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天津大学硕士学位论文DRAM原理及工艺流程的研究姓名:吴雨健申请学位级别:硕士专业:微电子及固体电子学指导教师:梁惠来20070501摘要随着资讯科技的快速发展,对半导体记忆体技术的要求也在迅猛增长。
天津大学硕士学位论文DRAM原理及工艺流程的研究姓名:吴雨健申请学位级别:硕士专业:微电子及固体电子学指导教师:梁惠来0070501摘要随着资讯科技的快速发展,对半导体记忆体技术的要求也在迅猛增长。DRAM动态随机存储器由于其集成度高、价格便宜、体积小、耗电省等优点,使其得…
DRAM原理及工艺流程的研究.吴雨健.【摘要】:随着资讯科技的快速发展,对半导体记忆体技术的要求也在迅猛增长。.DRAM(动态随机存储器)由于其集成度高、价格便宜、体积小、耗电省等优点,使其得到了广泛的应用。.需求推动技术进步,近年来DRAM在存取速度的...
优秀硕士论文库—《DRAM器件制造的新工艺和电性测试参数的分析》中文摘要第1-4页ABSTRACT第4-7页第一章DRAM器件的基本介绍第7-11页·前言
复旦大学工程硕士学位论文2.1CVD工艺概述及其原理2.1.1CVD工艺概述第二章背景知识化学气相沉积(简称CVD),是指一种或多种气体物质,在反应腔体内被某种方式激活,使反应气体中的某些成分分解或发生化学反应,并在衬底表面形成
优秀硕士学位论文—《CMOS工艺中提高DRAM保持时间的研究》摘要第1-4页Abstract第4-5页前言第5-6页第一章DRAM的应用、发展状况及工作原理
DRAM器件制造的新工艺和电性测试参数的分析—硕士博士毕业论文学位论文下载您当前正在查看的论文是:论文编号:XW638144论文题目:DRAM器件制造的新工艺和电性测试参数的分析论文分类:工业技术论文→自动化技术、计算机技术论文→计算技术、计算机技术论文→电子数字计算机(不连续作用...
毕业论文:SDRAM内存控制器研究摘要随着通用CPU迈向多核时代、视频处理ASIC迈向高清时代,存储器性能对系统整体性能的影响越来越大。然而由于工艺限制,DRAM的核心频率难以超过300MHz,各种旨在提高数据吞吐率的DRAM接口...
一个正常的40nm工艺,一个6T(6transistors)的SRAM面积是150*0.04*0.04=0.24um2/SRAM。所以如果我们需要一个1Mb的SRAM,面积是1M*0.24um2=0.24mm2,也就是大概0.5mm*0.5mm。前天项目周会的时候,一位同事一顿猛…
本文是基于Ad106微米标准CMOS工艺设计的,测试结果表明,设计的振荡电路符合DRAM刷新要求。关键词:DRAM刷新;PTAT;电流饥饿;VCO西南交通大学硕士研究生学位论文第1I页AbstractWiththerapidlydevelopmentofintegr。
天津大学硕士学位论文DRAM原理及工艺流程的研究姓名:吴雨健申请学位级别:硕士专业:微电子及固体电子学指导教师:梁惠来20070501摘要随着资讯科技的快速...
·DRAM器件的工作原理第16-18页·DRAM器件的芯片介绍第18-22页·DRAM器件的管脚介绍第18-19页·DRAM器件工作时序第19-22页第三章DRAM器件的晶圆制造的工艺...
本论文正是基于这种1T/1C基础单元设计讲述了DRAM是如何构成,以及如何实现存储和读写功能的;并且着重论述了如何通过半导体生产集成工艺的改进来实现电容值的控制,刷新时间的减...
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内容提示:天津大学硕士学位论文DRAM原理及工艺流程的研究姓名:吴雨健申请学位级别:硕士专业:微电子及固体电子学指导教师:梁惠来20070501摘要随着资讯科技的快...
目前国际上的半导体制造工艺早已经进入了纳米时代,世界级的制造大厂如Intel、台积电等已经进入65nm甚至是45nm的工艺量产阶段,目前正在朝着32nm以下的工艺前进,而我国目前最先...
传统DRAM工艺洗净模式的示意图14clean洗净工艺示意图15图4薄膜厚度测定硅片内位置分布示意图16图5金属荧光分析测定硅片内位置分布示意图16clean工艺评...
当前位置:首页>【Process】DRAM工艺流程【Process】DRAM工艺流程5850发表时间:2018-07-2219:47上一篇【Package】封装工艺流程详细讲解下一篇【Test】芯片测试基本原理讲解分享...
失效分析在DRAM产品中的应用.pdf,优秀硕士毕业论文,完美PDF格式,可在线免费浏览全文和下载,支持复制编辑,可为大学生本专业本院系本科专科大专和研究生学士硕士相关类学生提供毕业论文...
後舅大擎硕士学位论文(专业学位)动态随机存储器()在制造之光刻工艺的发展和研究院系:专业:姓名:指导教师:完成日期:信息科学与工程学院电子与信息工程陈杰刘冉教...