文献查阅指引1．朱福喜，傅建明，唐小军《JAVA项目设计与开发范例》电子工业出版社 2005(7)2．刘晓华等《JSP应用开发详解》电子工业出版社103．康博著《Web应用程序开发新技术》人民邮电出版社20024．黄名等《JSP课程设计》北京：电子工业出版社计算机毕业设计人民电子工业出版社2014
本科毕业设计（论文） 文献综述 院 （系）： 专 业： 班 级： 学生姓名： 学 号: 年 月 日 本科生毕业设计（论文）文献综述评价表 毕业设计（论文）题目 综述名称 注意综述名称（综述内容中不要出现本课题怎么样等等） 评阅教师姓名 职称 评 价 项 目 优 良 合格 不合格 综述结构 01 文献综述结构完整、符合格式规范 综述内容 02 能准确如实地阐述参考文献作者的论点和实验结果 03 文字通顺、精练、可读性和实用性强 04 反映题目所在知识领域内的新动态、新趋势、新水平、新原理、新技术等 参考文献 05 中、英文参考文献的类型和数量符合规定要求，格式符合规范 06 围绕所选毕业设计（论文）题目搜集文献 成绩 综合评语： 评阅教师（签字）： 年 月 日 文献综述： 小四号宋 空一行 标题 二号黑居中 空一行 1 XXX 三号黑 XXX 小四号宋，行距20磅 1 XXXX 小三号黑 XXX 小四号宋，行距20磅 1 XXX 四号黑 XXX 小四号宋，行距20磅 空一行 2 XXXX 三号黑 (空1行) 参 考 文 献 (空1行) [要求按国标GB 7714—87《文后参考文献著录规则》书写，例如：] [1] 袁庆龙，候文义．Ni-P合金镀层组织形貌及显微硬度研究［J］．太原理工大学学报，2001，32(1)：51-53 ．（宋体五号，行距固定值20磅） [2] 刘国钧，王连成．图书馆史研究［M］．北京：高等教育出版社，1979：15-18，31． 下面的是我的文献综述 文献综述: FTO透明导电薄膜的溅射法制备 1 前言 为了更好的开展毕业论文及毕业实验工作，在查找和阅读与《DSSC用FTO透明导电玻璃的溅射法制备》相关的文献和资料，完成撰写了本文献综述。随着科技的日趋成熟，导电玻璃的制备方法也越来越成熟，种类也衍生得越来越多。 本文章将对国内外的制备方法，种类，发展现状及趋势，工艺性能，退火处理对性能的影响等方面做一简要介绍。 2透明导电玻璃的种类及制备方法简介 1透明导电玻璃的种类 1 1 TCO导电玻璃 TCO（Transparent Conductive Oxide）玻璃，即透明导电氧化物镀膜玻璃，是指在平板玻璃表面通过物理或化学镀膜方法均匀的镀上一层透明的导电氧化物薄膜而形成的组件主要包括铟、锡、锌、铬的氧化物及其复合多元氧化物薄膜材料。 2 ITO透明导电玻璃 ITO透明导电玻璃全称为氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃,多通过ITO导电膜玻璃生产线,在高度净化的厂房环境中,利用平面磁控技术,在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。 ITO玻璃产品广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。 3FTO透明导电玻璃 FTO透明导电玻璃为掺杂氟的SnO2导电玻璃(SnO2:F)，简称为FTO。FTO玻璃可以做为ITO导电玻璃的替换用品，广泛用于液晶显示屏，光催化，薄膜太阳能电池基底等方面，市场需求极大 FTO玻璃因其特殊性，在染料敏化太阳能电池，电致变色和光催化方面对其透光率和导电率都有很高的要求，其综合性能常用直属FTC来评价：FTC＝T10／RS。T是薄膜的透光率，RS是薄膜的方阻值；在光学应用方面，则要求其对可见光有好的透射性和对红外有良好的反射性。对其基本要求是：①表面方阻低，②透光率高，③面积大、重量轻，④易加工、耐冲击。 2FTO透明导电玻璃制备方法 FTO透明导电玻璃的制备方法有，物理方法：溅射法、真空蒸发镀膜法、离子辅助沉积镀膜法等；化学方法：喷雾热解法、溶胶-凝胶法和化学气相沉积法等。目前适合批量生产且研发较多的有真空蒸发镀膜法、磁控溅射法、化学气相沉积法和喷雾热解等方法！［1］化学气相沉积法和真空镀膜法制备的薄膜和玻璃基板的结合强度不够，溶胶-凝胶法制备的导电薄膜电阻较高。