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(3)匀胶机。半导体材料的基础工艺设备之用于在半导体材料表面均匀涂抹胶液。即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，可通过调节转速及时间控制胶液的厚度。(4)刻蚀机。
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匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蚀中也被广泛使用。.由我司提供的匀胶机,在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉,相信能满足您多种不同应用要求。.产地：MIDAS公司，.型号：SPIN-1200.匀胶机通用参数:旋转衬底最大尺寸：4...
来源：内容由公众号半导体行业观察（ID：icbank），转载自「中国电子报」，作者陈炳欣，谢谢。作为信息化时代的核心基石，集成电路的重要性逐渐为人们所认知。但是发展集成电路是一项系统性工程，它涉及设计、…
来源：本文由微信公众号半导体行业观察（ID：icbank）原创。前些天，我国本土半导体设备传来好消息，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5nm制程…
上海微世半导体有限公司,以强大的专业团队研究、开发、生产与销售芯片设备，并拥有资深设计开发人员以及专业的组装调试维修技术骨干，专注于红外激光切割机、紫外激光切割机、晶圆激光刻号机、探针台、打孔机、扩散炉、LPCVD(低压化学气相沉积)的研发与销售.
行业俗称:匀胶台,甩胶机,涂胶机,镀膜机,涂层机品牌SIYOUYEN型号KW-4A型(国家级技术标准）产品概述:KW型匀胶机适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆.匀胶机稳定的转速和快速的启动,可以保证半导体中胶
公司致力于半导体匀胶机、显影机翻新改造&新设备的研发制造、设备零部件开发替代，温湿度控制设备及制冷设备的研发制造；按照不同需求提供给用户的个性化配置，同时可根据用户要求在已有设备的基础上进行开发制造&特殊工艺的开发等。
半导体匀胶机与显影机中空轴APM-HB03HBH-GY我司销售LS伺服驱动器中空轴伺服电机L7系列，以及施耐德，西门子，三菱，欧姆龙，西普，泛达，YTC等品牌产品，欢迎广大客户订购。
在论文的过程中,借助AutoCAD软件,对新GCA匀胶机腔体部分进行了改造,便于腔体气流的排走和后面为匀胶机加入背面清洗系统的改造,改善了因匀胶室小且排风不畅...
在论文的过程中,借助AutoCAD软件,对新GCA匀胶机腔体部分进行了改造,便于腔体气流的排走和后面为匀胶机加入背面清洗系统的改造,改善了因匀胶室小且排风不畅产生的气流串动挤...
在半导体行业的第三次景气周期中,手机等消费电子产品取代PC成为行业增长的主要驱动因素,中国是全球第一大消费电子生产国和消费国,对半导体产品的需求逐年快速提...
半导体匀胶系统研究与优化设计.pdf,优秀博硕毕业论文,完美PDF内部资料、支持编辑复制,值得参考!摘要本文研究了目前半导体光刻工艺技术中匀胶工步的几个技术问题...
公司首要从事半导体设备、微细设备的产品研制、设计开发、生产,并展开相关工艺的研讨及使用。首要产品:匀胶机(SC)、烘胶台(BP)、曝光机、刻蚀机(RIE、I...
【摘要】:本文研究了目前半导体光刻工艺技术中匀胶工步的几个技术问题:匀胶腔体在芯片的高速旋转产生气流的串动挤压胶膜,影响芯片胶膜厚度的均匀性;芯片吸附在吸盘上一般采用...
胡春民:也有人说,大量资金带来的后果是国内半导体产业出现了太多的泡沫,应如何避免这种现象的出现?半导体制造工艺:匀胶机旋涂仪半导体工艺工作流程邱慈...
论文>自然科学论文>半导体匀胶系统研究与优化设计本文研究了目前半导体光刻工艺技术中匀胶工步的几个技术问题:匀胶腔体在芯片的高速旋转产生气流的串动挤...
芯源公司自主开发的单片匀胶机、显影机、喷胶机、去胶机、清洗机、湿法刻蚀机等设备广泛应用于半导体、先进封装、MEMS、LED等领域。1.LED领域匀胶显影机:应用...
用过匀胶机的客户常常会关心怎么清洗的问题,这一点许多国外的匀胶机做得不错,他们有通过联动机制,如果真空吸附力不够的时候,不会开始旋转。3、材质的选择对...