单位:信息产业部
主办单位:信息产业部电子第34研究所
编辑单位:《光通信技术》编辑部
主 编:汤志强
主 任:
地 址:广西桂林市5号信箱
邮政编码:541004
电 话:
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国内刊号:45-1160/TN
国际刊号:1002-5561
邮发代号:48-126
定 价:7
21、 光学精密工程(双月刊)
本杂志是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所和中国仪器仪表学会精密机械分会主办的专业性学术期刊,由科学出版社出版。著名光学专家王大珩院士、唐九华院士担任顾问,陈星旦院士任编委会主任,中国科学院百人计划首批入选者、长春光机所所长,青年科学家曹建林博士担任主编。《光学精密工程》辟有综合评述、空间光学、图像处理、信息处理、纤维光学、微纳技术、精密机械、激光与技术、光学检验设备、光学以其余技术、测试技术及设备、信息光学、光电跟踪与自动控制、摄像技术及装置、光电技术及器件、光学工艺及设备、计算机应用与软件工程、光谱分析与光谱测量、激光测距与跟踪、摄像技术与装置、计算机辅助设计、薄膜光学、光衍射仪器与器件等专栏。
主管单位:中国科学院
主办单位:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 中国仪器仪表学会
编辑单位:《光学 精密工程》编辑委员会
主 编:曹健林
主 任:白雨虹
地 址:长春市东南湖大路16号
邮政编码:130033
电 话:
传 真:
电子邮件:
国内刊号:22-1198/TH
国际刊号:1004-924X
邮发代号:12-166
定 价:18
22、 光通信研究(双月刊)
本刊是武汉邮电科学研究院和烽火通信科技股份有限公司合办的技术类期刊。是我国最早的以高新科技光纤通信为内容的科技期刊,全国电信技术类中文核心期刊。主要刊载光纤通信网络、系统、设备、光纤光缆、光有源器件、光无源器件、仪器、仪表等领域的科研成果、应用等方面的学术论文以及与其有关的前沿学科。
主管单位:武汉邮电科学研究院
主办单位:武汉邮电科学研究院
编辑单位:烽火科技学院《光通信研究》编辑部
主 编:毛谦
主 任:程晓红
地 址:武汉市洪山区邮科院路88号
邮政编码:430074
电 话:
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国内刊号:42-1266/TN
国际刊号:1005-8788
邮发代号:
定 价:8
23、 红外与激光工程(双月刊)
本刊由航天机电集团主管,国内外公开发行,是无线电电子学、电信技术类核心期刊。本刊主要包括红外、激光和光电技术在航天、卫星和战术导弹武器系统研究、设计和应用上有创见的学术论文和科研报告,各种新的光电技术实验方法和结果,新工艺、新材料、国内外先进光电技术方面的优秀论文及信息报导,本刊栏目多,内容丰富,可供从事光学与应用专业方面的科研、厂矿、企事业单位、各大专院校及部队有关人员阅读参考,亦可供国内外各大图书馆及信息部门收藏。
主管单位:中国航天科工集团
主办单位:中国宇航学会光电技术专业委员会
编辑单位:《红外与激光工程》编辑部
主 编:孙再龙
主 任:赵雪艳
地 址:天津市225信箱32分箱
邮政编码:300192
电 话:
传 真:
电子邮件:
国内刊号:12-1261/TN
国际刊号:1007-2276
邮发代号:6-133
定 价:10
24、华中科技大学学报(自然科学版)(月刊)
本刊为科学技术综合性学术刊物,国内外公开发行。主要刊登机械工程、电子技术、信息科学、材料
科学、能源技术、船舶与海洋工程、土木建筑、生物医学、管理科学、基础理论等学科的最新科研成果,其中,以机械科学、电子技术、计算机技术等为优势专业。
本刊为中国自然科学核心期刊和中国科学技术论文统计用刊源之一。目前,已被国内外30余家权威文摘期刊和重要数据库收录。