适合于批量生产且已经形成产业的工艺，只有磁控溅射法和溶胶－凝胶法。特别是，溅射法由于具有良好的可控性和易于获得大面积均匀的薄膜。 1磁控溅射法镀膜： 溅射镀膜(sputtering deposition)是指用离子轰击靶材表面，使靶材的原子被轰击出来，溅射产生的原子沉积在基体表面形成薄膜。溅射镀膜有二级、三级或四级溅射、磁控溅射、射频溅射、偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等装置。 目前最常用的制备CoPt 磁性薄膜的方法是磁控溅射法。磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极（镀膜室壁） 之间施加几百K 直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光放电，使氩气发生电离。氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面，将靶材表面原子溅射出来沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的靶和控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的薄膜。磁控溅射法具有镀膜层与基材的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。 2真空蒸发镀膜： 真空蒸发镀膜(vacuum vapor deposition)是在工作压强低于10-2 Pa，用蒸发器加热物质使之汽化蒸发到基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的一种工艺方法。真空蒸发的加热方式主要有电阻加热蒸发、电子束加热蒸发、高频加热蒸发和激光加热蒸发等。对于镀制透明导电氧化物薄膜而言，其真空蒸发镀膜工艺一般有三种途径：(1)直接蒸发氧化物；(2)采用反应蒸发镀，即在蒸发金属的同时通入氧气进行化学反应生成金属氧化物；(3)对蒸发金属镀膜进行氧化处理。 3溶胶-凝胶法： 溶胶-凝胶法(so1-gel)是近年来发展起来的能代替高温固相合成反应制备陶瓷、玻璃和许多固体薄膜材料的一种新方法。它将金属醇盐或无机盐经溶液、溶胶、凝胶而周化，再将凝胶低温处理变为氧化物的方法，是应用胶体化学原理制各无机材料的一种湿化学方法。溶胶-凝胶工艺是一种制备多元氧化物薄膜的常用方法。按工艺可分为浸涂法和旋涂法。浸涂法是将衬底浸人含有金属离子的前驱体溶液中，以均匀速度将其提拉出来，在含有水分的空气中发生水解和聚合反应，最后通过热处理形成所需薄膜；而旋涂法则是通过将前体溶液滴在衬底后旋转衬底获得湿膜。 4化学气相沉积法： 化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)是反应物质在气态条件下发生化学反应，生成固态薄膜沉积在加热的固态衬底表面，是一种重要的薄膜制各方法。CVD法所选的反应体系必须满足：(1)在沉积温度下，反应物必须有足够的蒸汽压；(2)化学反应产物除了所需的沉积物为固态外，其余必须为气态；(3)沉积物的蒸汽压应足够低，以保证能较好地吸附在具有一定温度的基体上，但此法因必须制各具有高蒸发速率的铟锡前驱物而使生产成本较高。影响化学气相沉积薄膜的工艺参数很多，包括基体温度、气压、工作气体流量和反应物及其浓度等。 化学气相沉积技术的主要特点包括：设备及工艺简单、操作维护方便、灵活性强；适合在各种形状复杂的部件上沉积薄膜：由于设备简单，薄膜制备的成本也比较低。但是，薄膜的表面形貌很大程度上受到化学反应特性以及能量撒活方式的影响。 5喷雾热分解法： 喷雾热分解法是化学法成膜的一种，其过程与APCVD法比较相似。它是将前驱体溶液在高压载气的作用下雾化，然后输送到基片表面，在高温作用下，前驱体溶液发生一系列复杂的化学反应，在基片表面上得到需要的薄膜材料。而反应副产物一般是通过气相形式排出反应腔。常用的高压载气主要有：压缩空气、氮气、氩气等等。但是由于压缩空气中常含有大量的水蒸气，所以用氮气作为载气的情形比较多。