该成果已在国际光刻领域期刊Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS发表。 超大规模集成电路先进光刻工艺中，图案尺寸越来越小、密度越来越高，显影后的残留缺陷对图案化的衬底表面越来越粘，如何有效去除显影缺陷一直是业界探讨的热点问题之一，国际上对此也尚未存在完备的解 …
2018年7月23号，爱尔兰都柏林圣三一大学殷硕教授访问中科院宁波材料所。受李华研究员邀请做先进增材制造技术的报告。殷硕博士，现就职于爱尔兰都柏林圣三一大学机械工程及制造学院，任助理教授、课题组负责人，研究方向包括冷喷涂涂层及快速成型技术、选区激光熔化金属3D打印技术以及立 …
计算光刻中心招生信息. 稿件来源：ICAC 责任编辑：ICAC 发布时间：2018-11-21. 工作地点：中国科学院微电子所. 薪金：每月定额生活补助. 研究方向：集成电路设计&工艺联合优化. 招聘岗位：联合培养研究生. 由于研究工作需要，本课题组诚招联合培养研究生2名 ...
光刻技术及其专利分析 发布时间：2020-07-18 17:10 所属平台：学报论文发表 浏览： 次 引言 光刻机是人类最精密复杂的机器，用于在芯片上刻出晶体管器件的结构和晶体管之间的连接通路。
5 月 19 日，上海微电子装备（集团）股份有限公司称，其自研的高亮度 LED 步进投影光刻机，是中国首台面向 6 英寸以下中小基底先进光刻应用领域 ...
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软光刻（soft lithography）是相对于微制造领域中占据主导地位的光刻 而言的微图形转移和微制造的新方法，以自组装单分子层、弹性印章和高聚物模塑技术为基础的微细加工新技术。它能制造复杂的三维结构及不规则曲面；能应用于生物高分子 ...
曝光波长为193nm的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至32nm节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外
提起光刻机，那真是中国40年的痛，我国在光刻机领域起步不落后，相信这张报纸的截图大家都看过，这是一张1977年的报纸谈国内光刻机的布局，文中对光刻机的重要性有正确的认知，这个时间比ASML成立要早了10年！可惜，我们错失了历史性机遇！
光刻胶 前段时间，中国芯片加工企业中芯国际向全球最大的芯片设备制造商—荷兰ASML订购了一台最先进的EUV光刻机，这台机器的价格高达1.2亿美元。据业内介绍，ASML一年只能生产十来台光刻机，有钱也不一定买得到。
获国际与国内授权发明专利160余项,在国际与国内光学与光刻领域主流期刊发表学术论文360余篇。培养博士研究生60余名(含我国高端光刻机整机技术领域第一批博士研究生)。戴凤钊中国科...
应用于光刻领域中的固态紫外激光源的制作雷亮;李凡;林清华;周金运;冉坐广东工业大学物理与光电工程学院摘要:以半导体侧泵钇铝石榴石激光器为泵浦源,采用腔内泵浦两块三硼酸...
纳米光刻技术;美国科学家;温度;纳米结构;材料表面;相似文献中文文献外文文献专利1.科学家发现温度在蘸笔纳米光刻技术中的作用[J]..纳米科技...
。。。光学、光电子学领域de著名学会、期刊及文献搜索平台本报告的主要内容:(一)三大文献索引系统(SCI,EI,ISTP)介绍(二)光学、光电子学领域的著名学(协)会、及其主办的期刊(...
产生满足高功率与高光束质量要求的三倍频355nm紫外激光.通过使用法拉第旋转器谐振腔优化设计与热效应补偿提高输出光的光束质量,并且使用体光栅作为输出镜,在实现线宽窄化...
在此之前我们要先了解一下光刻胶在光刻领域的作用，我们现在常见的芯片主要是硅基芯片，如果想要得到芯片，则需要在晶圆上打出电路图，纳米级别的芯片自然对电路图的要求级别更高，这...
JournalofMicro-NanolithographyMEMSandMOEMS杂志是国际集成电路工艺研究领域的知名学术期刊,主要刊登关于半导体光刻、制造、封装和器件集成技术等方面的原创性学术论...
获与国内授权发明160余项,在与国内光学与光刻领域主流期刊发表学术论文360余篇。培养博士研究生60余名(含我国高端光刻机整机技术领域博士研究生)。售后保障正品行货京东...
应用于光刻领域中的固态紫外激光源的制作被引量:1anovelultra-violetsolidstatelaserinlithography在线阅读免费下载导出摘要以半导体侧泵钇铝石榴石激光器为...
通过使用法拉第旋转器谐振腔优化设计与热效应补偿提高输出光的光束质量,并且使用体光栅作为输出镜,在实现线宽窄化同时保持准相位匹配的高效性能.该光刻用紫外激...