刻蚀设备相关期刊投稿要求

国产刻蚀设备

中微半导体共有CCP刻蚀机、ICP刻蚀机、TSV/MEMS刻蚀机、MOCVD、VOC等五大类产品，以下介绍主要针对其刻蚀产品。

便携式激光蚀刻设备技术规范

本文件规定了便携式激光蚀刻设备的术语和定义、分类、型号与命名、技术要求、试验方法、检验 规则以及包装、运输和贮存。 本文件适用于国家电网有限公司便

一文看懂半导体刻蚀设备

制程升级带动刻蚀机使用提升 从近年来各主要半导体设备资本开支量占比来看，刻蚀机份额占比有显著提升。在2010年之前，刻蚀机资本开支占比一直维持在15%

微纳电子技术杂志发表

4.参考文献格式著录项目齐全,如期刊为:“作者.文题(文献类型J).期刊名,出版年;卷（期）:页.”；5.英文稿件请同时提供该文的中文稿;6.提供作者简介；7.提供您的准确电话号码和e-mail

二氧化硅纳米球的刻蚀处理

求助：有没有做过二氧化硅表面刻蚀处理实验的，最后得到“针尖”状的微球。求高手指点！

电子工业专用设备杂志

投稿咨询 期刊简介 电子工业专用设备杂志基础信息: 《电子工业专用设备》杂志是由中国信息产业部主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办,中国电子专用设备工业协会会刊;是业内最具权威的国

ECR刻蚀设备微机控制系统硬件设计

【期刊名称】《中国集成电路》 【年(卷),期】2002(000)012 【摘要】ECR 刻蚀设备是利用电子在微波和磁场中的回旋共振效应,在真空条件下 形成高密度、高活性的等离子体,进行低

微纳电子与智能制造

投稿须知 论文模板 著作权转让声明 访问量统计 访问量:20794 期刊简介 主办单位:北京方略信息科技有限公司;北京市电子科技情报研究所 出版周期:季刊 ISSN:2096-658X CN:10-1594/TN 出版地:北京市