如果需要在基片表面上发生分解反应，基片温度一般在300℃以上，在玻璃上制备FTO薄膜的基片温度一般为500℃。影响最终薄膜性能的喷涂参数有：载气压力、前驱体溶液流量、基片温度、喷口与基片的距离、喷枪移动速度等等［2］。在成膜过程中基材的温度、液体的流速、压缩气体的压力以及喷嘴到基材的距离等参数均可实现精确控制［3］。 3 FTO透明导电玻璃的研究现状、应用及发展趋势 1FTO透明导电玻璃的研究现状 自1907年Badeker首次报道了热氧化溅射的Cd薄膜生成半透明导电的CdO薄膜，引发了对透明导电氧化物(TCO)薄膜的研究。1950年前后出现了硬度高，化学稳定性好的SnO2基薄膜及综合光电性能优良的In2O3基薄膜，ZnO基薄膜的研究始于2O世纪80年代 。目前研究和应用较多的TCO薄膜主要有SnO2、In2O3。和ZnO基三大体系，其中以In203：Sn(ITO)，SnO2 ：F(FTO)和ZnO：Al(ZAO)最具代表性，这些薄膜具有高载流子浓度(1018～1021cm-3)和低电阻率(10-3～1O-4Ω•cm)，且可见光透射率8O％～90％，使这些薄膜已被广泛应用于平面显示、建筑和太阳光伏能源系统中。［4］ 已经商业化应用的TCO薄膜主要是In2O3Sn(ITO)和SnO2：F(FTO)2类，ITO由于其透明性好，电阻率低，易刻蚀和易低温制备等优点，一直是显示器领域中的首选TCO薄膜。FTO薄膜由于其化学稳定性好，生产设备简单，生产成本低等优点在节能视窗等建筑用大面积TCO薄膜中，具有很大的优势［5］。 Sn02：F（FTO）掺杂体系是一种n型半导体材料，表现出优良的电学和光学性能，并且耐腐蚀，耐高温，成本低，化学稳定性好，是现在研究较多，应用范围较广的一类TCO薄膜。苗莉等［6］采用喷雾热解法，以NH4F、SnCl2•2H20为原料，在普通玻璃衬底上制备出了方块电阻最低达到2Ω/口，可见光透光率为95％的FTO薄膜，且薄膜晶粒均匀，表面形貌平整致密。Yadav等［7］采用喷雾热解法，制备了不同厚度的FTO薄膜，最低电阻率达到91 X 10-4 Ω•cm。Moholkar等［8］采用喷雾热解法，制备了不同掺F浓度的FTO薄膜，研究了氟的掺杂浓度对Sn02薄膜的光学，结构和电学性能的影响。中国科学院等离子体物理研究所的戴松元小组［9、10］将FTO用于染料敏化太阳电池的透明电极，并获得较高的光电转换效率。 射频溅射： 射频溅射的基本原理是射频辉光放电。国内外射频溅射普遍选用的射频电源频率为13．56MHz,以防止射频信号与无线电信号的相互干扰。通常直流溅射的基本过程是，从阴极发出的电子，经过电场的加速后获得足够的能量，可以使气氛气体发生电离。正离子在电场作用下撞击阴极表面，溅射出阴极表面的原子、分子到衬底表面发生吸附、凝聚，最终成膜。 直流溅射不能用于绝缘体材料的薄膜制备，因为绝缘材料在受到正离子轰击时，靶材表面的正离子无法中和，使靶表面的电位逐渐升高，导致阴极靶与阳极问的电场减小，当靶表面电位上升到一定程度时，可以使气体无法电离，溅射无法进行。而射频溅射适合于任何一种类型的阻抗耦合，电极和靶材并不需要是导体，射频溅射非常适合于制备半导体、绝缘体等高熔点材料的薄膜。在靶材表面施加射频电压，当溅射处于上半周时，由于电子的质量比离子的质量小很多，故其迁移率很高，用很短时间就可以飞向靶面，中和其表面积累的正电荷，从而实现对绝缘材料的溅射，并且在靶表面又迅速积累起了大量的电子，使其表面因空间电荷而呈现负电位，导致在射频溅射正半周期，也可吸引离子轰击靶材。从而实现了在电压正、负半周期，均可溅射。磁场的作用是将电子与高密度等离子体束缚在靶材表面，可以提高溅射速度。［11］ 用JPGF一450型射频磁控溅射系统在玻璃衬底上制备SnO2：F薄膜，系统的本底真空度为10-3Pa．溅射所用陶瓷靶是由纯度为99％SnO2和NH4F，粉末经混合、球磨后压制成坯，再经1300℃烧结而成，靶中NH4F的重量比是78％，用纯度为99．99％ 的氩气和氧气作为工作气体，由可控阀门分别控制气体的流量。溅射过程中，控制真空室内氩气压强为1Pa，氧分压为5—5 Pa，靶与衬底间的距离为5cm．溅射功率为150W，溅射时间为25 min，衬底温度为100℃。