激光掺杂选择性发射极太阳电池的研究摘要随着低成本高效太阳电池的日益发展，激光开始作为一种快速、廉价、安全手段进入光伏领域。本文分别采用红外激光和绿激光对硅片进行掺杂，对比研究不同激光掺杂工艺之间的优劣，最后应用绿激光尝试性地一批选择性发射极太阳电池，并...
但此方法为纯化学反应，反应的稳定性不易控制，而且影响制绒效果的因素众多，比如滚轮速度、反应温度、硅片掺杂水平以及原始硅片的表面状况等。2.1.2一次清洗工序的工艺参数本工序采用由腐蚀槽、碱洗槽、酸洗槽构成的自动制绒设备。
掺杂玻璃及其均一地扩散到硅片上,从而提供非常好的表面方块电阻均匀性,尤其对于较大直径的硅片来说,均匀性的改善更为明显。2.低能耗。固态扩散源可以在低温下(例如825℃)使用并得到较大的方块电阻,同时精确控制掺杂量,可以胜任当今高端器件的生产需求。
扩散掺杂工艺（扩散与离子注入）.ppt,第三章扩散;扩散;替位式扩散：杂质离子占据硅原子位置：Ⅲ、Ⅴ族元素高温(950~1280℃)下进行，横向扩散严重。对设备要求较低。磷、硼、砷等在SiO2中的D均远小于在硅中D，可用氧化层作掩蔽层。间隙式...
晶体硅太阳能电池片的生产流程.制绒，是指处理硅片的一种工艺方法，利用硅的各向异性腐蚀特性，使用腐蚀液在硅片表面刻出类似于金字塔或者是蜂窝状的结构。.制绒按硅原料的不同可分为单晶制绒与多晶制绒，按腐蚀液的酸碱性可分为酸制绒与碱制绒...
2.3.3刻蚀与镀膜工艺刻蚀的目的便是去除因扩散而形成的边缘p-n结。完成扩散后，硅片周边将不可避免地形成p-n结，周边p-n结的存在将导致电池产生很大的旁路漏电。相当于在电池正负极间连有导线。因此在进行后续工艺前，必须对硅片周边p-n结进行去除。
聊完光刻、掺杂，今天我们来简单聊聊半导体工艺中的另一项工艺技术——刻蚀。前面我们聊到光刻是将图形转移到覆盖在半导体硅片表面的光刻胶上的过程。这些图形必须再转移到光刻胶下面组成器件的各薄层上，这一工…
掺杂的方式有热扩散和离子注入.PPT,微电子制造技术第17章掺杂概述本征硅的导电性能很差，是不能直接用于芯片制造的，只有在硅中加入一定的杂质，使电导率发生明显变化时，硅才可以用于半导体制造。在硅中加入杂质的过程称为掺杂。
硅片表面的几种处理方法和步骤一.硅片的预处理:(1)硅片切割:根据所需大小,用玻璃刀进行硅片的切割.操作时需要在洁净的环境中,并带一次性手套,以避免污染硅片.先在桌面平铺一张干净的称量纸,用镊子小心夹持硅片的边缘,将其正面朝上(光亮面)放于称量纸上:再取一张干净的称量纸覆盖于硅片...
20世纪末，我们的生活中处处可见“硅”的身影和作用，晶体硅太阳能电池是近15年来形成产业化最快的。.生产过程大致可分为五个步骤：a、提纯过程b、拉棒过程切片过程d、制电池过程e、封装过程。.2．太阳能发电方式2.1光—热—电转换—热—电转换...
利用硅浆料的硅片掺杂,高煜,皮孝东,本文介绍了一种基于硅浆料的硅片掺杂方法。用冷等离子体法出掺杂(硼或磷)的纳米硅颗粒,随后将其分散在有机溶剂中形成硅浆
精品论文利用硅浆料的硅片掺杂(浙江大学材料科学与工程学院,浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州310027)摘要:本文介绍了一种基于硅浆料的硅片掺杂方法。用冷等...
本发明提供一种对硅表面进行沉积掺杂的工艺方法,包括一个能够容纳硅片并能够允许硅在其中进行表面沉积掺杂反应的腔室,所述腔室内能够被通入用于沉积掺杂和/或有利于沉积掺杂...
本发明涉及一种在半导体硅片上淀积与掺杂Pt的工艺方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:步骤一:将氯铂酸与异丙醇按照1g:10—100ml比例进行混合,混合后在常温下...
半导体工艺掺杂原理及技术.ppt,离子注入是一种将带电的且具有能量的粒子注入衬底硅的过程。注入能量介于1keV到1MeV之间,注入深度平均可达10nm~10μm,离子剂量变...
掺杂的最高极限约1021atoms/cm3,最低1013atoms/cm3,4.1掺杂,a,14,扩散原理扩散是微电子工艺中最基本的平面工艺,在约1000的高温、p型或n型杂质气氛中,杂质向衬底硅片的确定区域内扩散,...
所述促进气体能够用于促进反应气体对于分解或吸附在硅片表面或与硅片表面物质发生的反应,所述促进气体可以包括氢气。在工艺过程中,所述主反应气体和所述掺杂源...
资源描述《对硅片表面进行沉积掺杂的工艺方法.pdf》由会员分享,可在线阅读,更多相关《对硅片表面进行沉积掺杂的工艺方法.pdf(11页珍藏版)》请在专利查询网上搜索。1、(19)中华人民...
孙金坛,程国文,张光荣,王和庆,王爱平,张昌林.激光对硅片掺杂和退火的研究[J].中国激光,1982,9(5):83您的浏览器不支持PDF插件,请使用最新的(Chrome/FireFox等)浏览器...
玻璃沉积在硅表面,硼向硅内部扩散,扩散炉内的氮气流量较低时,可以使扩散更加均匀比较研究常用扩散方法的比较扩散方法特点简单涂布源扩散设备简单,操作方便;工艺...