硕士学位论文论文题目金属催化化学刻蚀多晶黑硅材料及其太阳电池的研究生姓名高效硅太阳电池论文提交日期2013金属催化化学刻蚀多晶黑硅材料及其太阳电池的中文摘要金属催化化学刻蚀多晶黑硅材料及其太阳电池的中文摘要黑硅是一种具有纳米陷光结构的新型半导体光电材料。
收稿日期1999-07-12硅片清洗原理与方法综述刘传军赵权刘春香杨洪星电子四十六所,天津300220摘要对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述,同时对一些常用的清洗方案进行了浅析,并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述。
干法黑硅与湿法黑硅的差别：干法黑硅属于单面，湿法为两面；前者受设备参数影响较大，后者受硅片质量及工艺条件影响较大。黑硅技术可以将制绒后反射率做的很低，但是需要平衡载流子复合及钝化才能能实现效率的有效提升。
干法是采用干燥的白炭黑与改性剂（有机物）蒸汽在固定反应器或流化床反应器中高温条件下接触反应，目前世界发达国家的气相法白炭黑的表面改性工艺均采用干法，其典型工艺流程如下f271。
PIII黑硅机等离子体主要包含SF被注入进入Si基体中，SFSi发生反应生成气态的SiFSi中逸出，从而产生刻蚀效果。同时，O*活性基团可以与SiF氧化层，对Si产生钝化作用，在刻蚀和钝化双重作用成了黑硅的多孔结构。
图题是杭州西湖美景。欢迎来杭州考察交流，共同探讨钙钛矿光电技术。这次内容主要是总结一下干法钙钛矿薄膜工艺，主要参考如下6篇论文，分为01和02两篇专栏文章发表。1.Efficientplanarheterojunctionpe…
干法刻蚀(dryetching)是一个通称术语，是指以气体为主要媒体的刻蚀技术，晶圆不需要液体化学品或冲洗。晶圆在干燥的状态进出系统。。干法刻蚀是亚微米尺寸下刻蚀器件的主要方法。而湿法腐蚀是使用液体刻蚀剂(如酸，碱和溶剂等)沉浸的技术。
1945年，二战结束后，贝尔实验室里的物理学家肖克利打算用硅制造一种代替电子管的放大器。.在当时，所有的工程师都不得不用电子管，但都无比讨厌电子管，因为电子管的玻璃壳又长又脆，体积庞大，还容易过热。.史上最牛的实验室：贝尔实验室。.肖克利...
干法电极是公司核心技术。干法电极技术是公司储备的核心技术，根据公开的论文及专利，公司干法电极技术可从超级电容领域拓展到锂电池等其他电池领域。Maxwell近几年业绩有所下降。
目前商品化的活性炭超级电容器能量密度一般在7-8Wh/kg，这是指的是包含所有部件的整个超级电容器的器件能量密度。而教授们提到的突破一般是指材料的能量密度，所以实际中的石墨烯超电远没有论文中提到的那么好。
干法黑硅与湿法黑硅的差别:干法黑硅属于单面,湿法为两面;前者受设备参数影响较大,后者受硅片质量及工艺条件影响较大。湿法黑硅量产的代表为阿特斯,干法...
湿法黑硅与干法黑硅的优缺点-Solarbe索比太阳能光伏网是全国最大的光伏太阳能产业网站,为广大用户提供最新最全面的湿法黑硅与干法黑硅的优缺点光伏行业信息报道
本文采用在传统金字塔结构硅衬底上利用两步法刻蚀纳米线阵列的方法双减反射层黑硅,利用SEM测试观察到黑硅表面整齐排列的金字塔结构及竖直的纳米线阵列。研...
因此,器件的传输性能得到了提升。另一方面,由于快速退火较高的升温和降温速率,退火处理释放材料的张应力、减少了悬挂键密度。最后本论文还简略探索了干法刻蚀黑硅的方法,并...
最后本论文还简略探索了干法刻蚀黑硅的方法,并简单分析了干法刻蚀黑硅的形貌特征。关键词:黑硅,湿法腐蚀,MSM结构,势垒层,光电性能万方数据ABSTRACTIIA...
沈毅(51)Int.CIC23F4/00;H01L31/18;权利要求说明书说明书幅图(54)发明名称用等离子激发形成太阳能干法制绒黑硅的方法(57)摘要本发明涉及一种形成黑硅...
Ivanova教授等人,用深反应离子刻蚀方法了一系列不同纳米尺度参数(纳米微柱阵列的高度和密度)的黑硅表面,研究了这些参数的差异对表面的抗菌性能的影响及其机制。研究结果表明,...
本发明属于电池片生产技术领域,具体涉及一种干法黑硅电池的方法.相较传统干法黑硅电池的方法,本发明通过调整RIE的工艺参数,以控制黑硅纳米绒面宽度和深度,降低黑硅表...
摘要:本实用新型公开了自清洁式干法黑硅太阳能电池片。包括电池片本体,电池片本体侧边设置空心壳体,空心壳体面向电池片本体的侧壁开设开口,空心壳体背向电池片...
本文亮点1用深反应离子刻蚀方法成功了三种类型的黑硅（bSi）表面，表面的柱状尺寸范围为高：652.7–1063.2nm；密度：8–11tipsper/µm2。2当表面微柱阵列高度较高（>1000...