用RIGAKU D／MAX—yA型x射线衍射(XRD)仪(CuKa辐射波长，154178 nm)测试样品的结构，用APHM一0190型原子力显微镜(AFM)观测样品的表面形貌，使用 rv一1900型紫外可见光分光光度计测量样品的吸收谱，使用激发源为325 nm的He—Cd激光器的光谱仪测量样品的室温光致发光谱，使用普通的万电表测试它的导电性（前提是尽量保持测量条件的一致性）。 2FTO透明导电玻璃的应用 FTO透明导电玻璃具有优良的光电性能，被广泛用于太阳能电池的窗口材料、低损耗光波导电材料及各种显示器和非晶硅太阳能电池中作为透明玻璃电极等，与生活息息相关。 1在薄膜太阳电池上的应用 太阳能电池是利用光伏效应，在半导体p-n结直接将太阳光的辐射能转化成电能的一种光电器件。TCO薄膜是太阳电池关键材料之一，可作为染料敏化太阳电池(dye-sensitized solar cells，DSCS)［12］等的透明电极，对它的要求是：具有低电阻率(方块电阻Rsh约为15Ω/□)；高阳光辐射透过率，即吸收率与反射率要尽可能低；化学和力学稳定性好的特点。在薄膜太阳电池中，透明导电膜充当电极，具有太阳能直接透射到作用区域几乎不衰减、形成p-n结温度较低、低接触电阻、可同时作为防反射薄膜等优点。 2在显示器上的应用 显示器件能将外界事物的光、声、电等信息，经过变换处理，以图像、图形、数码、字符等适当形式加以显示。显示技术的发展方向是平板化。在众多平板显示器中，薄膜电致发光显示由于其主动发光、全固体化、耐冲击、视角大、适用温度宽、工序简单等优点，引起广泛关注，并发展迅速。FTO薄膜具有可见光透过率高、电阻率低、较好的耐蚀性和化学稳定性，因此被广泛用作平板显示器的透明电极。 3在气敏元件上的应用 气体传感器是把气体的物理、化学性质变换成易处理的光、电、磁等信号的转换元件。半导体气体传感器是采用金属氧化物或金属半导体氧化物材料做成的元件，与气体相互作用时产生表面吸附或反应，引起以载流子运动为特征的电导率或伏安特性或表面电位变化。二氧化锡薄膜气敏器件具有灵敏度高、响应速度和恢复速度快、功耗低等特点，更重要的是容易集成。随着微电子技术的发展，传感器不断向智能化、微型化方向发展。［13］ 4在建筑幕墙玻璃及透明视窗上的应用 喷雾热解法制各的FTO薄膜能用于阳光节能玻璃，对可见光高透射，但对红外光高反射，其反射率大于70％。让阳光中可见光部分透过，而红外部分和远红外反射。阳光中的可见光部分对室内采光是必需的，但可将红外部分的热能辐射反射回去，能有效调节太阳光的入射和反射。利用FTO薄膜在可见光区的高透射性和对红外光的高反射性，可作为玻璃的防雾和防冰霜薄膜。 3 FTO透明导电玻璃的发展趋势 随着LCD的商品化、彩色化、大型化和TFT的驱动或太阳能电池的能量转变效率的提高，人们对透明导电氧化物（TCO）薄膜的要求越来越严格，至少需要满足如下条件： (1)导电性能好，电阻率较低； (2)可见光内透光率较高： (3)镀膜温度更接近室温，能大面积均匀地镀膜； (4)膜层加工性能好，可以进行高精度低损伤腐蚀； (5)热稳定性及耐酸、碱性优良，硬度高； (6)表面形状良好，没有针孔； (7)价格较低，可实现大规模工业化生产。 目前，TCO薄膜已普遍达到下列水平：膜厚为500 nm的情况下电阻率在10-4 Ω•cm数量级，在可见光区透光率达80％，载流子迁移率一般达到40cm2／(v•s)。虽然TCO薄膜的性能指标可以满足当前应用需要，但随着器件性能的不断提升，对TCO薄膜提出了更高的性能要求。一些学者提出了TCO薄膜发展的一个量化的前景指标：禁带宽度>3 eV，直流电阻率～5×10-5 Ω•cm，可见光段在自由电子作用下的吸收系数<2x103 cm-1，载流子迁移率>100 cm2／(v•s)。 几十年来，人们一直在努力提高透明导电薄膜的透明性和导电性。SnO2：F（TFO）透明导电薄膜由于其兼备低电阻，高的可见光透过率，近红外高的反射率，优良的膜强度和化学稳定性等优点，越来越受到人们的青睐，必将在平板显示器件、建筑物玻璃和气敏传感器等众多领域中得到更广泛的应用。利用溅射法制备FTO透明导电玻璃它的生产工艺简单，操作方便，利于控制。成本较低，原料易得，但在制备过程中NH4F加热分解放出有污染的氮氧化物和氨烟，这对以后商业化生产造成了很大的制约。