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常州信息职业技术学院电子与电气工程学院毕业设计论文二氧化硅薄膜的主要方法3.1热氧化法3.1.1干氧氧化干氧氧化的生长机理是：在高温下，当氧气与硅片接触式，分子与其表面的硅原子反应，生成二氧化硅的起始层，其反应的方程式为：SiO由于...
镀膜工艺是用C四或PvD法在基膜上镀硅氧化台物而成的，它是本工艺的关键技术，其相应的工艺设备也是本项目投资最大的部分．由上所述，cvD法有一定的环境污染，投费也较大，且产品的质量一致性较差，所以一般采用P、『D法，郎在高真空状态
本论文主要介绍了圆盘以及椭圆结构硅介质超表面结构设计及其传感技术。.当入射光场垂直照射到超表面上时,能够产生品质因数较小的电谐振和磁谐振;设计超表面的结构形状以及参数,可以实现品质因数较大的法诺谐振以及连续域态谐振。.产生电谐振和磁...
溶胶凝胶镀膜技术综述连载5[论文设计],溶胶凝胶法,溶胶凝胶法原理,溶胶凝胶,溶胶凝胶法薄膜,溶胶凝胶原理与技术,溶胶和凝胶的区别,溶胶凝胶法的优缺点,溶胶凝胶法氧化锌,溶胶凝胶法纳…
PECVD氮化硅薄膜的研究进展毕业设计（论文）（2013届）题目PECVD氮化硅薄膜的研究进展学号1003020147姓名钟建斌所属系新能源科学与工程学院专业材料及技术应用班级10材料（1）班指导教师胡耐根新余学院...
2014磁控溅射镀膜技术文献综述论文.doc,磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，具有很高的经济价值。
[表面强化技术]53磨粒强化表面材料动态再结晶行为的研究(53-69)[作者]洪远，孙聪，修世超，姚云龙，XinChen70喷丸改善Q235B焊接接头残余应力场的数值模拟(70-80)[作者]邢家麒，吴跟上，赵树森，贺占蜀，李延民，邵景干，余桧鑫81喷丸强化残余应力对AISI304不锈钢疲劳裂纹扩展行为的影响...
表面硅技术是以硅片作集成化、微型化的产品为传统的仪器及设备打开基片，通过电极与光刻形成多层薄膜图形，再把了新的应用空间，因而出现了微机械、微光学等下面的牺牲层经刻蚀去除，保留上面结构图形的在技术上与硅微
世界各地纷纷采取一系列相关政策，加大对光伏产业的财政补贴，促使光伏技术快速进步，生产规模不断壮大，早日实现光伏发电的大规模普衬底表面，利用POCl3液态源扩散工艺制得厚度约为0.5um型层接触，形成pn结，产生光伏效应。
PVD镀膜的基本方式、材料种类及其竞争格局.PVD（PhysicalVaporDeposition）技术是薄膜材料的主要技术之一，在真空条件下采用物理方法，将某种材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有增透...
(论文)氮化硅陶瓷表面的镀膜方法下载积分:1500内容提示:f中外技术情报l994年第8期外光等照射,使之固化。宴施倒t在一带有温度计、搅拌器和环流...
光学镜片材料及其镀膜技术一.镜片的材料特性k@s<*Ch-sO7M0E]眼镜片的光学目的旨在通过配戴矫正镜片使屈光不正的眼睛恢复清晰视力,所以在选用镜片材料时需...
氧化硅镀膜产品应用及生产技术装备_IT/计算机_专业资料。介绍氧化硅镀膜原料技术生产装备及应用。维普资讯cqvip薛峰等/化硅镀膜产品应用及生产技术装备...
【摘要】:本文通过原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了APCVD法硅镀膜玻璃硅薄膜的表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率...
中国电子科学研究院学报JournalCAEITVol.Apr.2008收稿日期:2007206220修订日期:2007211220工程与应用硅片表面磨削技术的应用研究(中国电子科技集团公...
此薄膜能有效增加表面的散射湮反射,降低由镜面反射造成的光污染.3结果与分析关键词:A1w2VDI删{硅镀膜玻璃;衰面彤貌图】所示为不恳沉积温度下茂对太阳光的...
硅薄膜的及光学性能研究_硕士论文范文摘要:本文采用磁控溅射技术,通过改变溅射功率了系列非晶硅薄膜,并研究了薄膜的光学性能。结果发现,随着溅射功率的提高,硅薄膜生...
2郭亚军;轴瓦磁控溅射镀膜技术及其材料力学性能研究[D];哈尔滨工程大学;2002年3俞晓正;微颗粒表面磁控溅射镀膜研究[D];北京航空航天大学;2008年中国硕士学位论文全文数据库...
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飞秒激光在硅表面微结构的研究_(精品论文)下载积分:1300内容提示:中文摘要激光微技术在半导体工业中有着很好的应用前景。作为新的手段,飞秒激光...