期刊 学者 订阅 收藏 论文查重 优惠 论文查重 开题分析 单篇购买 文献互助 用户中心 ... 引入石墨烯,本文以2009年S.Ruoff等人在铜箔上制备高质量石墨烯的的研究为基础,尝试采用化学气相沉积法(CVD)在铜粉表面自生石墨烯从而制备石墨烯铜复合粉体材料 ...
硅纳米线是近十几年来在纳米科学与技术领域快速发展的一种重要材料.通过精细的结构设计与材料合成,硅纳米线在生物传感、锂离子电池、太阳能电池和光电化学等领域展示出良好的应用前景.化学气相沉积(CVD)法是一大类重要的自下而上合成硅纳米线方法.本文简介了CVD法合成硅纳米线的主要进展 ...
化学气相沉积法制备InSe纳米片及其近红外光探测性能. 黄文娟1,候华毅1,陈相柏1,*(),翟天佑2,*() 1. 武汉工程大学光学信息与模式识别湖北省重点实验室, 武汉 430205. 2. 华中科技大学材料科学与工程学院, 材料成形与模具技术国家重点实验室, 武汉 430074. 收稿日期: 2019 ...
期刊 | 超光滑纳米金刚石薄膜制备新技术与应用基础研究 期刊 | 连续多试样纳米金刚石膜沉积设备及工艺 论文 | 热丝化学气相沉积法制备纳米金刚石薄膜 会议 | 大面积均匀纳米金刚石薄膜制备研究 报纸 | 我国表面纳米技术研究取 …
化学气相沉积法制备InSe纳米片及其近红外光探测性能. 摘要 采用化学气相沉积法在云母衬底上制备了二维In Se纳米片,研究了生长温度对二维In Se纳米片晶相、形貌、尺寸及厚度的影响.构筑了基于二维In Se纳米片的光探测器并研究了其光探测性能,结果表明,在808 nm ...
提供全面的“化学气相沉积法(CVD)”相关文献（论文）下载，论文摘要免费查询，化学气相沉积法(CVD)论文全文下载提供PDF格式文件。化学气相沉积法(CVD)中文、英文词汇释义（解释），“化学气相沉积法(CVD)”各类研究资料 …
化学气相沉积法制备碳化硅纤维，宋丽萍,张蓬洲-化工时刊1994年第11期杂志 在线阅读、文章下载。 全部分类 期刊 文学 艺术 科普 健康 生活 教育 财经 ...
摘要： 以Sn和SnO为源材料,化学气相沉积法中通过控制反应物配比及载气中的氧含量等宏观实验条件,实现了SnO2一维纳米结构的控制生长,成功获得各种不同横向尺度的SnO2纳米线,纳米带以及直径连续变化的针状纳米结构.通过扫描电子显微镜,X射线衍射仪对不同实验条件下所制备的样品进行形貌和晶格 ...
这种化学气相沉积法直接生长的二维材料微纳球腔，有望应用于高性能光学传感器和微纳光源器件中。 英文摘要 : Two-dimensional (2D) transition-metal dichalcogenides have …
期刊 学者 订阅 收藏 论文查重 优惠 论文查重 开题分析 单篇购买 文献互助 用户中心 微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法沉积氟化非晶碳薄膜的研究 ...
这也是自CVD石墨烯制备方法提出近十年来,综述期刊ChemicalReviews首次刊登石墨烯薄膜的化学气相沉积制备方面的综述文章。该文主要介绍碳材料的成键和制备历史、CVD法制备石墨烯的...
化学气相沉积法第一章化学气相沉积法1化学气相沉积法？对原料、产物和反应类型的要求？利用气态或蒸气态的物质在气相或气固界面上反应生成固态沉积物的技术。1．反应原料是...
国家纳米科学中心标准与检测重点实验室的刘新风课题组使用化学气相沉积法成功在硅片衬底上生长出具有高光学质量和稳定性的全无机钙钛矿CsPbBr3单晶纳米线材料,构建了表面等离激元器...
它还可与其他二维材料组成平面/垂直结构的异质结,展现出各种新奇的性能和在电子器件方面的潜在应用.如何可控制备大面积,高质量的六方氮化硼是目前研究的核心科学问题.本文主...
温度对化学气相沉积碳化硅涂层的影响[J].材料科学与工艺,2010,(4).575-578,583.[4]PedersenH.,LeoneS.,KordinaO.,etal.Chloride-basedCVDgrowthofsilic...
detail.%采用化学气相沉积法(CVD),在溅射了镍薄膜的硅基底上制备了定向碳纳米管薄膜.对镍薄膜的氨气预处理过程及其机理进行了研究.结果发现预处理后的岛状区域随着薄膜厚度的...
请教化学气相沉积法作者wangzhuo9736来源:小木虫2004举报帖子+关注请教大家一下关于实验,InthefirststepofpreparingtheNi(OH)2/CNT/NFelectro...
一种化学气相沉积方法包括下列步骤:提供高真空室,并且在高真空室内:放置基板表面;平行于基板表面放置掩模,其中掩模包括一个或多个开口;调节基板表面和掩模之间的确定的尺寸的...
碳化硅层厚为1～1.5mm。...图1硅化石墨配偶环剖面图制法硅化石墨的生产方法有化学气相沉积法(CVD),化学气相反应法(CVR)及液硅渗透反应法等3种方法。化学气相沉积(CVD)法使含...
(3)前置物在基板上进行化学反应,产生沉积物的化学分子,然后经积聚成核、迁移、成长等步骤,最后联合一...