所以对原料的改进和污染的控制方面还有待开发。 4 制备条件对膜结构及光电性能的影响 长安大学材料科学与工程学院段理等做了磁控溅射制备银掺杂ZnO薄膜结构及光电性质研究实验，发表了文献［14］，并在文献14中得出了1——3的结论。 1制备条件对膜厚的影响 文献中采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备了银掺杂ZnO薄膜，当薄膜淀积时间从30rain延长到90min时，薄膜的厚度几乎按照线性关系从约270nm增加到820nm，即薄膜的淀积速率大致稳定在9nm／min左右，为匀速生长。溅射功率与膜厚呈线性增长，及沉淀速率与溅射功率大致呈线性关系。 2制备条件对膜结构的影响 晶体质量随溅射功率的增大而降低，随溅射气压的增大而降低。 3制备条件对膜光电性质的影响 在固定溅射总气压的条件下，增大氧分压可以增强薄膜的紫外发光强度，增大薄膜的载流子浓度。 4 退火对薄膜的影响 退火能显著提高薄膜晶体质量，并增强薄膜的PL发光强度和导电能力，其原因是退火能使银离子完成对锌离子的替代从而形成受主。［15］ 5 退火后处理对膜结构与成分的影响 光敏薄膜的光电、形貌性能与退火处理密切相关，退火处理优化了薄膜表面形貌、减小了光学能隙、增大了薄膜的导电率和载流子迁移率。光敏薄膜性能的优化，有利于增大聚合物太阳电池的填充因子、开路电压和短路电流，对于提高其能量转换效率、改善器件光伏性能具有非常重要的意义。［16］分别对较低氧分压反应磁控溅射制备的 薄膜进行氧化性气氛和惰性气氛退火。通过XRD和SEM 分析，发现氧化性气氛退火薄膜为表面多孔的金红石结构 ，而惰性气氛退火薄膜表面较为致密，结构分析不仅观察到金红石结构的 ，还发现了四方结构的 。XPS表面分析进一步表明，氧化性气氛退火后，薄膜成分单一，未氧化的 完全氧化成稳定的 ，而且具有稳定结构的 薄膜表面吸附水很少。相对而言，惰性气氛退火后，薄膜表面 、 和 共存，表面化学吸附氧和吸附水较明显，薄膜的稳定性降低。［17］ 6 FTO导电玻璃制备相关参数 根据范志新等所提出的理论表达式： 带入相关数据可得到，SnO2:F（FTO）的最佳掺杂含量为54%［18］通过对比总结，参考大量数据，选择溅射功率：100W，溅射压力：5Pa，溅射时间：5h，溅射靶距：38mm［13、19］做产品。进行相关参数的选择与优化。 7 参考文献 1、张志海， 热解法制备氟掺杂二氧化锡导电薄膜及其性能研究 合肥工业大学 2、汪振东， 玻璃基TiO<,2>-SiO<,2>/SnO<,2>：F薄膜的喷雾热分解法制备和表征 武汉理工大学 3、郝喜红， 喷雾热解法制备掺杂二氧化锡导电薄膜 西安建筑科技大学 4、张明福等， 透明导电氧化物薄膜研究的新进展 压电与声光 5、方俊 杨万莉， n型透明导电氧化物薄膜的研究新进展 陶瓷 6、苗莉等， SnO2:F导电薄膜的制备方法和性能表征 材料导报 7、Yadav A A，Masumdar E U，Moholkar A V，et a1．Effect of quantity of spraying solution on the properties of spray deposited fluorine doped tin oxide thin films[J]．Physiea B：Condensed Matter，2009，404(12—13)：1874 - 1877． 8、Moholkar A V，Pawar S M，Rajpure K Y，et a1．Effect of fluorine doping on highly transparent conductive spray deposited nanocrystalline tin oxide thin films[J]．Applied Surface Science，2009，255(23)：9358—9364． 9、Dai S，Wang K，Weng J，et a1．Design of DSC panel with efficiency more than 6％[J1．Solar Energy Materials and Solar Ceils，2005，85(3)：447—455． 