本刊先后荣获首届国家期刊奖、第二届国家期刊奖提名奖、第二届全国优秀科技期刊评比一等奖、全国高校自然科学学报系统及教育部优秀科技期刊评比一等奖、湖北省十大名刊等多项荣誉称号。
管单位:教育部
主办单位:华中科技大学
编辑单位:《华中科技大学学报》编辑部
主 编:樊明武
主 任:
地 址:武汉喻家山华中科技大学校内
邮政编码:430074
电 话:
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电子邮件:
国内刊号:42-1658/N
国际刊号:1671-4512
邮发代号:38-9
定 价:6
25、强激光与粒子束(月刊)
本刊主要报道我国激光与粒子束技术领域的基础理论、实验与应用研究的成果和最新进展。
内容涉及高功率激光(含高功率微波)与粒子束的产生、传输及其与物质的相互作。主要学科包括:强激光与粒子束物理,激光器与加速器技术,等离子体物理及惯性约束聚变等。
主管单位:四川省科协
主办单位:中国工程物理研究院 四川核学会
编辑单位:《强激光与粒子束》编辑部
主 编:杜祥琬
主 任:
地 址:四川绵阳919-805信箱
邮政编码:621900
电 话:
传 真:
电子邮件:
国内刊号:51-1311/O4
国际刊号:1001-4322
邮发代号:62-76
定 价:10
26、光学学报(月刊)
本学报是国内外公开发行的光学学术刊物,反映中国光学科技的新概念、新成果、新进展。内容主要包括量子光学、非线性光学、适应光学、纤维光学、激光与物质相互作用、激光器件、全息和信息处理、光学元件和材料等。为我国光学科技人员与国内外同行进行学术交流、开展学术讨论以跟踪学科前沿和发展我国光学事业服务。
主管单位:中国科学技术协会
主办单位:中国光学学会
编辑单位:中国光学学会《光学学报》编辑委员会
主 编:徐至展
主 任:
地 址:上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
邮政编码:201800
电 话:
传 真:
电子邮件:
国内刊号:31-1252/04
国际刊号:0253-2239
邮发代号:4-293
定 价:25
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电子显微镜(简称电镜,EM)经过五十多年的发展已成为现代科学技术中不可缺少的重要工具。我国的电子显微学也有了长足的进展。电子显微镜的创制者鲁斯卡()教授因而获得了1986年诺贝尔奖的物理奖。
电子与物质相互作用会产生透射电子,弹性散射电子,能量损失电子,二次电子,背反射电子,吸收电子,X射线,俄歇电子,阴极发光和电动力等等。电子显微镜就是利用这些信息来对试样进行形貌观察、成分分析和结构测定的。电子显微镜有很多类型,主要有透射电子显微镜(简称透射电镜,TEM)和扫描电子显微镜(简称扫描电镜,SEM)两大类。扫描透射电子显微镜(简称扫描透射电镜,STEM)则兼有两者的性能。为了进一步表征仪器的特点,有以加速电压区分的,如:超高压(1MV)和中等电压(200—500kV)透射电镜、低电压(~1kV)扫描电镜;有以电子枪类型区分的,如场发射枪电镜;有以用途区分的,如高分辨电镜,分析电镜、能量选择电镜、生物电镜、环境电镜、原位电镜、测长CD-扫描电镜;有以激发的信息命名的,如电子探针X射线微区分析仪(简称电子探针,EPMA)等。
半个多世纪以来电子显微学的奋斗目标主要是力求观察更微小的物体结构、更细小的实体、甚至单个原子,并获得有关试样的更多的信息,如标征非晶和微晶,成分分布,晶粒形状和尺寸,晶体的相、晶体的取向、晶界和晶体缺陷等特征,以便对材料的显微结构进行综合分析及标征研究〔3〕。近来,电子显微镜(电子显微学),包括扫描隧道显微镜等,又有了长足的发展。本文仅讨论使用广泛的透射电镜和扫描电镜,并就上列几个方面作一简要介绍。部分透射电镜和扫描电镜的主要性能可参阅文献。
透射电子显微镜
1、高分辨电子显微学及原子像的观察
