会议论文的英文文献参考格式

1、全文 word2000或word2003排版。论文标题：小二号字、黑体、居中。 2、作者署名 小四号字、楷体、居中；两个以上作者时，名字之间空2格。 3、中文摘要及关键词 小五号字、宋体，“摘要”和“关键词”加黑。关键词间空格隔开。 4、英文摘要 全部为timesnewroman字体；标题为小四号字、首字母大写，其余全小写；“作者姓名”五号字，汉语“姓名”译法采用“姓”前“名”后，在正文标题下的“作者姓名”为“姓”全部大写，“名”首字母大写，“名”为两个字时，中间加一短线；摘要正文小五号字体，“abstract”和“keywords”加黑，关键词间用“;”隔开。 5、首页脚注标识作者简介 注明第一作者姓名（出生年-），性别，民族（汉族可省略），职称，学历，学位及主要研究方向，电话，e-mail等。脚注一律用圈码。 6、量和单位 按国际标准中关于量和单位的规定和我国法定计量单位书写。数字和年份之间统一用“～”。计量单位要统一,采用国家标准规定的kg、hm2等。超过4位数的阿拉伯数字采用三位分节法,即在小数点左、右每三位数留出1/4字距的间隔。 7、正文 五号字、宋体;每段的首行缩进为两个汉字;两端对齐;正文单倍行距。 8、文中标题 一级标题：四号字、黑体、左对齐；用“1”、“2”、“3”等表示序号； 二级标题：小四号字、黑体、左对齐；用“”、“”、“”等表示； 三级标题：五号字、黑体、左对齐；用“”、“”、“”等。 所有标题后空一格，写标题名。 9、图片要求 图表题黑体、小五号字。表一律用三线表。excel作图要带数据源。图中所用文字一律用8号字（非“八号”字）。中文用宋体，英文、数字用timesnewroman。半栏图宽不超过；通栏图宽不超过；照片图需提供清晰照片。图按照在正文中出现的先后顺序来依次编号；随文排图、表；图设图序、图题；图题置于图形的下方。 10、参考文献编排格式 引用文献采用顺序编码制，著录顺序按在论文中所引用文献出现的先后连续编号。“参考文献”四字，四号黑体。参考文献小五号字，中文为宋体，英文、数字用timesnewroman；两端对齐；用“[1]”、“[2]”、“[3]”等表示序号。所有符号采用英文状态下半角格式。 （1）期刊：作者（列出所有作者，之间用“，”分开，下同），题目，期刊名（全称，勿缩写，英文刊名应为斜体），年，（卷期）：起～止页。 （2）专著：著（编）者，书名，版次（初版省略），出版地：出版者，出版年份：起～止页。 （3）论文集：作者，题目，本文集的主编姓名，论文集名，出版地：出版者，出版年：起～止页。

英文文献的参考文献格式如下：

1、Journal（期刊）

期刊（Journal）是最常见的参考文献类型，一般需要依次列出以下信息：作者、文章的题目、期刊名称、发表年份、卷号、页码。提醒：页码也可由DOI、文章编号(ArticleNumber)代替，期刊类型参考文献也可以改成网页类型。

2、Book（书）

参考文献为书（Book），一般需要列出的信息有：作者、书名、出版社、出版社地点（包括城市和国家）、年份、页码。

3、书中的Chapter（章节）

书中的某个章节（Chapter），需要流出的信息有：作者、章节的题目、书名、编辑、出版社、出版社地点（包括城市和国家）、年份、卷号、页码。

4、还未发表的文章（UnpublishedWork）

引用了一篇还未发表的文章，你需要列出以下信息：作者、文章题目、期刊名称、阶段。

5、个人通讯（Personalcommunication）

个人通讯一般需要你列出作者所在机构和通讯时间。

6、论文（Thesis）

在参考文献中，也会出现硕士和博士论文的引用，需要给出的信息有：作者、论文题目、论文级别（硕士还是博士）、大学名称、大学地址（城市和国家）、完成时间。

7、会议（Proceedings）

一个学术会议也可以被引用。一般所需的信息有：作者、会议的名称、会议的地址（城市和国家）会议的时间。

不管毕业论文，还是学术论文，有一项必不可少的就是要在文章的最后加上参考文献，为了不影响文章的整体效果，参考文文献的格式还是要注意下的，特别是英文的参考文献格式。下面就来简单的说一下吧。基本格式大概是：[序号] 作者姓名，文章名称，出版处，时间字体的话：新罗马，五号字体（具体以实际投稿处的要求为准）其中需要注意的一点就是引用文章的作者姓名的书写原则，一般采用“名在前，姓在后”，具体格式是“名字的首字母，姓”，例如：，剩下的作者可以是跟第一作者一样。可以看到很多文献中，第一和其他作者的姓名一样的书写格式。中文名称也是一样的，名字在前，姓在后，如薛青禾即如：[1] ，，，，Carbon 45（2007）1899.[29] H. Fakih,S. Jacques,. Berthet, F. Bosselet,O. Dezellus, growth of Ti3SiC2 coatings onto SiC by reactive chemical vapor deposition using H 2 and TiCl 4[J]. Surface & Coatings .[30] , , , . Analysis of interlayer between WC–Co and CVD diamond film. Key Engineering Material, 2008,375-376:p92-94.