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注册┆登录┆发表文章 关于现代人力资源开发与管理误区分析的文献综述 2006-01-26 16:12:19 大中小 管理的核心在于人，在现代这个企业组织竞争激烈的时代，人才已经成为一个组织最为重要的核心竞争力了。人力资源的开发与管理对于组织的发展来说至关重要。但是，人力资源由于其主体人的特殊性，在开发与管理上存在着诸多困难，同时也容易步入误区。现代人力资源开发与管理误区分析也就成了一个特别需要注重的区域。一、关于现代人力资源开发与管理误区的研究概况“人力资源管理”这个概念首先是在1954年由Peter Drucker在《管理实践》一书中引入的。组织的管理由此进入一个新的时代。一系列围绕着组织中员工的开发与管理系统已初见雏形，并在不断发展和完善中。近些年来，现代的人力资源管理理论传入中国，得到了广泛的传播和应用，因此对于这方面的研究也很多，渐成显学。国内人力资源管理主要以中国人民大学等学校研究水平为强，同时全国各地的许多高校也开设了此专业，并结合当地实际做了一些实用性、针对性很强的研究。例如贵州大学关于西部落后欠发达地区人力资源开发的研究就很有特色。同时，针对人力资源开发与管理误区的研究也很多。很多专家和研究者分别从不同的角度对这一问题进行了分析，并提出相关的对策。但是，在我看来，依然是存在一些问题的。人力资源管理从性质上讲是边缘学科、交叉学科，从历史上讲是新兴学科。因此，在有些研究的过程当中，不免就会流于表面化、现象化，仅就现象谈现象、仅就案例谈案例。没有就这些现象背后深层的东西进行分析。也就是说没有将人力资源管理当中出现的现象返回到人力资源管理这个学科本应有的社会学、经济学、管理学的土壤当中进行考察，甚而没有从哲学的高度来进行反思。这些我将在文献综述的第二部分进行祥述。其实，所谓的这些人力资源开发与管理误区所产生的原因正是由于他们将人力资源管理从本身的土壤当中抽离出来，就人力资源开发谈人力资源开发、就人力资源管理谈人力资源管理，把人平面化、抽象化、物化了。而人则是立体的、鲜活的、自由的。这正是我毕业论文所要阐明的一个核心，也是针对这些误区产生的原因所进行的分析。很显然，这篇论文的写作脉络是经济学的、社会学（心理学）的，甚至是管理哲学的。二、对文献的综述与分析综合所阅文献，我们可以看到，对于人力资源开发与管理误区的研究大多关注在以下几个方面：误区一：“人力资源管理”即“人事管理”。这一误区是传统意义上的，是由于对人力资源管理概念缺乏本质的认识，而忽视了人力资源管理的主动性、开发性和战略性。归于这类误区的还有，认为人力资源管理仅仅是人力资源部门的工作，与组织中的其他部门没有关系，这还是没有把人力资源管理与人事管理区分开来的结果。人力资源存在于整个组织当中，人力资源的管理应该是立体的，并非是人力资源管理这一个部门来进行的管理，而是组织当中每个成员共同来参与共同来完成的。误区二：把人当作“成本”而非“资源”。对于记件制的工人，企业往往把其报酬看作是产品成本的一部分，要么就是尽量压低工人工资，要么就是尽量提高工人的工作效率，目的就在是于节约产品的生产成本。对于我国的大多数企业来说，虽然劳动法有相关法律法规的明确规定，但还是存在超时、超强度劳动的问题，员工加班时间不确定、加班工资得不到保障的现象也比比皆是。说到底还是把人当作了成本，没有把人当作创造性的财富和资源，没有尊重人，没有把人放在一个平等的位置上来看待。这样的人力资源开发与管理是失败的，最终只会导致高效率下的低效果以及员工的大量流失。误区三：人才结构不合理，单纯追求低年龄、高学历、高职称。许多企业、组织盲目追求具有高学历、高职称、低年龄的人力资源，，只愿意接受人才而不愿意给人才以成长和培养的环境、土壤。缺乏建立动态的人才优化配置机构，没有实现人与岗位的动态匹配。另外，在对民营企业人力资源开发与管理的误区进行的相关分析中，也指出了企业把人才当作“蜡烛”而非“蓄电池”的这一误区，认为企业不应把人才当作不断燃烧的蜡烛，而应将其视为一个蓄电池，在不断放电的同时，也应不断地给其充电。。这必然会导致企业的进入门槛过高，人才资源浪费，组织效率低下，冗余与人才的短缺同时并存。误区四：员工培训偏于片面性、盲目性，缺乏系统性和整体性。