材料的宏观性能往往与其本身的成分、结构以及晶体缺陷中原子的位置等密切相关。观察试样中单个原子像是科学界长期追求的目标。一个原子的直径约为1千万分之2—3mm。因此,要分辨出每个原子的位置需要0.1nm左右的分辨本领,并把它放大约1千万倍。70年代初形成的高分辨电子显微学(HREM)是在原子尺度上直接观察分析物质微观结构的学科。计算机图像处理的引入使其进一步向超高分辨率和定量化方向发展,同时也开辟了一些崭新的应用领域。例如,英国医学研究委员会分子生物实验室的博士等发展了一套重构物体三维结构的高分辨图像处理技术,为分子生物学开拓了一个崭新的领域。因而获得了1982年诺贝尔奖的化学奖,以表彰他在发展晶体电子显微学及核酸—蛋白质复合体的晶体学结构方面的卓越贡献。
用HREM使单个原子成像的一个严重困难是信号/噪声比太小。电子经过试样后,对成像有贡献的弹性散射电子(不损失能量、只改变运动方向)所占的百分比太低,而非弹性散射电子(既损失能量又改变运动方向)不相干,对成像无贡献且形成亮的背底(亮场),因而非周期结构试样中的单个原子像的反差极小。在档去了未散射的直透电子的暗场像中,由于提高了反差,才能观察到其中的重原子,例如铀和钍—BTCA中的铀(Z=92)和钍(Z=90)原子。对于晶体试样,原子阵列会加强成像信息。采用超高压电子显微镜和中等加速电压的高亮度、高相干度的场发射电子枪透射电镜在特定的离焦条件(Scherzer欠焦)下拍摄的薄晶体高分辨像可以获得直接与晶体原子结构相对应的结构像。再用图像处理技术,例如电子晶体学处理方法,已能从一张200kV的JEM-2010F场发射电镜(点分辨本领0.194nm)拍摄的分辨率约0.2nm的照片上获取超高分辨率结构信息,成功地测定出分辨率约0.1nm的晶体结构。
2.像差校正电子显微镜
电子显微镜的分辨本领由于受到电子透镜球差的限制,人们力图像光学透镜那样来减少或消除球差。但是,早在1936年Scherzer就指出,对于常用的无空间电荷且不随时间变化的旋转对称电子透镜,球差恒为正值。在40年代由于兼顾电子物镜的衍射和球差,电子显微镜的理论分辨本领约为0.5nm。校正电子透镜的主要像差是人们长期追求的目标。经过50多年的努力,1990年Rose提出用六极校正器校正透镜像差得到无像差电子光学系统的方法。最近在CM200ST场发射枪200kV透射电镜上增加了这种六极校正器,研制成世界上第一台像差校正电子显微镜。电镜的高度仅提高了24cm,而并不影响其它性能。分辨本领由0.24nm提高到0.14nm。在这台像差校正电子显微镜上球差系数减少至0.05mm(50μm)时拍摄到了GaAs〈110〉取向的哑铃状结构像,点间距为0.14nm。
3、原子尺度电子全息学
Gabor在1948年当时难以校正电子透镜球差的情况下提出了电子全息的基本原理和方法。论证了如果用电子束制作全息图,记录电子波的振幅和位相,然后用光波进行重现,只要光线光学的像差精确地与电子光学的像差相匹配,就能得到无像差的、分辨率更高的像。由于那时没有相干性很好的电子源,电子全息术的发展相当缓慢。后来,这种光波全息思想应用到激光领域,获得了极大的成功。Gabor也因此而获得了诺贝尔物理奖。随着Mollenstedt静电双棱镜的发明以及点状灯丝,特别是场发射电子枪的发展,电子全息的理论和实验研究也有了很大的进展,在电磁场测量和高分辨电子显微像的重构等方面取得了丰硕的成果〔9〕。Lichte等用电子全息术在CM30
FEG/ST型电子显微镜(球差系数Cs=1.2mm)上以1k×1k的慢扫描CCD相机,获得了0.13nm的分辨本领。目前,使用刚刚安装好的CM30
FEG/UT型电子显微镜(球差系数Cs=0.65mm)和2k×2k的CCD相机,已达到0.1nm的信息极限分辨本领。
4、表面的高分辨电子显微正面成像
