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莫小小爱吃肉
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嘟嘟200907

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PZT第一性原理计算及其铁电性能研究 【摘要】: 与传统的EEPROM和FLASH挥发性存储器相比,非挥发性铁电存储器(FeRAM)具有抗辐射、低功耗、快速读写操作、低操作电压等优异特性,从而更适合嵌入式应用的要求。本论文对应用于铁电随机存储器的关键组成部分——PZT铁电薄膜进行了第一性原理计算以及对PZT薄膜电容制备工艺和性能上进行了研究。 采用第一性原理的方法计算了PTO顺电相和铁电相,不同Zr/Ti比的PZT铁电相,和PZO顺电相、铁电相和反铁电相的电子结构。第一性原理对PTO、PZT与PZO不同相总能量的计算结果表明,在低温PTO、PZT处于铁电相,PZO处于反铁电相是由能量最小原理决定。PTO、PZT和PZO电子结构的计算结果表明,B位Ti3d,Zr4d与O2p电子存在强烈的杂化,并且Ti与O的杂化强度大于Zr与O的杂化强度,铁电相杂化强度大于顺电相杂化强度;A位Pb6s与O2p同样存在较强的杂化,这种杂化在铁电相时表现最强烈。从PZT能带的组成来看,在价带以下部分,主要由Pb原子电子能级组成;在价带底部主要由Ti,Zr原子与O原子的杂化能级组成,价带顶主要由O原子能级组成;在导带底主要由Ti与O的杂化能级组成。随着Ti原子比例增大,铁电相PZT中B位与O的杂化强度增大,说明铁电性增强,但是能隙变小,漏电流将变大。 根据PZT铁电材料的自身特性、工艺制备和理论计算结果,确定了掺Ta1%的PZT()是较为理想的嵌入式铁电存储器用材料。使用固相反应法制备了LSMO靶材、PbO靶材和Pb过量20%的纯钙钛矿结构的PTZT靶材。通过对TiO2,PbO和LSMO不同缓冲层制备的PTZT铁电薄膜结构、铁电性能和疲劳特性的分析指出,在高温溅射LSMO作为缓冲层的PTZT铁电薄膜是能够满足铁电随机存储器要求的。Pt/LSMO/PTZT/LSMO/Pt/TiO2 /SiO2/Si是一种优化的,适用于铁电存储器的铁电薄膜结构。从不同LSMO缓冲层厚度的PTZT铁电薄膜的性能分析指出LSMO缓冲层厚度在约20nm左右时,薄膜的铁电性能和疲劳特性最好。 通过对PTZT层的溅射气压、基片温度、后期退火工艺和溅射氧偏压对LSMO/PTZT/LSMO三明治薄膜结构铁电性能的分析指出,较优的制备PTZT薄膜电容的工艺条件是:溅射工作气压,基片温度200oC,溅射气氛为纯Ar气,退火温度为650度,退火时间为20分钟。 在Pt衬底上成功地制备了直径为75mm的LSMO/PTZT/LSMO铁电薄膜,测试了薄膜的表面和截面形貌以及薄膜铁电性能和介电常数。研究结果表明,薄膜表面致密、平整,厚度均匀(偏差在以内);最大电压12V测量的剩余极化平均值约为μC/cm2,矫顽场平均值为2V(偏差在以内),经109开关极化后,名义剩余极化强度平均值约为初始极化的90%(偏差在);薄膜的介电常数随频率的增加而减小,但1MHz后下降的趋势变得缓慢。 基于极化反转物理行为建立了关于铁电电容极化与外加电场的唯象物理模型。在此模型中,通过一些合理的近似假设,推得一微分方程,这一方程不但能很好地描述饱和与非饱和电滞回线以及回线间的转换,并能准确模拟各种条件下的极化情况。用此模型对实验数据和已报告的文献上的实验数据进行了模拟,结果具有很好的一致性。说明该模型对饱和电滞回线,以及非饱和、输入电压中途转向的电滞回线都能进行很好的仿真。 不好意思,这不算回答,但希望对你有用

