摘要介绍了有机硅表面活性剂的类型、及应用，指出了其发展前景。Thetypes,preparationandapplicationoforganosiliconesurfactantwereintroduced.Theoutlookof…
介孔SiO2表面改性及其吸附性能的研究孔,研究,表面,SiO2,SiO2,吸附性能,表面改性,SiO,研究改性,吸附性能的分类号——I】】Dc密级：学校代码英文题IflModifiedmesoporoussilica…
表面活性剂的应用与发展趋势学生姓名201020643教学院系研究院专业年级应用化学硕士10级11完成日期2010应用化学201020643摘要:阐述了我国表面活性剂在各个方面的应用、行业发展状况以及与国外的差距,对我国表面活性剂及其相关行业的...
郑州轻工业学院本科毕业设计（论文）硅太阳能电池表面陷光结构专业班级电子科学与技术08-1技术物理系完成时间2012年05众所周知，化石能源等一次能源短缺的问题日益凸显，化石能源的燃烧伴随着大量有害物质的排放，危害人类身体健康，造成酸雨的形成，严重污染水土等。
硅基激光器发展现状及趋势ResearchProgressDevelopmentTrendsSilicon-basedlaser龙晓阳光电子科学与工程学院光信0803摘要：硅基激光器实现的问题一直是硅光电集成的主要障碍。实现硅基激光器的有效方法之一是采用拉曼散射原理实现硅基拉曼激光器。
第43卷第2期人工晶体学报Vol．43No．22014年2月JOURNALOFSYNTHETICCRYSTALSFebruary，2014单晶硅表面制绒及其特性研究...
1.4.1全球发展现状及未来趋势（2021-2027年）1.4.2中国生产发展现状及未来趋势（2021-2027年）1.5全球硅青铜供需现状及预测（2021-2027年）1.5.1全球硅青铜产能、产量、产能利用率及发展趋势（2021-2027年）1.5.2全球硅青铜产量、表观消费量及
半导体论文范文一（1）：题目：我国半导体产业在后摩尔时代的发展思考摘要：要对“后摩尔时代”下的半导体产业发展路径进行研究,就需要先把握好现阶段国内产业所处的发展阶段。本文研究立足于后摩尔时代这一背景,分析了现阶段我国半导体产业存在的问题,对比其他国家以及地区产业发展...
半导体技术990507半导体技术SemiconductorTechnology1999年第5期No.51999直接键合硅片的亲水处理及其表征何进陈星弼杨传仁王新摘要硅片直接键合SDB技术的关键在于硅片表面的亲水处理，本文分析了亲水处理之微观机理。从界表面...
基于这些现状，我们迫切需要了解纳米材料与生物分子间的作用机理，对材料的毒性及其生物效应有深入的认识。本学位论文中，采用分子动力模拟的方法探究了二维硅烯、二硫化钼纳米片以及二硫化钼纳米管与几种蛋白质分子间的相互作用机制，以揭示三种材料的生物效应。
半导体硅重构表面及其相变动力学的研究进展论文.doc,半导体硅重构表面及其相变动力学的研究进展论文.freelentsontheSi(111)(7×7)-(1×1)phasetransit...
[3]高子茹,文宇佳,易生平,等.金属表面硅烷前处理技术的研究进展[J].有机硅材料,2018,32(z1):98-102.doi:10.11941/j.issn.1009-4369.2018.z1.022.[4]谢学兵,程西云.稀土在金...
·55·以硅材料为载体的表面分子印迹技术研究新进展张进,曹丹,陈家美,王超英(贵州师范学院化学与生命科学学院,贵阳550018)摘要硅材料具有良好的...
实现硅基激光器的有效方法之一是采用拉曼散射原理实现硅基拉曼激光器。随着技术的发展,还涌现了很多最新的研究进展,量子级联激光器、硅基掺铒激光器都是有前景...
功能薄膜的研究现状与应用前景庄大明,张弓,刘家浚硅及硅基半导体材料中杂质缺陷和表面的研究屠海令加快太阳级硅新技术研发促进硅资源可持续发展马文会;戴永年;杨斌;谢...
内容提示:硅基激光器发展现状及趋势ResearchProgressandDevelopmentTrendsofSilicon-basedlaser龙晓阳光电子科学与工程学院光信0803班摘要硅基...
20狄卫国,刘玉岭,司田华;ULSI硅衬底的化学机械抛光技术[J];半导体技术;2002年07期中国重要会议论文全文数据库前10条1屠海令;;深亚微米集成电路用硅片表面质量及缺陷工程[A]...
【摘要】:硅纳米晶体由于具有新颖的电学和光学性能,在光电子、光伏、显示和生物标记等领域拥有广阔的用途前景。本论文的工作,集中在研究硅纳米晶体的发光性能与其尺寸和表面...
黑硅技术是近几年发展起来的微电子材料研究领域,据有广泛的应用前景。本文采用在传统金字塔结构硅衬底上利用两步法刻蚀纳米线阵列的方法双减反射层黑硅,利...
Keywordssemiconductor,surfacereconstruction,phasetransition,silicon半导体硅是现代计算机技术的核心,是半导体最重要的代表,因而被长期、广泛地研究...