如何区分表面和体点阵周期从而得到试样的表面信息是电子显微学界一个长期关心的问题。目前表面的高分辨电子显微正面成像及其图像处理已得到了长足的进展,成功地揭示了Si〔111〕表面(7×7)重构的细节,不仅看到了扫描隧道显微镜STM能够看到的处于表面第一层的吸附原子(adatoms),而且看到了顶部三层的所有原子,包括STM目前还难以看到的处于第三层的二聚物(dimers),说明正面成像法与目前认为最强有力的,在原子水平上直接观察表面结构的STM相比,也有其独到之处。李日升等以Cu〔110〕晶膜表面上观察到了由Cu-O原子链的吸附产生的(2×1)重构为例,采用表面的高分辨电子显微正面成像法,表明对于所有的强周期体系,均存在衬度随厚度呈周期性变化的现象,对一般厚膜也可进行高分辨表面正面像的观测。
5、超高压电子显微镜
近年来,超高压透射电镜的分辨本领有了进一步的提高。JEOL公司制成1250kV的JEM-ARM
1250/1000型超高压原子分辨率电镜,点分辨本领已达0.1nm,可以在原子水平上直接观察厚试样的三维结构。日立公司于1995年制成一台新的3MV超高压透射电镜,分辨本领为0.14nm。超高压电镜分辨本领高、对试样的穿透能力强(1MV时约为100kV的3倍),但价格昂贵,需要专门建造高大的实验室,很难推广。
6、中等电压电子显微镜
中等电压200kV\,300kV电镜的穿透能力分别为100kV的1.6和2.2倍,成本较低、效益/投入比高,因而得到了很大的发展。场发射透射电镜已日益成熟。TEM上常配有锂漂移硅Si(Li)X射线能谱仪(EDS),有的还配有电子能量选择成像谱仪,可以分析试样的化学成分和结构。原来的高分辨和分析型两类电镜也有合并的趋势:用计算机控制甚至完全通过计算机软件操作,采用球差系数更小的物镜和场发射电子枪,既可以获得高分辨像又可进行纳米尺度的微区化学成分和结构分析,发展成多功能高分辨分析电镜。JEOL的200kV
JEM-2010F和300kV JEM-3000F,日立公司的200kV HF-2000以及荷兰飞利浦公司的200kV CM200 FEG和300kV CM300 FEG型都属于这种产品。目前,国际上常规200kVTEM的点分辨本领为0.2nm左右,放大倍数约为50倍—150万倍。
7、120kV\,100kV分析电子显微镜
生物、医学以及农业、药物和食品工业等领域往往要求把电镜和光学显微镜得到的信息联系起来。因此,一种在获得高分辨像的同时还可以得到大视场高反差的低倍显微像、操作方便、结构紧凑,装有EDS的计算机控制分析电镜也就应运而生。例如,飞利浦公司的CM120
Biotwin电镜配有冷冻试样台和EDS,可以观察分析反差低以及对电子束敏感的生物试样。日本的JEM-1200电镜在中、低放大倍数时都具有良好的反差,适用于材料科学和生命科学研究。目前,这种多用途120kV透射电镜的点分辨本领达0.35nm左右。
8、场发射枪扫描透射电子显微镜
场发射扫描透射电镜STEM是由美国芝加哥大学的教授在70年代初期发展起来的。试样后方的两个探测器分别逐点接收未散射的透射电子和全部散射电子。弹性和非弹性散射电子信息都随原子序数而变。环状探测器接收散射角大的弹性散射电子。重原子的弹性散射电子多,如果入射电子束直径小于0.5nm,且试样足够薄,便可得到单个原子像。实际上STEM也已看到了γ-alumina支持膜上的单个Pt和Rh原子。透射电子通过环状探测器中心的小孔,由中心探测器接收,再用能量分析器测出其损失的特征能量,便可进行成分分析。为此,Crewe发展了亮度比一般电子枪高约5个量级的场发射电子枪FEG:曲率半径仅为100nm左右的钨单晶针尖在电场强度高达100MV/cm的作用下,在室温时即可产生场发射电子,把电子束聚焦到0.2—1.0nm而仍有足够大的亮度。英国VG公司在80年代开始生产这种STEM。最近在VGHB5 FEGSTEM上增加了一个电磁四极—八极球差校正器,球差系数由原来的3.5mm减少到0.1mm以下。进一步排除各种不稳定因素后,可望把100kV STEM的暗场像的分辨本领提高到0.1nm。利用加速电压为300kV的VG-HB603U型获得了Cu〈112〉的电子显微像:0.208nm的基本间距和0.127nm的晶格像。期望物镜球差系数减少到0.7mm的400kV仪器能达到更高的分辨本领。这种UHV-STEM仪器相当复杂,难以推广。
