等离子体工艺对MOS器件的损伤研究.唐瑜.【摘要】：为了提高电路的速度和缩小电路耗散功率,半导体器件的尺寸不断的缩小,减小尺寸通常要依靠刻蚀技术来实现。.等离子刻蚀是目前VLSI中最常用的方法。.由于等离子体工艺的优点,在集成电路制造中而被广泛的...
高密度等离子体工艺总体模型初探,等离子体,模型,数值模拟。介绍了与高密度等离子体工艺相关的模型和数值模拟方法,即连续流和动力学方法。在漂流扩散方程的连续流模型和单元粒子蒙特卡罗...
尔南人学硕十学位论文摘要低温等离子体脱硫脱氮技术是一种新型的大气污染物处理技术。在用于脱除工业过程尾气（S02和N0。）时，它较许多传统工艺具有更多优点，如反应速度快，能耗低，不易造成二次污染等。
根据研究论文，等离子体技术已经应用到目前的3D打印工艺中，例如用来改善粉末床激光烧结3D打印部件的表面质量。此外，还能够用于对SLS3D打印材料进行预处理，从而将降低孔隙率。
最新博士论文—《等离子体抛光关键技术研究》摘要第1-6页abstract第6-15页第1章绪论第15-39页1.1引言第15-17页1.2光学元件的技术
单光纤通道对应检测孔外0~3.5mm的等离子体，并且将实验测出的波长在334.5nm和481.0nm处的谱线强度值取出，然后利用式（3）计算出每组实验得到的等离子体温度，工艺参数和等离子体温度值如表3所示。
四川大学硕士学位论文常压射频冷等离子体系统及其在光刻胶去除技术中的应用姓名：李海江申请学位级别：硕士专业：凝聚态物理指导教师：石瑞英2005051527583S常压射频冷等离子体系统及其在光刻胶去除技术中的应用凝聚态物理专ik研究生：李海江指导教师：石瑞英光刻胶去除技术在微...
等离子体特种垃圾焚烧炉工艺.doc,等离子体特种垃圾焚烧炉工艺????一、“等离子体特种垃圾焚烧炉”???目前在我国主要的是医疗垃圾和工业危险垃圾最为严重。医疗废物包括使用过的注射器、针头、输液管、纱布、药瓶、废医疗塑料制品、有毒棉球、废敷料、手术残物、动物实验废弃物、感光...
等离子体放电及与材料相互作用示意图鉴于等离子体放电与材料相互作用领域关键物理问题研究的挑战性与紧迫性，《物理学报》特组织“等离子体物理及其材料处理”专题，邀请国内部分活跃在该领域前沿的专家撰稿，以综述和研究论文的形式，从等离子体物理及其材料处理的角度，较全面...
金堆城钼业公司技术研究员，主持项目十余项，发表专利、论文二十多篇，长期从事等离子体球形金属粉末工艺及工装设备研究，主要研究直流等离子体、感应等离子体设备的产业化、国产化，同时对前驱粉末在等离子炬中的致密化…
ul.iac等离子体刻蚀工艺的物理基础大连理工大学物理系三束材料表面改性国家重点实验室大连116024)摘要介绍了等离子体刻蚀工艺背景以及有关等离子体刻蚀机...
我国等离子体工艺的研究进展3.pdf,知识和进展我国等离子体工艺研究进展吴承康(中国科学院力学研究所北京100080)摘要扼要综述了我国等离子体材料工艺研...
等离子体二氧化硅表面改性工艺研究化学工程与工艺毕业论文.doc,本科生毕业设计题目等离子体二氧化硅表面改性工艺研究学院化工学院专业化学工程与工艺学...
通过台阶仪的测量,实验结果表明优化工艺条件下的硅化物的刻蚀具有较高的刻蚀速率和较高的选择比。关键词:等离子体;干法刻蚀;刻蚀速率;均匀性前言干法刻蚀技...
内容提示:论文:等离子体刻蚀工艺的优化研究论文网本文作者(王晓光朱晓明尹延昭),请您在阅读本文时尊重作者版权。摘要:本文基于对硅的等离子刻蚀(RIE)工艺...
工学硕士学位论文钢铁表面等离子体氧化的工艺研究哈尔滨工业大学2007国内图书分类号:TG174.453国际图书分类号:621.793工学硕士学位论文钢铁表面等离子体氧...
表面等离子体激元论文.doc,表面等离子体激元引言表面等离子体激元(SurfacePlasmonPolaritons,SPPs)是光和金属表面的自由电子相互作用所引起的一种电磁...
其次描述了基于金属膜/介质膜/纳米线结构的纳米等离子体激光器基本原理以及发光机制,并对此结构进行了模拟。同时论文依据几何光学原理设计了微透镜阵列,用以提升激光器激...
等离子体处理技术效率高,节约能耗,可缩短工艺流程,在处理过程中,不使用酸碱化工原料,避免了高温潮湿的生产环境,减轻劳动强度,保护工人身体健康,提高全员劳动...
7月5日,国际应用物理类学术期刊《应用物理学杂志》(JAP)发表了中国科学院西安光学精密机械研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室等离子体学科研究论文Adiffuseplasmajetgenerat...