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玩儿泥巴小姐

蒙彼利埃大学、阿韦罗大学和科英布拉大学的一个国际研究小组,已经证明了顺磁铁电晶体中的磁电耦合,在他们发表在《科学》期刊上的研究论文中,该研究小组描述了其发现的镱分子磁电材料及其可能的用途。还有深圳大学的叶舟和韩素婷也在《科学》期刊上发表了一篇文章描述了这项研究的观点。在过去的二十年里,科学家们一直在努力生产多铁性材料。但尽管付出了巨大的努力,研究人员一直无法创造出这种可以在室温下使用的材料。而且,在制造具有足够强耦合性的材料以用于商业产品方面也存在问题。在这项新研究中,研究人员创造了一种可能具有科学家一直在寻找的特性材料。铁电性是某些材料的一种特性,它具有可被外部电场反转的电极化。如果对这类材料施加电场,它们的偶极子就会对齐,从而产生极化,铁磁性是某些材料对磁化的高度敏感性。就像在铁电学中一样,如果施加磁场,材料的电子自旋就会对齐,从而产生磁性。在这项新研究中,研究人员创造了一种材料,其电学特性在室温下暴露在磁场中而不是电力中时会发生变化,该新材料还通过操纵外加电场和磁场实现了六个偏振态。研究人员通过设计一种手性镧系配合物来创造这种材料,在这种配合物中,Yb3+离子在铁电手性反磁锌中心附近具有很强的磁矩。其结果是一种基于镱分子的磁电材料,这是一种具有高度磁电耦合的分子。(上图所示)R,R-1和S,S-2的晶体结构:(A)双核Zn2+-Yb3+配合物R,R-1和S,S-2的分子结构及其对映体关系;橙色,Yb3+;浅蓝色,Zn2+;蓝色,N;红色,O;灰色,C;为清晰起见,省略了氢原子;(B)R,R-1沿a轴的晶体堆积排列,强调两个同手性配合物;(C)晶体(01‘1’)平面中切片的单晶面分配和视图。在直流磁场作用下,用压电响应力显微镜对材料进行了测量,证实了材料的特性。这种材料的性能表明,它可能与无机磁电材料竞争,研究人员认为,它可以为新型高密度存储器件的设计提供一个新平台。磁电(ME)材料将磁极化率和电极化率结合在一起,具有触发一种特性和另一种特性的可能性。为开发高密度数据存储和自旋电子器件或低功耗器件提供了基础。这样的应用需要本构性质之间的强相互作用,这一标准在经典无机磁电材料中很少在室温下得到满足。新研究提供了具有磁致伸缩现象的顺磁铁电镧系配合物中存在强磁电耦合的证据,这种分子材料的性质表明它可能与无机磁电材料竞争。磁电材料在电场或磁场的作用下会极化,因此对数据存储应用很有吸引力,本研究发现了一种具有高磁电耦合的镱分子磁电材料。外加磁场使材料产生应变,从而改变其电学性质。所需的磁场比其他磁电材料低得多,研究突出了分子材料在器件中的应用潜力。

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LIZHIPINGZHAOBOWEI

第一作者:Shuai Ning

通讯作者:Shuai Ning,Caroline A. Ross

通讯单位:麻省理工学院

允许铁电和磁有序在室温以上共存的单相多铁性材料是非常需要的,这推动了对磁性氧化物中非常规铁电机制的持续 探索 。最近,麻省理工学院Shuai Ning和Caroline A. Ross等人在国际知名期刊“ Nature Communications "发表题为“ An antisite defect mechanism for room temperature ferroelectricity in orthoferrites ”的研究论文。在这里,他们报告了钇正铁氧体 YFeO3(一种钙钛矿结构的倾斜反铁磁体)外延薄膜中室温铁电性的反位缺陷机制。压电响应力显微镜、原子分辨元素映射与像差校正扫描透射电子显微镜和密度泛函理论计算的组合表明,YFe反位缺陷的存在促进了促进铁电性的非中心对称畸变。预计这种机制对其他稀土正铁氧体也有类似作用,极化取决于稀土阳离子的半径。他们的工作揭示了反位缺陷在为一系列磁性正铁氧体提供铁电机制方面的独特作用,并进一步增强了该系列复合氧化物在多铁性应用中的功能。

图1:NSTO衬底上YFO薄膜的结构与缺陷分析

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