9、能量选择电子显微镜
能量选择电镜EF-TEM是一个新的发展方向。在一般透射电镜中,弹性散射电子形成显微像或衍射花样;非弹性散射电子则往往被忽略,而近来已用作电子能量损失谱分析。德国Zeiss-Opton公司在80年代末生产的EM902A型生物电镜,在成像系统中配有电子能量谱仪,选取损失了一定特征能量的电子来成像。其主要优点是:可观察0.5μm的厚试样,对未经染色的生物试样也能看到高反差的显微像,还能获得元素分布像等。目前Leica与Zeiss合并后的LEO公司的EM912 Omega电镜装有Ω-电子能量过滤器,可以滤去形成背底的非弹性散射电子和不需要的其它电子,得到具有一定能量的电子信息,进行能量过滤会聚束衍射和成像,清晰地显示出原来被掩盖的微弱显微和衍射电子花样。该公司在此基础上又发展了200kV的全自动能量选择TEM。JEOL公司也发展了带Ω-电子能量过滤器的JEM2010FEF型电子显微镜,点分辨本领为0.19nm,能量分辨率在100kV和200kV时分别为2.1μm/eV和1.1μm/eV。日立公司也报道了用EF-1000型γ形电子能量谱成像系统,在TEM中观察到了半导体动态随机存取存储器DRAM中厚0.5μm切片的清晰剖面显微像。
美国GATAN公司的电子能量选择成像系统装在投影镜后方,可对电子能量损失谱EELS选择成像。可在几秒钟内实现在线的数据读出、处理、输出、及时了解图像的质量,据此自动调节有关参数,完成自动合轴、自动校正像散和自动聚焦等工作。例如,在400kV的JEM-4000EX电镜上用PEELS得到能量选择原子像,并同时完成EELS化学分析。
透射电镜经过了半个多世纪的发展已接近或达到了由透镜球差和衍射差所决定的0.1—0.2nm的理论分辨本领。人们正在探索进一步消除透镜的各种像差〔20〕,在电子枪后方再增加一个电子单色器,研究新的像差校正法,进一步提高电磁透镜和整个仪器的稳定性;采用并进一步发展高亮度电子源场发射电子枪,X射线谱仪和电子能量选择成像谱仪,慢扫描电荷耦合器件CCD,冷冻低温和环境试样室,纳米量级的会聚束微衍射,原位实时分析,锥状扫描晶体学成像(Conical Scan Crystallography),全数字控制,图像处理与现代信息传送技术实现远距离操作观察,以及克服试样本身带来的各种限制,透射电镜正面临着一个新的重大突破。
扫描电子显微镜
1、分析扫描电镜和X射线能谱仪
目前,使用最广的常规钨丝阴极扫描电镜的分辨本领已达3.5nm左右,加速电压范围为0.2—30kV。扫描电镜配备X射线能谱仪EDS后发展成分析扫描电镜,不仅比X射线波谱仪WDS分析速度快、灵敏度高、也可进行定性和无标样定量分析。EDS发展十分迅速,已成为仪器的一个重要组成部分,甚至与其融为一体。但是,EDS也存在不足之处,如能量分辨率低,一般为129—155eV,以及Si(Li)晶体需在低温下使用(液氮冷却)等。X射线波谱仪分辨率则高得多,通常为5—10eV,且可在室温下工作。1972年起EDAX公司发展了一种ECON系列无窗口探测器,可满足分析超轻元素时的一些特殊需求,但Si(Li)晶体易受污染。1987年Kevex公司开发了能承受一个大气压力差的ATW超薄窗,避免了上述缺点,可以探测到B,C,N,O等超轻元素,为大量应用创造了条件。目前,美国Kevex公司的Quantifier,Noran公司的Extreme,Link公司的Ultracool,EDAX公司的Sapphire等Si(Li)探测器都属于这种单窗口超轻元素探测器,分辨率为129eV,133eV等,探测范围扩展到了5B—92U。为克服传统Si(Li)探测器需使用液氮冷却带来的不便,1989年Kevex公司推出了可不用液氮的Superdry探测器,Noran公司也生产了用温差电制冷的Freedom探测器(配有小型冷却循环水机),和压缩机制冷的Cryocooled探测器。这两种探测器必须昼夜24小时通电,适合于无液氮供应的单位。现在使用的大多还是改进的液氮冷却Si(Li)探测器,只需在实际工作时加入液氮冷却,平时不必维持液氮的供给。最近发展起来的高纯锗Ge探测器,不仅提高了分辨率,而且扩大了探测的能量范围(从25keV扩展到100keV),特别适用于透射电镜:如Link的GEM型的分辨率已优于115eV(MnKα)和65eV(FKα),Noran的Explorer
