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2014磁控溅射镀膜技术文献综述论文.doc,磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，具有很高的经济价值。
磁控溅射法2.1磁控溅射基本原理磁控溅射法薄膜材料综述磁控溅射是20世纪70年代迅速发展起来的一种高速溅射技术。.对许多材料，利用磁控溅射的方式溅射速率达到了电子术蒸发的水平，而且在溅射金属时还可避免二次电子轰击而使基板保持冷态，这...
东莞南玻工程玻璃有限公司广东东莞523000[摘要]本文综合分析了当前磁控溅射的镀膜技术发展情况，并对该项镀膜技术实践应用，进行了有效性地研究，以能够全面了解与掌握磁控溅射的镀膜技术，将磁控溅射的镀膜技术各项功能优势充分应用在相应的行业领域当中，为广大镀膜玻璃生产企业...
射频溅射时，采用高频射频电源（13.56MHz），分别将靶材和真空室的其他部分耦合在电源的两极，衬底处于靶材对应的位置，与靶材间距为5cm，射频磁控溅射时放电的过程（工作气体为Ar1）无光放电打开射频电源及电流显示器，即会有十毫安以下以下的电流...
中国期刊网,期刊,杂志,读者服务,电子杂志,论文,文库,期刊网,电子刊[导读]国内外正在不断扩大应用磁控溅射技术的范围，促使磁控溅射现已发展成为镀膜工业生产中一项最关键的技术，但同时磁控溅射中的靶材也显现出一些不足。
微颗粒表面磁控溅射镀膜研究.俞晓正.【摘要】：在粉体颗粒表面镀薄膜可显著增强其应用功效。.磁控溅射沉积作为一种高质量的镀膜方法,也逐渐被应用于粉体颗粒表面镀膜。.本论文根据磁控溅射及粉体颗粒的特点,设计并研制了一套微颗粒磁控溅射镀膜...
磁控溅射法的铜薄膜膜层结构均匀、致密，性能良好，薄膜与基材附着牢固。在铜薄膜的工艺参数中，气体压强、溅射功率、镀膜时间、基底温度等对薄膜性能有重要影响。本实验采用射频磁控溅射法在涤纶
摘要：磁控溅射作为一种低温高速溅射技术，是新型的纺织品表面改性方法。介绍了纺织品表面镀膜的常用方法，概括了磁控溅射的基本原理，综述了应用磁控溅射技术抗菌、导电、电磁屏蔽、抗紫外线、防水透湿等功能纺织品的研究现状，探讨了该技术在纺织品染色过程中的应用，最后对磁...
离子束辅助中频非平衡磁控溅射Ti-N-C膜的研究,非平衡磁控溅射,中频孪生靶,离子束辅助沉积,Ti-N-C薄膜,体结构。本文首先对Ti-N-C膜系的硬质膜的性能、以及检测手段进行了综述。在此基础上,采用离子束辅助中频非平衡磁控溅射技术制...
磁控溅射镀膜机的结构设计及CIGS薄膜均匀性研究—硕士毕业论文下载.磁控溅射镀膜机的结构设计及CIGS薄膜均匀性研究.论文目录.摘要.第1-5页.abstract.
2014磁控溅射镀膜技术文献综述论文.doc,磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求,真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能,提高工...
内容提示:磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求,真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能,提高工件的耐磨损、抗氧化、...
论文查重开题分析单篇购买文献互助用户中心磁控溅射镀膜工艺及其发展现状来自KNS喜欢0阅读量:10作者:何文展开摘要:一、前言镀膜玻璃是一种在玻璃...
关键词:磁控溅射较膜辉光放电,中图分类号:G4文献标识码:A文章编号:1673-9795(2013)1O(b)-O136—02溅射镀膜过程主要是将欲沉积成薄膜在150℃...
【摘要】:本篇论文讨论的是有关玻璃材料表面改性的问题。在对玻璃、玻璃深、深的主要物理方法以及磁控溅射沉积方法作了简单介绍后,对玻璃镀膜膜层的主要品质和特性:...
内容提示:毕业设计(论文)课题名称:磁控溅射镀膜设计专业:热能动力设备及应用毕业设计任务书毕业设计题目:在φ58×2100mm的玻璃管上,采用真空磁控溅射...
经过了解,国内关注磁控溅射技艺自动化发展较少论文网,未得到应有的关注。本论文以PLC控制为核心,设计出一个气体流量系统,编写软件控制系统程序,实现对气体流系...
【摘要】:磁控溅射工艺是专用设备内壁表面处理方法之一,存在结合强度偏低等问题。本文对磁控溅射工艺进行了优化,通过降低镀膜本底真空度和降低氩气压力值的方式,使磁控溅射层...
哪位高人知道：直流反应磁控溅射镀膜中以玻璃为基体，然后镀二氧化钛薄膜，二者的结合力如何啊？？如何...
磁控溅射镀膜的简介及其实际操作作者:徐超群作者单位:乐山师范学院物理与电子工程系【摘要】溅射技术的最新成就之一是磁控溅射。对于二级溅射、偏压溅射、三...