集成电路制造中选择性锗化硅外延工艺研究来自万方喜欢0阅读量：225作者：涂火金展开摘要...论文还研究了选择性外延锗化硅生长过程中的影响因数.如温度,压力的影响,二氯硅烷气体流量,锗烷气体流量和氯化氢气体流量的影响.分析了上述几个...
硅集成电路工艺基础8.pdf.第八章光刻与刻蚀工艺光刻是集成电路工艺中的关键性技术。.在硅片表面涂上光刻胶薄层，经过光照、显影，在光刻胶上留下掩模版的图在集成电路制造中，利用光刻胶图形作为保护膜，对选定区域进行刻蚀，或进行离子注入，形成...
集成电路原理制造工艺及原理技术--期末论文.ppt,1.半导体材料的主要特点2.硅的晶体结构3.硅单晶材料的制造过程4.直拉...
等集成电路工艺线。因此充分利用微电子芯片生产线的闲置或淘汰产能，可直接将成熟的集成电路工艺直接应用于硅光芯片的超大规模生产制造。近年来，台积电、Intel、GlobalFoundries等CMOS晶圆厂均开发出了商用化硅光芯片工艺流程，硅光芯片的开发流程
本期ISSCC论文解读有幸邀请到中科院半导体所的祁楠教授。.祁楠师兄博士毕业于清华大学微电子所，并随后在美国的高校、企业实验室工作，主要研究光通信电路和硅光电集成芯片，学术界和工业界的经验都非常丰富。.目前他的课题组跨光、电两个领域，主要...
集成电路工艺探索（论文）.doc,集成电路工艺探索论文姓名：刘王飞（宁波工程学院机械工程学院浙江宁波）摘要：集成电路工艺技术介绍，发展历史及未来发展趋势。关键词：集成电路工艺分类应用现状发展趋势引言：集成电路工艺（integratedcircuittechnique）是把电路所需要的晶体管、二…
集成电路工艺原理期末论文第3页共26页期末考试特殊考试方式电子科学与技术学院集成电路工艺原理期末成绩考核报告姓名：学号：正性光刻胶的曝光区域更加容易溶解于显影液。.它的分辨率高可以达到0.5μm、台阶覆盖好、对比度好，取代了负性光刻胶是...
硅基光电子具有与CMOS工艺兼容，借助成熟的微电子工艺平台可以实现大规模批量生产，具有低成本、高集成度、高可靠性的优势，是实现光电子和微电子集成、光互连的最佳方案。.硅基光电子技术是指基于硅材料的光电子器件设计、制作与集成技术...
硅集成电感及CMOS射频集成电路研究.刘畅.【摘要】：快速增长的无线通信市场的巨大需求也造成了对射频集成电路的需求。.近年来，随着特征尺寸的不断减小，深亚微米CMOS工艺其MOSFET的特征频率已经达到50GHz以上，使得利用CMOS工艺实现GHz频段的高频模拟电路...
P型硅外延片工艺技术的研究.安静.【摘要】：21世纪的微电子技术仍将以硅为主流。.硅外延材料为半导体硅器件特别是各类硅集成电路的发展提供了坚实、可靠的物质基础,支撑着当代微电子产业的持续发展。.而外延材料的制造水平则成为世界各国集成电路...
在高等工科院校电子科学与技术专业的本科教学中,《硅集成电路工艺原理...田书凤-河北大学被引量:0发表:0年FundamentalsofintegratedcircuitsTechnolo...
在高等工科院校电子科学与技术专业的本科教学中,《硅集成电路工艺原理》是一门重点讲述硅集成电路工艺的物理基础和基本原理的专业课程,非常适于采用多媒体辅助教学。本文研究...
《硅集成电路工艺基础》⇩作者:关旭东编著出版:北京:北京大学出版社页数:305✅真实服务非流量️出版时间:2003.10(求助前请核对清楚)求助编号:9111855930(学习资...
Si南开大学信息技术科学学院本课程主要讲述硅集成电路制造的各单项工艺,介绍各项工艺的物理基础和基本原理,主要内容包括硅的晶体结构、氧化、扩散、离子注入...
关键词:硅集成电路工艺基础基础工艺工艺集成DOC硅集成电路工艺基础重点蚂蚁文库所有资源均是用户自行上传分享,仅供网友学习交流,未经上传用户书面授权,请...
硅集成电路工艺——离子注入讲义.ppt文档介绍:天津工业大学Chap.4离子注入(IonImplantation)离子注入掺杂的优、缺点1两种碰撞(阻止)模型2注入离子的分...
硅集成电路工艺——工艺集成Chap.10工艺集成1集成电路中的隔离CMOS集成电路的工艺集成集成电路的工艺集成双极集成电路的工艺集成BiCMOS集成电路的工艺集成集成电路...
尽管微电子学在化合物和其它新材料方面的研究取得了很大进展;但还不具备替代硅基工艺的条件。根据科学技术的发展规律,一种新技术从诞生到成为主流技术一般需要2...
半导体薄膜技术与物理(第三版)半导体光电子器件半导体工艺与测试实验半导体薄膜技术与物理(第二版)-新硅集成电路工艺基础(第二版)北京大学出版社有限公司当当自营进入店铺收藏店铺...