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本论文利用自主研制的室温常压脉冲等离子体射流技术,通过简便高效、成本低廉的无掩膜版化扫描处理方法,针对柔性透明导电薄膜以及柔性微超级电容器在微纳时所面临的新型高质量方法短缺的问题,实现了银纳米线柔性透明导电薄膜的微焊接、图案化
本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种光刻掩膜版的制造方法。背景技术在集成电路制造领域，光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜版上转移到晶圆(wafer)上，其中的光刻掩膜版(mask)，也称为光刻版、掩膜版或者光罩，是一种对于曝光光线具有透光性的平板，其上具有对于...
新一代高通量薄膜及原位表征技术研发获进展.材料对于推动生产力发展和社会进步起着举足轻重的作用。.关键材料的研发周期更是直接决定了...
;简单的说，光刻就是用照相复印的方法，将掩膜版上之图形精确地复印到涂在硅片表面的光致抗蚀剂（Photoresist）（下面统称光刻胶）上面，然后在光刻胶的保护下对硅片进行离子注入，刻蚀，薄膜淀积等各种工艺。
掩膜版：光刻工艺“底片”。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版按用途分类可分为铬版、干版、液体凸版和菲林，上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业，下游主要包括IC制造及封装、平面显示和印制线路板等...
喷墨打印电致发光薄膜及器件方法的研究.刘会敏.【摘要】：有机电致发光显示器(OLED)具有质量轻薄、广视角、色彩明亮、画面响应速度快、能耗低及可柔性等优势,被认为是二十一世纪最受瞩目的新兴技术之一。.实现全彩色和大面积平板显示器是OLED...
中图分类号：TP212论文编号：102870515-S105学科分类号：080202硕士学位论文磁控溅射薄膜压力传感器...3.2膜片受力后的位移云图22图3.3外圈电阻栅丝几何形状24图3.4电阻膜图形26图3.5平膜片排版图26图3.6电阻图形掩膜板27图3.7电极图形掩...
本论文采用底栅顶接触的TFT器件结构,在SiO2/p-Si衬底上利用磁控溅射法ZnO薄膜作为器件的有源层,以重掺杂p型硅衬底作为器件的栅极,利用掩膜板蒸镀法形成Al电极图案作为器件的源漏电极,从而出完整的TFT器件。
论文|玻璃基光刻铬掩膜板的膜系研究会议|ITO靶材在溅射过程中结瘤行为的研究报纸|防眩光是汽车膜最重要的性能
本发明实施例提供一种掩膜版及其制作方法,回收方法,涉及掩膜版领域,能够解决现有技术中,掩膜版无法重新利用或者重新利用成本高的问题.该掩膜版包括掩膜基板和掩膜图案,掩膜版...
专利名称：掩膜版及薄膜封装方法专利类型：发明专利发明人：杜骁,陈永胜申请号：CN201711208519.9申请日：20171127公开号：CN108004521A公开日：20180508专...
本发明属于显示技术领域,尤其涉及一种掩膜版及薄膜封装方法。背景技术:在柔性基板上构筑OLED器件以此柔性显示设备是现阶段显示技术发展的热点方向,前期...
申请上海交通大学工程硕士学位论文利用相移光刻掩膜版监测光刻机台焦距系:微电子学院工程领域:软件工程交大导师:程秀兰教授企业导师:施春山工程硕士:袁伟...
LCVD(LaserChemicalVaporDeposition)是在常温常压下通过激光作用下的微细面积的金属薄膜化学沉积技术。(8)大面积掩膜版贴膜技术贴膜机是指掩膜版制造的最后一个环节需要贴Pel...
光致抗蚀剂薄膜在光刻掩膜制作中的应用.pdf,2000年10月·广西·北海第七届全国周体薄膜学术会议光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的应用侯德胜孙方冯伯儒张锦(中国科学院光...
该掩膜版包括掩膜基板和掩膜图案,掩膜版还包括第一透明薄膜;第一透明薄膜以可撕除的方式设置于掩膜基板上;掩膜图案由第一透明薄膜承载,且位于第一透明薄膜背离掩膜基板的...
本论文利用自主研制的室温常压脉冲等离子体射流技术,通过简便高效、成本低廉的无掩膜版化扫描处理方法,针对柔性透明导电薄膜以及柔性微超级电容器在微纳时所面临的新型高...
关键词:Ti图形外延生长GaN薄膜晶体质量影响论文PDF文档格式免费下载关键词汇文网所有资源均是用户自行上传分享,仅供网友学习交流,未经上传用...
玻璃基光刻铬掩膜板的膜系研究摘要本文从理论和实验两个方面研究了玻璃基光刻铬掩膜板的膜系设计以及其在真空环境中的。以光学薄膜设计中的隐含规律为基础...