刻蚀设备相关期刊投稿邮箱

刻蚀相关文献总结

0 前言刻蚀是芯片制造中除光刻外最重要的步骤，主要目的是将光刻胶上的形状准确的留在芯片表面。这是一个庞大的体系，本次总结的论文阅读量较低导致涉及到

武汉理工麦立强Nanoene

【亮点】 (1)通过H2等离子体刻蚀成功制备了具有氧空位的α-MoO3-x。 (2)所制备的α-MoO3-x扩大了范德瓦尔斯间隙并降低了带隙。 (3)具有适度氧空位的α-MoO3-x具有提高的结构稳定性

征文通知第八届亚太光学制造

光学精密加工检测设备(快速抛光机、铣磨机、古典抛光机、数控抛光机、机器人抛光、精密车床、半导体晶圆加工设备;三坐标、轮廓仪、干涉检测仪、球径仪、疵病仪、应力仪等) 极端制造

微电子所先导中心准原子层刻蚀技术最新进展

微电子所先导中心准原子层刻蚀技术最新进展. 近日，中科院微电子所先导中心在美国电化学会《固态科学与技术杂志》发表了文章：Study of Isotropic and Si

半导体技术期刊

投稿说明: 1、通过本网站直接论文或将论文发到投稿邮箱: 。 2、论文邮件标题格式:《半导体技术》+作者姓名+联系方式+论文投稿。 3、论文应立论新颖、主题明确、论据充分、数据

一文看懂半导体刻蚀设备

制程升级带动刻蚀机使用提升 从近年来各主要半导体设备资本开支量占比来看，刻蚀机份额占比有显著提升。在2010年之前，刻蚀机资本开支占比一直维持在15%

电子工业专用设备

期刊简介 建设中 本期目次 半导体制造工艺与设备 低压化学气相沉积制备低应力氮化硅膜的研究 张泽东;申强;周健;祖二健;2023年02期 No.299 1-5+9页[查看摘要][在线阅读][下载289K]

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夏春晓;XIA Chun-xiao;北京自动化控制设备研究所;Beijing Institute of Automatic Control Equipment 摘要: 增大敏感结构厚度是提高微机电陀螺性能的一个途径。对大厚度敏感结构,在刻蚀过程中易出

ECR刻蚀设备微机控制系统硬件设计

【期刊名称】《中国集成电路》 【年(卷),期】2002(000)012 【摘要】ECR 刻蚀设备是利用电子在微波和磁场中的回旋共振效应,在真空条件下 形成高密度、高活性的等离子体,进行低