硅片在HF/HNO3/H2O体系中的腐蚀速度作者安静，孙铁囤，刘志刚，汪建强，苦史伟，AnJing，SunTietun，LiuZhigang，WangJianqiang，KuShiwei作者单位上海交通大学物理系太阳能研究所,上海,200240刊名太阳能学报英文刊名...
半导体硅材料基础知识.1.doc.半导体硅材料基础知识讲座培训大纲导体（Conductor）导体是指很容易传导电流的物质绝缘体（Insolator）是指极不容易或根本不导电的一类物质半导体（Semiconductor）导电性能介于导体和绝缘体之间且具备半导体的基本特性的一类材料...
西安建筑科技大学课程设计（论文）第1页共13页硅太阳能电池的发展及其应用研究摘要本文介绍了硅太阳能电池的发展历程和研究现状。通过对比分析得出单晶硅、多晶硅、非晶硅太阳能电池在成本、能耗、效率、应用范围等方面的优势与限制。
高科锗硅集成电路芯片生产线项目可研报告.第一章总论111项目名称与通讯地址112内容提要113项目建设的必要性和有利条件214可行性研究报告编制依据514研究结果6第二章投资方简介921深圳市高科实业有限公司922ELIATECH公司10第三章该产业国内外发展...
体外诊断试剂生产用净化车间环境与控制要求.体外诊断试剂生产用净化车间环境与控制要求第一条对生产环境有净化要求的产品除应当满足《体外诊断试剂生产实施细则》的通用要求外，其生产环境还应当满足本附录的要求。.不同洁净级别生产区域的控制...
第3期21年6月01MutupsiztnoieasucsliroeUtiaifMnrlReoreplo矿产综合利用No.3Jn.21u0l冶金法太阳能级多晶硅的原理与生产工艺研究进展念保义，陈兴顺，绍福何(明学院资源开发与规划研究所，福建三三明350604)
培训记录：培训内容培训人接受培训人无菌培养基灌装试验验证方案结论：确认人：确认日期：VMP-XZGY-YZBG-001无菌培养基灌装试验验证报告共17复核人：复核日期：验证实施及结果5.1验证实施时间：5.2验证结果：5.2.1前提条件检查5.2.1.1
为满足运动传感器产业链上下游企业的迫切需求，麦姆斯咨询特开设《运动传感器核心技术培训课程》，从运动传感器产业及应用需求入手，深入讲解MEMS惯性传感器（包括MEMS加速度计和MEMS陀螺仪）及系统特性分…
德国CentrothermPECVD设备E2000中文说明书.pdf.TechnicalDescriptionSystemDescription17.6.2009PECVDE2000HT410-4目录0.1基本情况0.1.1CentrothermPECVD的工作原理0.2系统概况0.3系统配置0.3.1系统0.4系统尺寸1.1PECVD1.1.1设备能力1.1.2均匀性1.1.2.1石墨舟留下的痕迹炉体102.1加热器102...
某药业净化工程URS8－5,净化工程,净化工程公司,净化工程szyzjh,净化工程公司szyzjh,空气净化工程,净化工程冷风机制冷,净化车间工程,钢结构净化工程,郑州净化工程
洁净室工程师培训论文.doc,浅谈某万级洁净室施工安装过程中各专业的施工技术AbouttheConstructionTechniqueoftheConstructionandInstallationofcerta...
自1968年开始,与硅技术有关的学术论文数量已经超过了与钢铁有关的学术论文,所以有人认为,1968年以后人类进入了继石器、青铜器、铁器时代之后硅石时代(silicona...
1硅片的表面状态与洁净度问题理想的硅片表面应该是硅原子有规则排列终止所形成的表面,表面内部的硅原子以共价键结合,而表面外部无其它原子,所以外方向的价...
中能硅业探索毕业论文.doc第一章概述第二章多晶硅的生产工艺2.1改良西门子法的简介„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„„2.2三氯氢硅氢还原反...
9张永东;降低高铁低硅烧结固体燃耗的研究[J];烧结球团;2004年02期10邓秋明;徐东良;;兴澄特钢高铁低硅烧结的生产实践[J];烧结球团;2005年06期中国重要会议论文全文数据库前1...
7、stractII第1章硅片清洗的基本理论11.1硅面的表面状态与洁净度问题11.2吸附理论21.3硅片表面玷污杂质的来源和分类.31.4硅片清洗的一般程序.3第二章硅片清...
在硅晶体管和集成电路生产中,几乎每道工序都有硅片清洗的问题,硅片清洗的好坏...对未来溶液清洗技术的基本要求可概括为:1)可满足ULSL对洁净表面的要求;2)...基...
【摘要】:使用N2和N2/NH3混合气氛作为快速热退火(RTA)气氛,研究了RTA气氛对洁净区、氧沉淀和硅片表面形貌的影响。在N2/NH3混合气氛下,RTA处理后,硅片表面出现小坑,同时,微粗...