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2014磁控溅射镀膜技术文献综述论文.doc,磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，具有很高的经济价值。
更多相关参考论文设计文档资源请访问/lzj781219本论文中样品采用中科院沈阳科学仪器厂JGP350型磁控溅射镀膜机，真空抽气系统由机械泵（前级泵）和分子泵（主泵）组成，极限真空度可达2.010-4Pa。
东莞南玻工程玻璃有限公司广东东莞523000[摘要]本文综合分析了当前磁控溅射的镀膜技术发展情况，并对该项镀膜技术实践应用，进行了有效性地研究，以能够全面了解与掌握磁控溅射的镀膜技术，将磁控溅射的镀膜技术各项功能优势充分应用在相应的行业领域当中，为广大镀膜玻璃生产企业...
磁控溅射具有“低温”、“高速”两大特点，故又称为高速低温溅射技术。二、实验图2高真空磁控溅射镀膜机真空室结构示意图按各部分的功能分类，该设备主要由真空系统、溅射镀膜系统、测量及控制系统三部分组成：1、真空系统及其测量
硕士论文开题报告—《磁控溅射法涂层导体缓冲层薄膜》摘要第1-7页Abstract第7-11页第1章绪论第11-28页·超导材料简介第11-12页
中国期刊网,期刊,杂志,读者服务,电子杂志,论文,文库,期刊网,电子刊[导读]国内外正在不断扩大应用磁控溅射技术的范围，促使磁控溅射现已发展成为镀膜工业生产中一项最关键的技术，但同时磁控溅射中的靶材也显现出一些不足。
微颗粒表面磁控溅射镀膜研究.俞晓正.【摘要】：在粉体颗粒表面镀薄膜可显著增强其应用功效。.磁控溅射沉积作为一种高质量的镀膜方法,也逐渐被应用于粉体颗粒表面镀膜。.本论文根据磁控溅射及粉体颗粒的特点,设计并研制了一套微颗粒磁控溅射镀膜...
离子束辅助中频非平衡磁控溅射Ti-N-C膜的研究,非平衡磁控溅射,中频孪生靶,离子束辅助沉积,Ti-N-C薄膜,体结构。本文首先对Ti-N-C膜系的硬质膜的性能、以及检测手段进行了综述。在此基础上,采用离子束辅助中频非平衡磁控溅射技术制...
磁控溅射离子镀膜机16、借款还本付息计划表6.3.3行业投资兼并与重组动机一、行业产能预测四、替代产品（1）行业法规及政策解析磁控溅射离子镀膜机第九章市场区域市场运行情况分析2、我国整体市场规模及增长速度12.1.1行业投资规模分析
论文关键词：镀膜玻璃,磁控溅射,膜系,色差镀膜玻璃在国内使用、生产已经有十多年了，其生产主要以离线磁控溅射镀膜工艺为主，现有引进生产近40条，国产生产线200多条。
水平因素表TableLevelfactorAr(ml/min)N2ml/min)Pa)水平120水平230水平34010薄膜的及实验结果选用CKJ2500D多靶磁控溅射镀膜设备,Si(111)作为...
2磁控溅射法TiN薄膜2.1实验方法本实验选用CKJ-500D多靶磁控溅射镀膜设备,Si(11I)作为沉积TiN薄膜的基材,靶材为直径D100mm纯度99.99%的金属Ti靶。工作气...
但是目前世界上采用磁控溅射成功进行石墨烯的研究还很少,这极大地限制了石墨烯器件在现代微电子工业中的应用。关键词:磁控溅射;石墨烯;摩擦学中图分类号:0484.1;...
LaNiO3薄膜的射频磁控溅射和性能研究基金项目:国家自然科学基金资助项目5013Z0Z0国家安全973计划资助项目0601收到初稿日期:Z006-09-05收到修改稿日...
磁控溅射多层石墨烯及其微观摩擦学性能-论文
内容提示:堕小焱等:直流磁控溅射ZAO透明导电薄膜及性能研究直流磁控溅射ZAO透明导电薄膜及性能研究’陈小焱,王绿,丁雨田(兰州理工大学甘肃省有色金...
02.035ji基于此,采用直流磁控溅射镀膜技术在不同溅射功率下(60,90,120,150和180W)一系列Al2O3薄膜,并采用XRD、SEM及电化学工作站对其进行...
最近利用磁控溅射镀膜，用内部的离子源清洗基片时，离子源不正常工作，查看厂家的说明，讲得不是很清楚...
爱问共享资料磁控溅射SiC薄膜及其光电特性研究_周继承文档免费下载,数万用户每天上传大量最新资料,数量累计超一个亿,磁控溅射SiC薄膜及其光电特性研究_周继承--...
磁控溅射法镀膜是比较成熟的工艺,生产自洁净玻璃是以钛为溅射靶材,在惰性气体和氧气混合的气氛下,保持一定的混合气压力,在玻璃上溅射成均一透明致密的TiO2薄膜...