hcl论文格式

hcl论文格式

hci论文是什么意思
SCI：科学引文索引（Science Citation Index
论文是一个汉语词语，拼音是lùn wén，古典文学常见论文一词，谓交谈辞章或交流思想。
当代，论文常用来指进行各个学术领域的研究和描述学术研究成果的文章，简称之为论文。它既是探讨问题进行学术研究的一种手段，又是描述学术研究成果进行学术交流的一种工具。它包括学年论文、毕业论文、学位论文、科技论文、成果论文等。
2020年12月24日，《本科毕业论文（设计）抽检办法（试行）》提出，本科毕业论文抽检每年进行一次，抽检比例原则上应不低于2% [1] 。

毕业论文的文献格式问题，如图中的是一篇英文文献，怎么列出来

英文参考文献著录格式为:
作者名(
姓名全称在前，名字的缩写在后，全部大写)
．
题名［J］．
期刊名，年，卷(
期)
:起页－止页．
参考下例:
［1］SINGH
S，POH
C
L，CHOW
V
T．
Complete
sequence
analyses
of
enterovirus
71
stains
from
fatal
and
non-fatal
cases
of
the
hand，foot
and
mouth
disease
outbreak
in
Singapore(
2000)
［J］．
Microbiol
Immunol，2002，46:
801
－
808．
你可以到我的论坛，期刊云去看看，里面有更多关于文献格式方面的东西。希望能帮到你

最近写毕业论文没有什么好的头绪，那个网站能参考一下呢，推荐比较靠谱的。

推荐一个比较靠谱的网站供您参考 上面有几十万论文，从论文格式、开题报告、论文检测到论文发表有很多参考，上去看看吧绝对不后悔，不用感谢我，我叫雷锋。

谁给我写篇毕业论文。我给他200分。绝不骗人。急求啊。我邮箱1726601049@

go athena

#
line x loc=0.0 spac=0.1
line x loc=0.2 spac=0.006
line x loc=0.4 spac=0.006
line x loc=0.6 spac=0.01
#
line y loc=0.0 spac=0.002
line y loc=0.2 spac=0.005
line y loc=0.5 spac=0.05
line y loc=0.8 spac=0.15
#
init orientation=100 =1e14 =2

#pwell formation including masking off of the nwell
#
diffus time=30 temp=1000 dryo2 press=1.00 hcl=3
#
etch oxide thick=0.02
#
#P-well Implant
#
implant boron dose=8e12 energy=100 pears

#
diffus temp=950 time=100 weto2 hcl=3
#
#N-well implant not shown -
#
# welldrive starts here
diffus time=50 temp=1000 =4.000 dryo2 press=0.10 hcl=3
#
diffus time=220 temp=1200 nitro press=1
#
diffus time=90 temp=1200 =-4.444 nitro press=1
#
etch oxide all
#
#sacrificial "cleaning" oxide
diffus time=20 temp=1000 dryo2 press=1 hcl=3
#
etch oxide all
#
#gate oxide grown here:-
diffus time=11 temp=925 dryo2 press=1.00 hcl=3
#
# Extract a design parameter
extract name="gateox" thickness oxide =1 =0.05

#
#vt adjust implant
implant boron dose=9.5e11 energy=10 pearson

#
depo poly thick=0.2 divi=10
#
#from now on the situation is 2-D
#
etch poly left p1.x=0.35
#
method fermi compress
diffuse time=3 temp=900 weto2 press=1.0
#
implant phosphor dose=3.0e13 energy=20 pearson
#
depo oxide thick=0.120 divisions=8
#
etch oxide dry thick=0.120
#
implant arsenic dose=5.0e15 energy=50 pearson
#
method fermi compress
diffuse time=1 temp=900 nitro press=1.0
#

# pattern s/d contact metal
etch oxide left p1.x=0.2
deposit alumin thick=0.03 divi=2
etch alumin right p1.x=0.18

# Extract design parameters

# extract final S/D Xj
extract name="nxj" xj silicon =1 =0.1 =1

# extract the N++ regions sheet resistance
extract name="n++ sheet rho" material="Silicon" =1 =0.05 =1

# extract the sheet rho under the spacer, of the LDD region
extract name="ldd sheet rho" material="Silicon" \
=1 =0.3 =1

# extract the surface conc under the channel.
extract name="chan surf conc" impurity="Net Doping" \
material="Silicon" =1 =0.45

# extract a curve of conductance versus bias.
extract start material="Polysilicon" =1 \
bias=0.0 =0.2 =2 =0.45
extract done name="sheet cond v bias" \
curve(bias,t material="Silicon" =1 =1)\
outfile=""

# extract the long chan Vt
extract name="n1dvt" 1dvt ntype vb=0.0 qss=1e10 =0.49

structure mirror right

electrode name=gate x=0.5 y=0.1
electrode name=source x=0.1
electrode name=drain x=1.1
electrode name=substrate backside

structure outfile=

# plot the structure
tonyplot -set

############# Vt Test : Returns Vt, Beta and Theta ################
go atlas

# set material models
models cvt srh print

contact name=gate
interface qf=3e10

method newton
solve init

# Bias the drain
solve vdrain=0.1

# Ramp the gate
log outf= master
solve vgate=0 vstep=0.25 vfinal=3.0 name=gate
save outf=

# plot results
tonyplot -set

# extract device parameters
extract name="nvt" (xintercept(maxslope(curve(abs(v."gate"),abs(i."drain")))) \
- abs(ave(v."drain"))/2.0)
extract name="nbeta" slope(maxslope(curve(abs(v."gate"),abs(i."drain")))) \
* (1.0/abs(ave(v."drain")))
extract name="ntheta" ((max(abs(v."drain")) * $"nbeta")/max(abs(i."drain"))) \
- (1.0 / (max(abs(v."gate")) - ($"nvt")))

quit

$mathrm{HCl}$;氢气(${mathrm{H}}_{2}$)是什么意思?

这个是latex中的书写方式，latex是论文编写程序，和word差不多。
$\mathrm{HCL}$是化学模式下输出的氯化氢，区别于直接输入HCL。
$\mathrm{H}_{2}$氢气也是这样的。
这两个都应该加一个到斜杠的。