鉴于人力资源管理理论对于企业管理的影响日趋深入，管理者们也越来越关注人力资源的开发，在借鉴西方人力资源管理理论成果的同时，更加注重员工的培训与开发。于是，兴起了一股培训热。在对员工的培训当中，往往为了寻求短期效果，流于形式、流于表层的业务技能培训而忽视了深层的理念培训和创新思维的开发，同时，培训偏于片面性，缺乏规划和连贯性、整体性，往往认为通过一个或几个培训项目一次培训完毕后就能达到预期效果，并且对于培训的效果缺乏有效的考评，这样的结果往往会导致组织资源的浪费、培训效果的低下以及员工对于培训的负面情绪。误区五：过度注重物质激励，忽视了精神激励。马斯洛的需求层次理论把人的各种需求分为生理需求、安全需求、社会交往需求、爱的需求以及自我实现需求。生理需求为人的最基本的需求，所以大多数的管理者都认为物质财富是激励和开发员工积极性和创造性的不二法宝，并且认为分配的差距越大越好，单一注重人力资源的经济效益，忽视了人文环境的创造，强调以待遇来留住人才而非以事业和感情来留住人才缺乏人文关怀。事实上，马斯洛的需求层次理论很容易让人们产生错觉，认为人的需求是分为五个层级，是分阶段的。其实，人的需求是多方位的，并不仅仅因为需要物质就不需要精神了。管理者们应该在给予员工物质激励的同时也给予员工人性的关怀，从精神层面上去激发员工的积极性和创造性。误区六：人力资源管理程式化、数据化。在组织目标达成的过程中，组织成员的工作积极性和创造性不会自发存在，人都是有惰性的，因此需要一系列的程式，通过各种指标、数字、表格来具体规范人的具体工作并对此进行评估。把人力资源管理程式化、数据化之后容易给人这样一种错觉：一切变量因素都是可以通过具体数字来进行预测、估量和把握的，这样的结果就是把人和人的工作都抽象化、平面化，并没有充分认识人性，同时也缺乏对各种包括人在内的变化因素所导致的风险预测和评估系统。这样的人力资源管理显然是缺乏弹性的。误区七：将人力资源管理与开发模块化，单纯依靠管理者或上级的领导能力。现代人力资源开发与管理存在的一个很大的误区就在于单纯的将其分为几个步骤几个模块来进行，这种机械性在人力资源开发与管理上就会导致各项职能与组织整体目标相脱离，在整体上缺乏有效的整和性，并没有把人看作是一个立体的人，而是按照组织要求机械性的将人的某项能力剥离，单纯依靠领导者或管理者的组织、协调和领导能力，使人碎片化。误区八：提倡“人本管理”，实质上却是独裁的，是过分依赖领导意志的。现代很多企业都在提倡“以人为本”的企业文化的营造，但是要是真正做到以人为本并不容易。很多企业还明显存在着排斥、歧视甚至是帮派斗争，这些与以人为本的的理念都是背道而驰的，这些现象再怎么伪装与掩饰都不可能成为真正的以人为本。应该是以尊重人为基础为前提，不应该以人本管理为手段，应该是以人本管理为目的。三、对人力资源开发与管理误区分析的几点补充及建议从上述对文献所发现的人力资源开发与管理的误区我们可以看到，对误区的研究分析大都集中在两个层面，一个是传统层面上的，也是最基本层面上的误区，即对人力资源开发与管理的碎片化、程序化和数据化。这一层面上的误区主要是没有把人看做是有能动的创造力的“人”，只把人看做是平面的、可操控的一种物化了的资源。通过对这些误区的研究与分析，把人从机械的工作当中解救了出来，注重人主观能动性发挥，也似的组织的管理功能更加灵活化、系统化、人性化。另外一个是现在大家普遍关注的误区，即忽视了人本管理的思想，把人的需求阶段化，没有把人看做是一个系统的人，片面追求以物质激励来寻求人力资源的最大效用。通过对这一误区的研究分析，提出了以人为本的管理理念，强调要在以物质激励员工的同时也要注重员工感情的培养，以事业和感情来吸引和留住人才，不要单纯的以待遇来吸引和留住人才。强调组织或企业要努力营造一个良好的人文环境即企业环境，尊重员工，培养员工的归属感，极大的激励和发挥员工的积极性和创造性，引导员工朝着组织希望的方向发展，做到在实现组织目标的同时也能使员工实现对自我的需求。但是，我们也应该注意到，对于人力资源开发与管理实际上还存在着第三个层面的误区，即把以人为本的管理理念作为实现组织目标的手段而非目的，并没有真正理解到人本管理的内涵所在，把人本管理单纯的理解为激发员工的工作积极性，开发人力资源，重视和运用人力资本。如此来理解人本管理，还是没有把人从物化的框架中解放出来，仅仅把人看做是一种资源，为实现组织目标而需要利用的一种资源，人是管理过程中的接受者。人还是没有得到真正的自由。事实上，真正的人本管理并不是为了实现组织目标而是为了人的自我实现需要，以人为本的管理思想实际上就是真正的尊重人，以人的需要和自我实现为导向，重视每一个人的作用，把人从“物化”当中解放出来，最大限度的开发人的潜能。最终在人自我实现的同时，实现组织的目标。
