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第一作者：丁雅妮通讯作者：高继慧，周伟通讯单位：哈尔滨工业大学论文DOI：10.1002/admi.202002091背景介绍过氧化氢（H2O2）是世界上最重要的100种化学品之一，被应用于工业，纸浆和漂白，半导体清洁，医疗灭菌，环境处理和能量存储等领域。。目前H2O2主要通过蒽醌法，但仍...
博士论文题目：“氧化铝单晶的清洗和溶液界面荷电性质研究”(Doctoralthesis:SurfaceCleaningandMicrostructureControlandAqueousChargingPropertiesofAluminaSingleCrystals)李娜(LiNa)，哈尔滨工业大学(HarbinInstTechnol)，讲师(Lecturer)。
我想问问知乎上的各位21届硕士研究生们，你们的毕业论文进度咋样了？一起来互相伤害呀4.11近三周的时间，茫茫，社畜加论文模式太让人哭泣了。预答辩时间定了，4.26号，近几天忙着修…
美国禁售芯片，中兴遭受沉重打击，国产芯片可替代进口么？有哪些公司可成长为芯片巨头？图源|hellerindustries前面我们提到，因为疫情位于马来西亚的晶圆工厂无法正常提供6吋晶圆，实际上从去年年初开始就满载的8吋晶圆一样持续缺货。
二维过渡金属硫属化物的与电化学催化应用.利用清洁能源、提高能效，创造一个美好的新世界，是人类孜孜不倦的追求。.本次报告将从两个方面，展现二维材料在此过程中发挥的独特的作用：在材料方面，二维材料的可控一直是大家重点关注的...
2017年10月12日，中国半导体业界、学界数十位响当当的人物齐聚北京，为90岁的黄敞庆贺。他们中的大多数或曾受黄敞教导，或曾受其荫泽。在那场以...
当前，尽早实现碳达峰和碳中和已成为国际社会的共识与行动。“十四五”时期，在碳达峰、碳中和的背景下，我国将大力调整能源结构，规划建设以新能源为主体的新型绿色电力，我国新能源产业将迎来快速发展期。中国的碳
主题词：半导体清洗技术进展摘要：最近这几年来,电子技术得到了空前的发展。随着市场经济中对于半导体器件与大量的集成电路的需求数量的不断增多,这也就要求了其性能性与...
哈尔滨工业大学工程硕士学位论文14清洗ITO玻璃基片本次试验采用ITO导电玻璃作为衬底先用洗洁精和去离子水将ITO导电玻璃表面的有机物和灰尘去除掉随后泡在洗...
半导体硅片清洗工艺的发展研究【摘要】随着大规模集成电路的发展,集成度的不断提高,线宽的不断减小,对硅片的质量要求也越来越高,特别是对硅抛光片的表面质量...
半导体清洗术的发展.doc,摘要半导体硅作为现代电子工业的基础材料己有半个世纪的历史,随着硅材料的精密化发展,基体表面的亚微米污物足以导致大量缺陷产生并对...
本发明是关于一种半导体晶片的清洗方法与系统.该清洗方法的起始是通过使用一种将化学溶液施加到晶片表面的清洗刷来刷洗晶片的表面.在一实施例中,该清洗刷是施行通过刷子(TTB,...
相关论文(和本文研究主题相同或者相近的论文)[1]闫志瑞.半导体硅片清洗工艺发展方向[J].电子工业专用设备,2004,33(9):23-26.doi:10.3969/j.issn.1004-4507.200...