Ge探测器,探测范围可达100keV等。1995年中国科学院上海原子核研究所研制成了Si(Li)探测器,能量分辨率为152eV。中国科学院北京科学仪器研制中心也生产了X射线能谱分析系统Finder-1000,硬件借鉴Noran公司的功能电路,配以该公司的探测器,采用Windows操作系统,开发了自己的图形化能谱分析系统程序。
2、X射线波谱仪和电子探针仪
现代SEM大多配置了EDS探测器以进行成分分析。当需低含量、精确定量以及超轻元素分析时,则可再增加1到4道X射线波谱仪WDS。Microspec公司的全聚焦WDX-400,WDX-600型分别配有4块和6块不同的衍射晶体,能检测到5B(4Be)以上的各种元素。该谱仪可以倾斜方式装在扫描电镜试样室上,以便对水平放置的试样进行分析,而不必如垂直谱仪那样需用光学显微镜来精确调整试样离物镜的工作距离。
为满足大量多元素试样的超轻元素,低含量,高速定性、定量常规分析的需求,法国Cameca公司长期生产电子探针仪,SX50和SXmacro型配备4道WDS及1道EDS,物镜内装有同轴光学显微镜可以随时观察分析区域。岛津公司最近生产的计算机控制EPMA-1600型电子探针,可配置2—5道WDS和1道EDS,试样最大尺寸为100mm×100mm×50mm(厚),二次电子图像分辨率为6nm。JEOL公司也生产了计算机控制的JXA-8800电子探针和JXA-8900系列WD/ED综合显微分析系统—超电子探针,可装5道X射线光谱仪和1道X射线能谱仪,元素分析范围为5B—92U,二次电子图像分辨率为6nm。
Noran公司下属的Peak公司最近发展了一种崭新的APeX全参数X射线光谱仪,与传统的机械联动机构完全不同,由计算机控制6个独立的伺服马达分别调节分光晶体的位置和倾角以及X射线探测器的X、Y坐标和狭缝宽度。配有4块标准的分光晶体可分析5B(4Be)以上的元素。罗兰圆半径随分析元素而变,可分别为170,180,190和200mm,以获得最高的计数率,提高了分析精度和灵活性。Noran公司还推出了称为MAXray的X射线平行束光谱仪,将最新的X光学研究成果——准平行束整体X光透镜置于试样上的X射线发射点和分析晶体之间,提高了接收X射线的立体角,比一般WDS的强度提高了50倍左右。可分析100eV—1.8keV能量范围内的K、L、M线,特别有利于低电压、低束流分析,对Be、B、C、N、O和F的分辨率可高达5—15eV,兼有WDS的高分辨率和EDS的高收集效率。这两种新型X射线光谱仪可望得到广泛的应用。
3、场发射枪扫描电镜和低压扫描电镜
场发射扫描电镜得到了很大的发展〔24〕。日立公司推出了冷场发射枪扫描电镜,Amray公司则生产热场发射枪扫描电镜,不仅提高了常规加速电压时的分辨本领,还显著改善了低压性能。低压扫描电镜LVSEM由于可以提高成像的反差,减少甚至消除试样的充放电现象并减少辐照损伤,因此受到了人们的嘱目。JEOL公司的JSM-6000F型场发射超高分辨SEM的分辨本领在加速电压30kV时达0.6nm,已接近TEM的水平,但试样必须浸没入物镜的强磁场中以减少球差的影响,所以尺寸受到限制,最大为23mm×6mm×3mm(厚)。试样半浸没在物镜磁场中的场发射JSM-6340F型可以观察大试样,加速电压15kV时分辨本领为1.2nm,低压1kV时为2.5nm。这两种SEM由于试样要处在磁场中所以不能观察磁性材料。使用CF校正场小型物镜可观察大试样的场发射JSM-6600F型分辨本领为2.5nm(1kV时为8nm)。日立公司也供应这几类产品如S-5000,S-4500和S-4700型。
