近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。.随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。.本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及...
更多相关参考论文设计文档资源请访问/lzj781219本论文中样品采用中科院沈阳科学仪器厂JGP350型磁控溅射镀膜机，真空抽气系统由机械泵（前级泵）和分子泵（主泵）组成，极限真空度可达2.010-4Pa。
磁控溅射电源.磁控溅射?电沉积法连续泡沫铜工艺.吴天和（梧州三和新材料科技有限公司）.作者简介：吴天和，助工，从事连续电镀泡沫镍、铜、铁工艺15年，熟悉各种电镀工艺和真空磁控溅射工艺。.文章全文.随着社会的进步和科学技术的不断发展...
磁控溅射法Cu膜论文.doc,.word版本.磁控溅射法Cu膜摘要沉积速率高、基材温升低的磁控溅射工艺，已经成为半导体集成电路金属化工艺的主流。本文重点对在硅晶圆上溅射金属铜薄膜的实际镀膜过程中的淀积速率进行了理论和实验研究。
2014磁控溅射镀膜技术文献综述论文.doc,磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，具有很高的经济价值。
增硬玻璃磁控溅射DLC薄膜SiC缓冲层【摘要】：每年有大量的建筑幕墙玻璃,显示面板玻璃和汽车玻璃由于表面划伤、磨损而报废。类金刚石(DLC)薄膜材料具有高硬度,低摩擦系数等优异的性能,能有效的提高玻璃在、使用、物流等过程中的划伤问题,提高成品率。
本论文采用磁控溅射法In2Se3薄膜。.研究了溅射功率、衬底温度、工作气压、退火条件对薄膜相结构、成分、微观形貌和厚度的影响,实现了对薄膜透过率和光学带隙的调控。.研究结果表明：.1.溅射功率对薄膜的成分有显著影响,功率超过80W才能出成分...
因此，磁控溅射技术在许多应用领域包括制造硬的、抗磨损的、低摩擦的、抗腐蚀的、装潢的以及光电学薄膜等方有重要是影响【1】、【2】。前言：磁控溅射技术得以广泛的应用,是由该技术有别于其它镀膜方法的特点所决定的。
磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计--优秀毕业论文参考文献可复制黏贴技术,研究,关键,结构设计,技术与,旋转圆柱靶,旋转靶阴极,磁控溅射,关键技术,溅射阴极
磁控溅射镀色织物及其色牢度研究.【摘要】：传统纺织印染行业在染色过程中会对环境造成严重污染,其中最主要的是废水污染。.为了解决这个问题,一些新型的染色方法相继出现,本课题采用磁控溅射法镀色织物,探究了镀色过程中工艺参数对织物...
磁控溅射法相关毕业论文.doc,目录摘要IAbstractII目录i第一章绪论11.1铁电材料与铁电薄膜11.1.1铁电材料的结构特点11.1.2BTN材料的结构特点2...
一篇关于磁控溅射的论文【pdf】作者usst1来源:小木虫3507帖子+关注namipan/d/%e8%ab%...6f5259d823786888200[Lasteditedby...
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导读:关于免费薄膜磁控溅射论文范文在这里免费下载与阅读,为您的薄膜磁控溅射相关论文写作提供资料。文/肖立娟李长山郝嘉伟赵鹤平吉首大学物理与机电工程学...
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磁控溅射技术已经在我国材料学、光学表面、微电子学、管道制造等行业得到了普遍的发展和应用[2]。但是国内溅射技术自动化水平比较低,创新能力有限,应用和发展...
磁控溅射法Cu膜本科论文磁控溅射法制溅Cu集成溅路金化工溅的主究。溅果表明淀溅速率工作溅的增大先增大后性增强;入射子的能量超溅溅射溅溅溅,淀溅速...
磁控溅射TaN薄膜研究,康杰,,使用磁控反应溅射TaN薄膜,研究不同氮分压,工作气压,溅射功率以及基片温度等条件对薄膜的结构和性能影响,得到了薄膜的方阻
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