在光刻工艺发展的过程中，除了对线条定义的要求越来越严格，对图形缺陷的控制也越来越苛刻。.本文的研究方向主要对以下几种典型图形缺陷的机理进行研究，并对工艺参数角度进行试验和调整优化从而改善缺陷水平。.1．线条剥离的问题研究与解决在...
光刻确定了器件的关键尺寸。光刻过程中的错误可造成图形歪曲或套准不好，最终可转化为对器件的电特性产生影响。图形的错位也会导致类似的不良结果。光刻工艺中的另一个问题是缺陷。光刻是高科技版本的照相术，只不过是在难以置信的微小尺寸下完成。
NIKON光刻机的对准优化设计论文.doc,大漠天下原创作品,原创力文档版权提供，违者必究，PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMATPAGE\*MERGEFORMAT1本科毕业设计(论文)论文题目：关于...
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论文作者为美国马里兰大学胡良兵教授、莫一非教授，弗吉尼亚理工大学、加州大学郑小雨教授和加州大学圣地亚哥分校骆建教授团队等人（共同通讯作者），论文题目为“Ageneralmethodtosynthesizeandsinterbulkceramicsinseconds”。science：金属3D
纳米压印光刻技术原理与实验研究.华中科技大学硕士学位论文摘要本文介绍了纳米压印光刻技术的原理并进行了相关的实验研究，目的在于研究采用纳米压印光刻技术三维微结构的工艺，以促进此项技术更快的走向广泛的实际应用。.本文首先介绍了纳米...
湿法刻蚀工艺的应用研究论文.doc,本科毕业设计（论文）PAGE\*MERGEFORMATIIIPAGE\*MERGEFORMATIII本科毕业设计(论文)论文题目：湿法刻蚀工艺的研究摘要通过实习掌握制造集成电路芯片工艺的干+湿法去胶及湿法腐蚀工序的...
论文级别：硕士博士学科专业：分析化学论文题目：双层聚合物薄膜的有序褶皱行为作者签名：指导教师签名：作者联系地址（邮编）：作者联系电话：作者姓名论文分类号O631保密级别公开研究生学号2004332079学位类别理学硕士授予学位单位吉林
半导体光刻中晶圆缺陷问题的研究WaferDefectsIssueStudyLithography天津大学电子信息工程学院二零一二年五月指导教师:秦国轩副教授企业导师:高级工程...
导读:本文是一篇关于光刻硅片论文范文,可作为相关选题参考,和写作参考文献。众所周知,大多数半导体流程都发生在硅片顶层的几微米以内.这一有源区对应于工艺流...
文档格式:.pdf文档页数:55页文档大小:2.28M文档热度:文档分类:论文--毕业论文系统标签:光刻工艺半导体缺陷图形光阻光刻
光刻工艺研究毕业论文毕业设计(论文)报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究摘...
中国硕士学位论文全文数据库前10条1陈科钻;ASIC版图设计中的光刻缺陷研究[D];大连理工大学;2010年2常胜;用于FTTH的跨阻抗前置放大器的ASIC设计[D];武汉大学;2004年3杨荣喜...
中国硕士学位论文全文数据库前1条1田静;半导体光刻工艺中图形缺陷问题的研究及解决[D];复旦大学;2008年【共引文献】中国期刊全文数据库前10条1何晓燕;王庆春;;CMOS反相器...
内容提示:密级:硕士学位论文紫外自成像光刻及其缺陷修复效应研究作者姓名:邓茜指导教师:赵立新副研究员中国科学院光电技术研究所学位类别:工程硕士...
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1.3.1软光刻技术软光刻技术是在光刻技术与软刻蚀技术的基础上发展起来的,兼顾了二者的优点.光刻工艺,利用镉掩模或者激光全息制作掩模板,提供原始模板.后面利...
·光刻工艺的基本原理第12-14页·浸润式光刻机的简介第14-17页·光刻工艺设备的发展第14-15页·浸润部件的工作原理第15-17页·浸润式光刻机引入的缺陷种类及研...