作者朱伟忠学位类别博士答辩日期2005-05-22授予单位中国科学院上海应用物理研究所授予地点上海应用物理研究所导师徐洪杰关键词软X射线金属型透射光栅严格耦合波方法电子束光刻衍射效率软X射线干涉光刻其他题名
X射线光刻及其在微电子技术中的应用前景.刘泽文.【摘要】：本文介绍了X射线光刻(XRL)技术的原理和特点,分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。.摩尔定律预测,半导体工业在2007年将使用线宽为0.1μm的光刻技术。.采用波长为1nm左右的X射线进行接近式...
X射线光刻及其在微电子技术中的应用前景.刘泽文.【摘要】：本文介绍了X射线光刻(XRL)技术的原理和特点,分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。.摩尔定律预测,半导体工业在2007年将使用线宽为0.1μm的光刻技术。.采用波长为1nm左右的X射线进行接近式...
光刻技术的现状与进展毕业论文（资料）毕业,光刻,及,毕业论文,光刻及,论文论文,光刻技术的,设计论文,光刻技术,论文资料所属院系电子工程系实习单位工作部门（工种）实习起讫时间带教老师职称/职务联系教师职称/职务指导教师职称/职务一、毕业实习慨况1、对实习过程的回顾不知不觉...
华中科技大学硕士学位论文极紫外线光刻技术（使用波长10—70r1In的紫外光）和X射线光刻技术（使用波长O．1—10nm的X光）也有其难处，如：常规的透镜不能透过极端紫外光，也不能使x光聚焦；高能辐射也会迅速破坏掩模和透镜种的许多
X射线复合折射透镜的设计与制作.黄承超.【摘要】：近年来，由于复合折射透镜具有独特的光学性能，已成为X射线光学领域内的一个重要研究方向，其研究成果广泛应用于第三代同步辐射光源中。.在过去十年里，复合折射透镜走过了从无到有，从单一到...
光刻技术经历了接触式光刻、接近式光刻、分步重复式等倍投影光刻、步进式缩小投影光刻、步进扫描式投影光刻等典型光刻技术过程，极紫外光刻、X射线光刻正处于研究和使用阶段。下一代光刻技术如纳米压印光刻、原子力光刻等尚处于前沿研究中。
本论文采用了基于紫外光刻工艺的准LIGA技术开展了X射线吸收光栅的制作工艺研究,论文主要工作和成果如下:1、为了制作大尺寸大高宽比光刻胶光栅结构,分别对紫外光刻工艺中的曝光工艺与显影工艺进行了参数优化。.研究了曝光剂量对光栅线宽的影响,并通过...
X射线的波长更短，因此获得的图形的分辨率有可能更高。目前X射线光刻被认为是100nm线条以下半导体器件制造的主要工具。X射线光刻的主要优点【18】是它的景深容易控制且视场大，X射线对光刻工艺中的尘埃不敏感，所以成品率比较高。由于
重庆大学硕士学位论文用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究姓名：王强申请学位级别：硕士专业：光学工程指导教师：张流强20070420重庆大学硕士学位论文中文摘要摘要光学光刻技术一直是微技术的主流技术之一，是近来世界各国研究的重点。
光刻方面,我们利用X射线光刻的自身优点,进行了O.1微米级PHEMTT型栅的光刻技术研究。用x射线光刻制作O.1微米级PHEMTT型栅就是本论文的主要内容。天津大学硕...
【摘要】:采用侧墙工艺技术研制深亚微米x射线掩模,并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射x射线曝光实验,初步获得了深亚微米光刻图形【作者单位】:中国科学院微电子...
上海大学硕士学位论文摘要x射线光刻掩模技术(Ⅺ也)被认为是实现32rim技术节点的下一代光刻技术(NGL)之一。作为x射线光刻掩模材料的候选者之一,金刚石薄膜...
上海大学硕士学位论文基于金刚石薄膜的X射线光刻掩模材料的研究姓名:任玲申请学位级别:硕士专业:材料学指导教师:王林军20070101知识水坝论文上海大学硕...
推荐引用方式GB/T7714何文牧.硕士论文-软X射线光刻中抗蚀剂图形的研究[D].北京.中国科学院研究生院,1988.条目包含的文件文件名称/大小文献类型版本类型开放类型...
4王永坤,余建祖,余雷,陈大鹏;X射线光刻掩模后烘过程的瞬态热分析[J];微细技术;2003年02期中国硕士学位论文全文数据库前1条1李春江;晶圆处理预对准系统的研究[D];哈...
6)X射线光刻制作T型栅的实用化工艺研究.三层胶工艺的研发。7)0.1微米级T型栅PHEMT的x射线光刻制作。关键词:NGL、xRL、同步辐‰x射线、PHEMT、T型码灰劂天津...
关键词高线密度透射光栅;电子束光刻;X射线光刻;衍射效率测试;微纳米电镀;等离子体刻蚀北京T业人学T学硕Ij学位论文IIAbstractAbstractT0breakforeigIl...
这种抗蚀剂用248nm光曝光,当曝四川大学硕士学位论文光光量为18mj/cruZ时分辨率为0.35pm。80年代中期人们提出把ArF激光(tt长为193rim)光源应用于光学投影光刻...
4金春水,王占山,曹健林;软X射线投影光刻原理装置的设计[J];光学精密工程;2000年01期5高宏刚,陈斌,张俊平,曹健林;亚纳米量级光滑表面的超精密抛光[J];仪器仪表学报;1997年0...