SIPOS薄膜工艺及其稳定性研究研究,工艺,薄膜,SIPOS,稳定性,sipos,薄膜研究院,薄膜键盘,反馈意见大学学位论文独创性声明学位论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成中特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含其他人已经发表...
MOCVD+TiN阻挡层薄膜工艺性能研究(论文)上海交通大学硕士学位论文MOCVDTiN阻挡层薄膜工艺性能研究姓名：郑刚申请学位级别：硕士专业：软件工程指导教师：程秀兰朱建军20081220MOCVD随着集成电路器件尺寸的缩小晶体管的速度越来越快互连线的寄生电容和分布...
薄膜沉积技术及工艺.pdf,艺工与-术飞技钟积F沉膜薄FNS台-平工加薄膜工艺主要内容-引言F薄膜的一般特性PVD原理与工艺FCVD原理与工艺氧化原理与工艺NS-薄膜工艺MOS晶体管中的薄膜层-氮化硅顶部F氧化层金属层ILD...
PECVD法沉积氮化硅薄膜性质工艺实验研究第38卷，增刊红外与激光工程2009年11Vol.38SupplementInfraredLaserEngineeringNov.2009（北京邮电大学信息光子学与光通信教育部重点实验室，北京100876）摘要：使用新型HQ-3型等离子体增强...
袁媛;耿学文;李美成;;LPCVD微晶硅薄膜及热处理工艺研究[A];2009年先进光学技术及其应用研讨会论文集（上册）[C];2009年3王莎莎;陈兢;张海霞;;不同牺牲层材料上LPCVD氮化硅薄膜内应力的测试与研究[A];中国微米、纳米技术第七届学术会年会论文集4
bto铁电薄膜溶胶凝胶工艺研究word格式论文.docx,ClassifiedIndex：TG15U.D.C.:621.78DissertationfortheMasterDegreeinEngineeringSOL-GELFABRICATIONPROCESSOFBTOTHINFILMSCandidate：LiHuameiSupervisor：Meng
图题是杭州西湖美景。欢迎来杭州考察交流，共同探讨钙钛矿光电技术。这次内容主要是总结一下干法钙钛矿薄膜工艺，主要参考如下6篇论文，分为01和02两篇专栏文章发表。1.Efficientplanarheterojunctionpe…
通过控制薄膜工艺参数的变化,从而获得各个其对不同折射率光学薄膜厚度均匀性的影响趋势。研究PECVD光学薄膜均匀性控制技术,明确光学薄膜过程中均匀性的控制方法,对于采用PECVD技术光学薄膜的应用有着广泛的意义。
PECVD多晶硅薄膜工艺和性能的研究.Recently,withtherapiddevelopmentofsolarphotovoltaictechnology,liquidcrystalandtheotherfields,thepolycrystallinethinfilmsplayaimportantroleaselectronicmaterials,duetoitsperfectopticalperformanceandlowcost.Moreconcernsareputonthestudyofpolycrystalline...
本论文结合公司现有的工艺设备条件，采用等离子增强化学气相沉积（PECVDPlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition）方法，利用英国牛津公司的plasmalab80plusPECVD设备对用于激光器掩蔽膜和绝缘膜的氧化硅薄膜沉积工艺进行了研究。论文首先
薄膜技术与工艺论文.doc,AZO薄膜光电性能的研究AZO薄膜的应用和发展及其主要性质作为新型太阳能电池窗口层应用的AZO薄膜,是性质优良的Ⅱ一Ⅵ族掺杂宽带隙直接...
778578p穷分类号——密级——U硕士学位论文BOPP薄膜制造工艺的研究与实践学位申请人:学科专业:工业工程指导教师:刘怀兰副教授论文答辩日期2Q笾生!且22旦...
内容提示:薄膜混合集成电路的制作工艺中心议题:多晶硅薄膜的摘要:本文主要介绍了多晶硅薄膜工艺,阐述了具体的工艺流程,从低压化学气相沉积(LPC...
UV油墨凸印是印刷质量好、效率高、是一种在中国最有发展,最适合国情的印刷工艺。由于国内的凸印设备普遍不带UV装置,薄膜印刷受到局限,所以设备更新,改造是印刷...
摘要:本研究采用封闭磁场非平衡磁控溅射法,在高速钢M42表面覆盖CrN薄膜;利用SEM表征薄膜组织结构和表面形貌,并用洛氏硬度计压坑法测定薄膜的结合性能,用MH-5显微...
年产4000吨PP薄膜挤吹成型工艺设计(论文)开题报告.doc,洛阳理工学院毕业设计(论文)开题报告系(部):年月日(学生填表)课题名称年产4000吨PP薄膜挤吹成型工艺...
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