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赫尔槽试验是现代电镀新工艺试验，新助剂开发及改进，镀液工艺维护等过程中最基本、最便捷的手段之一，不可或缺。1分析化验与小槽试验小烧杯试验用液不多，但用试片试验时，只能反映某一特定电流密度下的情况，难…
2.3复合添加剂对赫尔槽实验光亮区域的影响分别添加体积分数为8mL/L，14mL/L，20mL/L的复合添加剂至基础镀液中进行赫尔槽实验。由实验结果可知：随着添加剂的体积分数的增加，远端半光亮区域不断减少，近端析氢严重使镀层成条带状，复合添加剂的体积分数为14mL/L时，条带状区域最…
（1）通过赫尔槽实验和方槽直接电解实验研究了HEDP溶液镀铜的镀液采用不同主盐时对镀铜工艺过程和镀层质量性能的影响。HEDP溶液镀铜的镀液采用具有不同阴离子的主盐时，主要是不同阴离子对电镀工艺过程和镀层质量性能的影响方式和影响程度不同。
复合电镀技术发展至今已有近百年历史，最早可追溯至20世纪20年代末美国科学家开展的铜-石墨复合电镀技术研究[3]，该技术主要应用于汽车轴承以提高其机械性能。20世纪60至70年代，复合电镀技术发展取得了显著的进步。尤
赫尔槽试验的局限性也是有的,并非万能。例如（1）难以直接判定合金电镀时镀层合金的比例。仿金镀有经验时,尚可由镀层色泽大致判定合金比例,并寻求接近金色的阴极电流密度范围。但对于锌一镍、锌一铁、镍一铁等合金,则只能依靠分析化验了。（2）难以
实施赫尔槽实验，选择的赫尔槽标准为250.0mL，要求在1A电流条件下实施电镀，电镀时长10.0min[3]。对镀液深镀能力、分散能力进行测，应选择内孔法与远近阴极法。在对镀液循环伏安曲线与阴极极化曲线进行测量时，主要是选择CHI760C型号的电
珍珠镍电镀工艺及其性能.docx,珍珠镍电镀工艺及其性能核心提示：在瓦特镍镀液中加入添加剂后获得较稳定的悬浊液，利用这种镀液制得珠光效果良好的珍珠镍镀层。考察了添加剂用量、镀液温度与pH、电流密度等工艺条件对珍珠镍镀层外观的影响，并对珍珠镍镀层的耐蚀性进行了研究。
提供镍电沉积及镀层的结构与性能的测试word文档在线阅读与免费下载，摘要:（一）电沉积工艺条件—Hull槽试验一、实验目的1．熟悉Hull槽试验的基本原理、实验操作和结果分析。2．试验并了解添加剂糖精、苯亚磺酸钠、镍光亮剂XNF和十二烷基硫酸钠对电沉积光亮镍的影响。
•190507-基于赫尔槽试验原理的深孔零件镀层质量•190506-调制比对磁控溅射Ti/TiN多层膜组织结构•190505-pH对化学复合镀镍–磷–聚四氟乙烯性能•190504-热处理对镍–磷–金刚石复合镀层组织及•190503-磺酸体系电镀哑光锡用嵌段聚醚类添
Ni-Al2O3复合材料具有高硬度、良好的化学稳定性、成本低廉等优点,是耐磨耐蚀防护涂层的首选材料。本研究分别采用电镀和喷涂Ni-Al2O3复合涂层,研究了原料对涂层的形成和结构的影响。采用瓦特镀液为基础,向镀液中添加不同类型的分散剂进行Ni-Al2O3复合涂