钼圆片表面磁控溅射镀镍薄膜的工艺、结构及性能研究.洪波.【摘要】：钼及钼合金具有良好的导电导热性、低热膨胀系数、高温强度和耐磨损等特性,使其在宇航、电子、化工等领域广泛应用。.但是钼的抗氧化能力很差,容易在空气中氧化,且生成的氧化物无法...
磁控溅射金基合金镀膜材料以其特有的性能和特点，应用范围越来越广。.作为源材料，金基合金靶材的质量对溅射工艺及镀膜性能起着至关重要的作用。.主要介绍常用金基合金的种类；金基合金溅射靶材的方法及应用现状；高端金基合金溅射靶材的...
磁控溅射类金刚石（DLC）薄膜及其结构和性能研究材料是人类可以利用的物质，一般是指固体。而材料学是研究材料的或工艺、材料结构与材料性能三者之间的相互关系的科学。涉及的理论包括固体物理学，材..
PZT压电陶瓷磁控溅射金属化的研究.何梅.【摘要】：PZT(锆钛酸铅)系压电陶瓷由于其具有良好的压电特性、高的温度稳定性、较大的机电耦合系数,可制作压电振子、压电换能器、传感器和电声器件,在电视、通信设备、测量仪器、汽车电子、医学诊断治疗、航空...
利用磁控溅射在二氧化硅表面沉积金电极的问题.各位虫友们大家好，在下最近正在进行传感器制作的相关实验，遇到了以下问题，劳烦各位虫友给指点迷经，非常感谢！.我的实验过程是：一次光刻,IBE,二次光刻，沉积金电极，关键在于金电极要沉积在二氧化硅...
呵呵，楼主的问题提得太笼统，你要是亲自做过磁控溅射就应该知道，不同设备之间没有可比性。.不过还是有一点经验可以借鉴的，就是溅射金属时，气压做好控制在2Pa以下，这样溅射的薄膜附着力比较好。.具体的气压、功率、靶基距你还需要自己调节...
慧聪网（Hc360）商提供钰瓷磁控溅射镀膜化学镀金化镍金定制打样磁控镀膜陶瓷电镀金磁控溅射，电镀钰瓷磁控溅射镀膜化学镀金化镍金定制打样磁控镀膜陶…
电子束蒸发与磁控溅射镀膜的性能分析研究随着科学技术的不断发展，半导体器件的种类不断增多。原始点接触晶体管、合金晶体管、合金扩散晶体管、台面晶体管、硅平面晶体管、TTL集成电路和N沟硅栅平面MOS集成电路等，其制造工艺及工艺之间的各道工序也有所差别。
李铸国;三宅正司;;反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO_2薄膜的结构与光学性能[J];金属学报;2010年01期5蒋磊;黄辉;王春涛;张文魁;甘永平;陶新永;;氮掺杂二氧化钛-氧化镍双层薄膜的光电致色特性[J];物理化学学报;2010年02期
反应磁控溅射法氮化铝钪薄膜.为了出压电性能良好、c轴择优生长的氮化铝钪压电薄膜,本文利用脉冲直流反应磁控溅射法了几组氮化铝钪薄膜,通过控制变量,并利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜和压电系数测试仪等测试设备,研究了气体流量、功率...
(10条)Zhibin.ZhouWancheng.TangXiufeng.LuoFa.ZhuDongmeiYi-chen.ZHANGJian.BADe-chun磁控溅射镍薄膜热阻温度传感器工艺研究[期刊论文]-真空2006,...
磁控溅射镍膜及其性能的研究不比夏风永为沙分享于2011-06-3018:52:1.0暂无简介文档格式:.pdf文档页数:4页文档大小:269.98K文档热度:文档分类:待分...
《中国真空学会2012学术年会论文摘要集》2012年收藏|手机打开直流磁控溅射法在玻璃上沉积金属镍膜的研究韩丽【摘要】:金属镍膜可用在电磁波屏蔽、纤维传感器,手机...
CNKI表面技术韩丽.直流磁控溅射法在玻璃上沉积金属镍膜的研究[J].表面技术.2012(06)韩丽.直流磁控溅射法在玻璃上沉积金属镍膜的研究.表面技术.2012.65-67直流磁...
为了提高用作红外探测器敏感材料的镍膜的性能,采用直流磁控溅射的方法在载玻片上测辐射热计的热敏感薄膜一镍膜,靶材选用高纯镍(99.99%).采用四探针电阻特性...
内容提示:磁控溅射镍膜沉积速率的研究摘要镍,银白色金属,[nickel]——元素符号Ni,密度8.9g/cm3。熔点1455℃,沸点2730℃。化合价:2和3。质坚硬,具...
本文主要研究了在陶瓷基板、银钯电极、树脂保护层三大类基体的不同型号材料上溅射镍铬薄膜材料并电镀镍层及锡层后的附着力,并对比了不同入射...
随着对过渡金属氮化物原理和条件的探索,发现其中的氮化镍材料有着丰富的电子结构,优异的催化选择性,可以作为钌和铂贵金属的潜在替代品,已经是热门材料之一,对其...
镍和金是锗工艺中常见的金属,目前还没有快速热处理条件下锗中的镍和金的行为研究。本文在综述前人工作的基础上,采用磁控溅射法在n型锗单晶表面镀上非晶镍...
《磁控溅射镍膜沉积速率的研究》-毕业论文(设计).doc,PAGE磁控溅射镍膜沉积速率的研究摘要镍,银白色金属,[nickel]——元素符号Ni,密度8.9g/cm3。熔点1455℃,...