上海光学精密机械研究所_学位论文推荐引用方式GB/T7714杨朝兴.基于遗传算法的光刻机光源掩模优化技术研究[D].中国科学院上海光学精密机械研究所.2016.
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
清华团队论文登Nature，或为EUV光刻机发展提供新想法.【新智元导读】2月25日，清华大学工程物理系唐传祥研究组与合作团队在《自然》上发表研究论文《稳态微聚束原理的实验演示》，报告了一种新型粒子加速器光源「稳态微聚束」的首个原理验证实验。.与...
光刻机光源中单元光学系统zemax模拟.极紫外光刻(EUVL)是下一代光刻技术中最有前途的方法，它向人们提供了突破22nm节点的途径。.但是，限制EUV技术发展的一个主要制约因素是大功率，高质量大功率的EUV光源难以获得。.根据预测，如果将EUV技术应用于...
光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，如今最先进的光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻。荷兰ASML公司是目前世界上唯一的EUV光刻机供应商，每台EUV光刻机售价超过1亿美元。大功率的EUV光源是EUV光刻机的核心基础。
编辑推荐：本文报告了一种新型粒子加速器光源SSMB的首个原理验证实验，基于SSMB的EUV光源有望解决自主研发光刻机中最核心的卡脖子难题。该论文一经刊发，立即引起国内外学术界及产业界的高度关注。SSMB光源的潜在…
余鹏鲲：清华光源对自主光刻机追赶突破意义大吗？.但是自主光刻机不是完全的科学研究，更不是所谓的基础研究，如果10-20年后我们仍然不能实现纯自主地量产40nm的光刻机，那么整个中国半导体产业就被动了。.通过文献传递的方式，笔者获…
编者按：一位从事国家最紧缺的EUV光刻机光源技术研究的哈工大博士，为何去了湖北二线城市一个可能不具备EUV光源研究的大学？.大事记.2005年.：美国公司Energetiq发表无电极EUV光刻光源专利，售出首台10WEUV光源.2005年.：张兴强开始攻读哈工大博士，研究极...
余鹏鲲：清华光源对自主光刻机追赶突破意义大吗？.近期，清华加速器光源的重大突破在《自然》上发表和武汉弘芯基本宣布死亡的新闻几乎同时发生，一生一死、一喜一悲的两件事撞在一起，构成了中国半导体产业的隐喻。.有人说：“清华大学的新成果...
光刻机：光源、镜头与控制系统目前，市面上比较成熟的光刻机根据光源不同，可分为紫外光源（UV）、深紫外光源（DUV）和极紫外光源（EUV）。中国在用的最先进的光刻机就是采用ArF光源的DUV光刻机，我们知道最初的ArF光刻机采用的是干式光刻...
在芯片制造产业中，光刻机是其中必不可少的一环。光刻机的曝光分辨率与波长直接相关，如今最先进的光刻技术是采用波长为13.5纳米光源的EUV（极紫外光源）光刻。荷兰ASML公司是目前世...
华中科技大学硕士学位论文光刻机光源中单元光学系统的ZEMAX模拟姓名:朱新旺申请学位级别:硕士专业:物理电子学指导教师:王新兵2011-01-03极紫外光刻(EUVL...
让全世界都感到震惊，该科技的论文论证过程已经在世界顶尖杂志期刊《自然杂志》发表，之所以很多人感到诧异，是因为光刻机的光源核心技术实在太难突破了，目前仅有少数几个国家实现，...
光刻机光源中单元光学系统ZEMAX模拟-物理电子学专业论文.docx,华中科技大学硕士学位论文华中科技大学硕士学位论文PAGE10PAGE101绪论1.1光刻技术光刻技...
内容提示:华中科技大学硕士学位论文光刻机光源中单元光学系统的ZEMAX模拟姓名:朱新旺申请学位级别:硕士专业:物理电子学指导教师:王新兵2011-01-03毕业论文...
光刻机光源中单元光学系统zemax模拟文档格式:.pdf文档页数:52页文档大小:3.26M文档热度:文档分类:论文--毕业论文文档标签:光刻机光源中单元光学...
光刻机光源中单元光学系统的ZEMAX模拟华中科技大学硕士学位论文光刻机光源中单元光学系统的ZE模拟姓名:朱新旺申请学位级别:硕士专业:物理电子学指导教...
【摘要】:正光刻机光源优化(SourceOptimization,SO)是一种分辨率增强技术。该技术即可以单独使用,又可以作为光源掩模优化(SourceMaskOptimization,SMO)技术的一部分。SO技...
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想要造芯片必须得有光刻机，但光刻机也同样受到限制，不过令人欣喜的是，国产光刻机在短时间内就迎来好消息！清华团队宣布研究成果，或将颠覆EUV核心光源！近日，清华大学相关团队在...