面向对象技术、组件式GIS技术的发展，为GIS与MIS技术集成的实现提供了可能。使用面向对象技术和COM技术，可以将GIS、MIS功能封装成功能逻辑上相互独立的组件，他们分别向开发者提供技术接口，使用现有的支持COM的开发工具，可以方便的将他们集成到一个系统中，从而实现GIS与MIS的应用集成。
文献综述是对某一方面的专题搜集大量情报资料后经综合分析而写成的一种学术论文， 它是科学文献的一种。 格式与写法 文献综述的格式与一般研究性论文的格式有所不同。这是因为研究性的论文注重研究的方法和结果，特别是阳性结果，而文献综述要求向读者介绍与主题有关的详细资料、动态、进展、展望以及对以上方面的评述。因此文献综述的格式相对多样，但总的来说，一般都包含以下四部分：即前言、主题、总结和参考文献。撰写文献综述时可按这四部分拟写提纲，在根据提纲进行撰写工。 前言部分，主要是说明写作的目的，介绍有关的概念及定义以及综述的范围，扼要说明有关主题的现状或争论焦点，使读者对全文要叙述的问题有一个初步的轮廓。 主题部分，是综述的主体，其写法多样，没有固定的格式。可按年代顺序综述，也可按不同的问题进行综述，还可按不同的观点进行比较综述，不管用那一种格式综述，都要将所搜集到的文献资料归纳、整理及分析比较，阐明有关主题的历史背景、现状和发展方向，以及对这些问题的评述，主题部分应特别注意代表性强、具有科学性和创造性的文献引用和评述。 总结部分，与研究性论文的小结有些类似，将全文主题进行扼要总结，对所综述的主题有研究的作者，最好能提出自己的见解。 参考文献虽然放在文末，但却是文献综述的重要组成部分。因为它不仅表示对被引用文献作者的尊重及引用文献的依据，而且为读者深入探讨有关问题提供了文献查找线索。因此，应认真对待。参考文献的编排应条目清楚，查找方便，内容准确无误。关于参考文献的使用方法，录著项目及格式与研究论文相同，不再重复。
英国论文中哈佛注释体系的起源哈佛参考文献注释体系起源于美国，于20世纪50、60年代开始流行，尤其在物理学和自然科学研究领域使用最多，近年来在社会科学中也开始流行。怎样呈现参考文献呢？参考文献的呈现方式有一定的规范，本文就目前较为普遍使用的哈佛体系（Harvard System）来为大家作简单的介绍：因为在我们的学术研究中，参考了许多国外的文献或期刊，所以我们有必要熟悉它的要求并遵守其中的规范，否则当我们向国外的学术刊物投稿时，会因为参考文献不合规范而不被录用；同时，也不能为国内外的读者提供进一步研究的信息。以上就是为大家所讲述的关于哈佛注释体系的起源和运用，希望能够帮助到你了解哈佛注释体系和其运用方法，在英国留学期间对于这些问题的接触是比较多的，同学们如果在留学期间遇到这类问题而无法及时向老师进行咨询的话，可以咨询一些国内较为知名的留学服务网站，例如：51Due、留学府都是非常不错的留学服务网站，希望能够帮助到大家。
你可以到七七计算机毕业论文的毕业设计题目列表中找一份。有完整的论文和源码等，很详细
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列固为了减小摩擦的是( )独讨论某一点的隶属度毫无意义。对 错 (1) 小的混酥面坯制品
开题是核心啊,不能随便写啊
先写原作者再写译者。中外作者一律姓前名后，欧美国家的姓的部分用大写，名的部分用缩写但不加缩写点，如果用中译名可以只写姓，不便区分时，可以再姓后面加缩写。可以参考格式为原作者姓，原作者首字母以及原著出版年。翻译之后的书名、翻译者名首字母，翻译者姓。出版社、翻译本出版年。格式仅供参考，具体详细的格式可参考知网的相关文献。哈佛注释体系也叫作者-日期发，根据哈佛体系，每一个引文，无论直接或间接，都应分别在两处著名即在文中引用处注明和在全书最后的参考书目处注明。