4、超大试样室扫描电镜
德国Visitec捷高公司的超大试样室Mira型扫描电镜。被检物的最大尺寸可为直径700mm,高600mm,长1400mm,最大重量可达300公斤,真空室长1400,宽1100和高1200mm。分辨本领4nm,加速电压0.3kV—20kV。是一种新的计算机控制、非破坏性的检查分析测试装置,可用于工业产品的生产,质量管理,微机加工和工艺品的检查研究等。
5、环境扫描电镜
80年代出现的环境扫描电镜ESEM,根据需要试样可处于压力为1—2600Pa不同气氛的高气压低真空环境中,开辟了新的应用领域。与试样室内为10-3Pa的常规高真空SEM不同,所以也可称为低真空扫描电镜LV-SEM。在这种低真空环境中,绝缘试样即使在高加速电压下也不会因出现充、放电现象而无法观察;潮湿的试样则可保持其原来的含水自然状态而不产生形变。因此,ESEM可直接观察塑料、陶瓷、纸张、岩石、泥土,以及疏松而会排放气体的材料和含水的生物试样,无需先喷涂导电层或冷冻干燥处理。1990年美国Electro
Scan公司首先推出了商品ESEM。为了保证试样室内的高气压低真空环境,LV-SEM的真空系统须予以特殊考虑。目前,Amray,Hitachi,JEOL和LEO等公司都有这种产品。试样室为6—270Pa时,JSM—5600LV—SEM的分辨本领已达5.0nm,自动切换到高真空状态后便如常规扫描电镜一样,分辨本领达3.5nm。中国科学院北京科学仪器研制中心与化工冶金研究所合作,发展KYKY-1500高温环境扫描电子显微镜,试样最高温度可达1200℃,最高气压为2600Pa;800℃时分辨率为60nm,观察了室温下的湿玉米淀粉颗粒断面、食盐的结晶粒子,以及在50Pa,900℃时铁矿中的针形Fe\-2O\-3等试样。
6、扫描电声显微镜
80年代初问世的扫描电声显微镜SEAM,采用了一种新的成像方式:其强度受频闪调制的电子束在试样表面扫描,用压电传感器接收试样热、弹性微观性质变化的电声信号,经视频放大后成像。能对试样的亚表面实现非破坏性的剖面成像。可应用于半导体、金属和陶瓷材料,电子器件及生物学等领域。中国科学院北京科学仪器研制中心也发展了这种扫描电声显微镜,空间分辨本领为0.2—0.3μm。最近,中国科学院上海硅酸盐研究所采用数字扫描发生器控制电子束扫描等技术,提高了信噪比,使SEAM的图像质量得到了很大的改进。
7、测长/缺陷检测扫描电镜
SEM不但在科学研究而且在工农业生产中得到了广泛的应用,特别是电子计算机产业的兴起使其得到了很大的发展。目前半导体超大规模集成电路每条线的制造宽度正由0.25μm向0.18μm迈进。作为半导体集成电路生产线上Si片的常规检测工具,美国Amray公司推出了一种缺陷检测3800型DRT扫描电镜,采用了加热到1800K的ZrO/W阴极肖脱基热场发射电子枪,具有良好的低加速电压性能:1kV时分辨本领达4nm,而且电子束流的稳定度优于1%/h、可长期连续工作,对直径为100,125,150,200mm的Si片,每小时可检测100个缺陷。日立公司为了克服以往在室温下工作的冷场发射枪测长扫描电镜(CD-SEM)因需要进行闪烁处理以去除发射尖上所吸附的气体分子而经常中断工作、影响在生产线上应用的缺点,最近也推出了这种ZrO/W阴极热场发射电子枪的S-8000系列CD-SEM。为了克服热场发射比冷场发射枪电子能量分散大的缺点,设计了阻滞场电磁物镜,并改进了二次电子探测器,在加速电压为800V时分辨本领为5nm,可以每小时20片,每片5个检测点的速度连续检测125—200mm直径的Si〔1,28〕。
8、晶体学取向成像扫描电子显微术
SEM的另一个新发展方向是以背散射电子衍射图样(EBSP)为基础的晶体学取向成像电子显微术(OIM)。在SEM上增加一个可将试样倾动约70度的装置,CCD探测器和数据处理计算机系统,扫描并接收记录块状试样表面的背散射电子衍射花样(背散射菊池花样),按试样各部分不同的晶体取向分类成像来获得有关晶体结构的信息,可显示晶粒组织、晶界和裂纹等,也可用于测定织构和晶体取向。可望发展成SEM的一个标准附件。1996年美国TSL(TexSemLaboratories,Inc.)公司推出了TSL
