微电子工艺——光刻工艺学生姓名电子科学与技术指导教师二O一三光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京摘要：光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。.被...
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
在生产制造中，设备对准不佳导致的图形异常会带来大量的资源浪费，如把异常的制品重新返工、甚至报废。.本论文首先阐述了光学光刻工艺的方法，然后研究了光刻机的对准原理，围绕引起图形异常的原因，系统研究了解决图形异常的方法，包括针对nikon设备...
机械电子工程光刻机结构动力学建模与机械,工程,机电,动力学,光刻机,建模与,国产光刻机,光刻机原理华中科技大学硕士学位论文光刻机结构动力学建模与姓名：谢德东申请学位级别：硕士专业：机械电子工程指导教师：陈学东20070104在集成电路制造业中，光刻机是精度最高，技术...
制造光刻机有多难？美国的工程师说过：仅仅是光刻机其中的一个小零件我都调了整整十年！荷兰ASML表示：我就算公开图纸，别人也造不出光刻机。ASML光刻机采用了多个国家的顶尖技术与硬件，由多家巨头公司共同合力…
荷兰ASML制造的光刻机，光源技术是美国的、光学设备是日本的、轴承是瑞典的、阀件是法国的、机械工艺和蔡司镜头是德国的、制造技术则是来自台积电和三星，这些都是全球顶尖企业生产的最新设备，这也就是为什么没有任何一个国家能够在所有领域都拔尖
因而，日本半导体业内人士认为，中国正在加快推进半导体的自主生产，“尼康存在争取到中国半导体厂商的空间”。尼康在研发新一代光刻机NSR-S636E时，是否会有意识地搞出一款尽量降低美国技术含量乃至去美国化的光刻机，主打中国市场？可能性是存在的。
光刻机技术目前是世界上最尖端的技术之一，只有少量国家掌握，所以光刻机的价格是非常昂贵的，一台高端的光刻机甚至可以卖到6亿元左右（目前全球最贵的EUV光刻机单台售价已经超过6.3亿元），即便卖这么贵还供不应求，…
来源：芯论语摘要：芯片制造用到的技术很多，光刻是芯片制造的灵魂技术，但是开始的时候，光刻并不是所有技术中最厉害的。现在大众认识到了芯片的重要性，讨论芯片产业的卡脖子问题时，提到最多的是光刻和光刻机。
来源:半导体观察.原标题：全球光刻机发展概况以及半导体装备国产化.据芯思想，光刻机是集成电路制造中最精密复杂、难度最高、价格最昂贵的设备，用于在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移，看国际巨头ASML的技术发展，国产半导体装备...