刻蚀设备相关期刊投稿经验

自主可控。在2020年的时候，中微公司就已经推出了5nm的刻蚀机，这也得到了芯片制造的巨头公司台积电、三星等的大量订购。目前情况下，中微公司已经成为全球刻蚀机产业的中流砥柱。从制程设备到系统，全部都是中微公司独立自主制作。中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称“中微公司”）是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司，为集成电路和泛半导体行业提供具竞争力的高端设备和高质量的服务。

蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备，不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是蚀刻机。具体如下：

1、工作原理

如果把制造芯片比喻成盖房子，那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备，也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设，把不需要的地方给清除掉，只留下光刻过程中标注好的线路。

光刻机相当于画匠，刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光)，后者按这张图去刻线(就像刻印章一样，腐蚀和去除不需要的部分)。

2、结构

光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路，其光源和光路的主要组成部分有四个，光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下，蚀刻机的结构组成就要简单很多，主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。

3、售价

ASML的EUV光刻机单台售价很高，蚀刻机的售价要低很多了。

4、工艺

刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。

5、难度

光刻机的难度和精度大于刻蚀机。