OIM系统,空间分辨本领已优于0.2μm,比原理相似的电子通道图样(ECP)提高了一个量级,在0.4秒钟内即能完成一张衍射图样的自动定标工作。英国牛津集团显微分析仪器Link-OPAL公司的EBSD结晶学分析系统,目前已用于Si片上Al连线的取向分析,以判断其质量的优劣及可行性。
9、计算机控制扫描电镜
90年代初,飞利浦公司推出了XL系列扫描电镜。在保持重要功能的同时,减少了操作的复杂性。仪器完全由计算机软件控制操作。许多参量(焦距、像散校正和试样台移动速度等)和调节灵敏度都会根据显微镜的工作状态作自适应变化和耦合,可迅速而准确地改变电镜的主要参数。EDS完全与XL系统实现了一体化。该公司1995年生产了XL40
FEG等场发射扫描电镜。日立,JEOL等也先后推出了计算机控制的扫描电镜。
场发射扫描电镜的分辨本领最高已达到0.6nm,接近了透射电镜的水平,并得到了广泛的应用,但尚不能分辨原子。如何进一步提高扫描电镜的图像质量和分辨本领是人们十分关注的问题。Joy DC指出:由于分辨本领受到试样表面二次电子SE扩散区大小的基本限制,采取适当措施如喷镀一超薄金属层或布洛赫波隧穿效应(Bloch Wave Channeling)等来限制SE扩散区的尺寸,二次电子分辨本领可望达到0.2—0.3nm,并进而观察原子像。现代SEM电子束探针的半高宽FWHM已达0.3nm,场发射电子枪也已具有足够高的亮度。因此在电子光学方面目前并不构成对SE分辨本领的基本限制。然而,对SEM的机械设计如试样台的漂移和震动等尚未给予足够的、如对扫描隧道显微镜那样的重视、二次电子探测器的信噪比和反差还不够理想,也影响了分辨本领。此外,SE分辨本领的定义和测定方法,SEM图像处理等也不如透射电子显微镜那么严格和完善。这些问题的解决必将进一步提高SEM的图像质量和分辨本领。
参考文献
〔1〕 金鹤鸣,姜新力,姚骏恩.中国电子显微分析仪器市场.见:分析仪器市场调查与分析.北京:海洋出版社,1998.第四章.p113—152.(待出版).
〔2〕 姚骏恩.创造探索微观世界的有力工具(今年诺贝尔奖物理学奖获得者的贡献).中国科技报,1986-12-08(3).
〔3〕 姚骏恩.电子显微镜的最近进展.电子显微学报,1982,1(1)∶1—9.
〔4〕 郭可信.晶体电子显微学与诺贝尔奖.电子显微学报,1983,2(2)∶1—5.
挖空样细胞是什么意思
挖空细胞 挖空细胞是由鳞状细胞的“底层细胞”(幼稚细胞或储备细胞)在受到HPV所致的损害后,加速受损细胞的成熟化而形成的表层鳞状细胞:其受损主要为非典型增生、非典型角化和挖空细胞,是细胞学诊断低度病变(CIN2或轻度非典型增生)的重要指标.常见于尖锐湿疣. 挖空细胞是由鳞状细胞的“底层细胞”(幼稚细胞或储备细胞)在受到HPV所致的损害后,加速受损细胞的成熟化而形成的表层鳞状细胞:其受损主要为非典型增生、非典型角化和挖空细胞,是细胞学诊断低度病变(CIN2或轻度非典型增生)的重要指标.常见于尖锐湿疣. ”挖空细胞”;在学术文献中的解释 1、病理检查见鳞状上皮乳头状增生,上部棘层细胞增大,核大深染,见双核或多核,核周有空化区,称为挖空细胞.免疫组织化学检查用亲和素生物素复合物法检测挖空细胞内HPV抗原呈暗黄色或金黄颗粒,阳性率为50%,少数见HPV病毒颗粒,感染性强研究;”挖空细胞”;相关问题的主要学者 李青 吴玉萍 张颖 彭杰 黄宗明 余俐 刘静 罗杰 李挺 杨守京 出版;”挖空细胞”;相关文献的期刊 赣南医学院学报 贵州医药 诊断病理学杂志 白求恩医科大学学 承德医学院学报 中国皮肤性病学杂 电子显微学报 癌变畸变突变 广西医学 广州医学院学报
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