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物理气相沉积（PVD）石墨类薄膜.【摘要】：随着现代科技的进步和工业化的发展,非晶碳薄膜因其优良的性能已经广泛的被应用到各个领域。.由于非晶碳膜具有高的电阻率和较强的绝缘性,使其在电学、微电子领域有着很好的应用,可作为光刻电路板的掩膜...
物理气相沉积法薄膜的内应力形成机理及测量方法薄膜的,内应力,薄膜应力108科技创新导报ScienceandTechnologyInnovationHerald2009NO．34ScienceandTechnologyInnovationHerald科技创新导报1引言在薄膜的研究中内应力是一个非常重要的物理量它不仅对薄膜自身的性能（光学性能电学性能、机械性能）有...
物理气相沉积法薄膜设备简单认识.docx,GUIZHOUUNIVERSITY课程论文课程名称电子功能材料论文名称气相沉积法薄膜设备简单认识专业班级电子科学与技术091班学生姓名胡启勇学号0907010034指导教师肖清泉周章渝...
Seminar1化学气相沉积(CVD)原理及其薄膜程士敏.研究员Seminar(CVD)2008.05.27CVD原理定义气态物种输运沉积过程热力学和动力学CVD技术分类CVD薄膜CVD技术的优缺点孟广耀，化学气相淀积与无机新材料，北京：科学出版社，1984气态源液态源固态源...
快节奏的社会，时间稍纵即逝，三分钟可以做些什么呢？现在提供一个选择：花三分钟时间，快速的了解下薄膜沉积中的物理气相沉积技术（PhysicalVaporDeposition，PVD）。来吧，各位材女材子们，一起来认识物理气相沉积技术这位朋友！
硅上原子层沉积与物理气相沉积Pt薄膜的技术研究.葛亮.【摘要】：随着集成电路的发展,摩尔定律一直驱动着集成电路特征尺寸逐渐减小。.集成电路的基本单元即金属-氧化物-半导体场效应晶体管(MOSFET)等比例缩小使纳米量级材料的技术变得越来越重要...
本论文主要研究了分子铁电材料克酮酸基于物理气相沉积法的薄膜和薄膜电容器器件的,并通过原子力显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射分析仪、傅里叶红外光谱仪等手段研究了其薄膜形貌特性和微晶结构,证实物理气相沉积可得到未分解的克酮酸薄膜,发现...
浙江大学硕士论文姚日英PEcVD沉积的氮化硅薄膜热处理性质研究2．1引言第二章文献综述氮化硅薄膜具备良好的光电性质、钝化性能和抗水汽渗透能力，并能有效阻止B、P、Na等杂质的扩散，因此在光电子和微电子器件中得到广泛的应用，主要用来做绝缘层...
课程论文课程名称电子功能材料论文名称气相沉积法薄膜设备简单认识专业班级电子科学与技术091班学生姓名胡启勇学号0907010034指导教师肖清泉...
第二章薄膜的物理气相沉积(Ⅰ)—蒸发法引言第一节物质的热蒸发第二节薄膜沉积的厚度均匀性和纯度第三节真空蒸发装置引言一.定义物理气相沉积Physical...
非晶碳薄膜常规方法如化学气相沉积(CVD)、微波沉积法,等离子体电沉积,脉冲辉光PECVD以及物理沉积方式如磁控溅射、离子注入。相比传统的物理气相沉积,直流非平衡磁控溅射和强流脉冲离子束方法...
物理气相沉积薄膜应力产生机理的理论分析分析,薄膜,机理,薄膜的,应力产生的,气相沉积法,气相沉积,薄膜应力文档格式:.pdf文档页数:3页文档大小:177.93K文...
采用物理气相沉积技术(PVD)氮化物薄膜,成分可控、结构可控、结合力好、绿色环保,但是结构较致密,而电极材料需要大的离子可接触表面积。因此,本论文研究了如何采用PVD技术...
【摘要】:正大面积薄膜物理气相沉积中,基片温度的均匀性是工艺中的关键问题之一。本文研究了真空辐射加热中影响基片温度均匀性的几个关键因素。首先考虑加热器表面热辐...
内蒙卉科技大学硕十论文摘要物理气柑沉积(PVD)技术作为薄膜材料的主要方法之一,其在机械制造业中的应月j主要集中仵切削刀具表面的强化。币siN...