射频溅射时，采用高频射频电源（13.56MHz），分别将靶材和真空室的其他部分耦合在电源的两极，衬底处于靶材对应的位置，与靶材间距为5cm，射频磁控溅射时放电的过程（工作气体为Ar1）无光放电打开射频电源及电流显示器，即会有十毫安以下以下的电流...
磁控溅射法氮化硅薄膜及其性能研究--优秀毕业论文研究,溅射,性能,氮化硅薄膜,磁控溅射法,磁控溅射,溅射法,磁控溅射膜频道豆丁首页社区企业工具创业微案例会议热门频道工作总结作文股票医疗文档分类论文生活休闲外语心理...
工学硕士学位论文中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的工艺研究哈尔滨工业大学2008图书分类号：O484.4U.D.C:621.193工学硕士学位论文中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的工艺研究硕士研究生：教授申请学位级别：工学硕士学科、专业...
硕士学位论文基于磁控溅射Cu膜的铝合金不锈钢低温钎焊研究LOWTEMPERATURESOLDERINGALUMINUMALLOYSTAINLESSSTEELBASEDCOPPERMAGNETRONSPUTTERING哈尔滨工业大学2013年6月国内图书分类号TG454学校代码...
硕士学位论文BZTBCT薄膜双靶磁控溅射与电性能PREPARATIONOFBZTBCTTHINFILMWITHDOUBLETARGETMAGNETRONSPUTTERINGANDITSELECTRICALPROPERTIES赵悦...
增硬玻璃磁控溅射DLC薄膜SiC缓冲层【摘要】：每年有大量的建筑幕墙玻璃,显示面板玻璃和汽车玻璃由于表面划伤、磨损而报废。类金刚石(DLC)薄膜材料具有高硬度,低摩擦系数等优异的性能,能有效的提高玻璃在、使用、物流等过程中的划伤问题,提高成品率。
圆平面磁控溅射靶的优化研究.王德志.【摘要】：磁场分布在整个磁控溅射过程中起着至关重要的作用,磁场强度的大小、分布决定了等离子体的特性,从而对成膜质量、靶材刻蚀的均匀程度以及靶材的利用率均有很大的影响。.此外磁控靶的温度直接关系着溅射...
磁控溅射法AZO透明导电薄膜及其性能研究.pdf,优秀博硕毕业论文，完美PDF内部资料、支持编辑复制，值得参考！！！暨南大学硕士论文磁控溅射法AZO透明导电薄膜及其性能研究论文摘要近年来，透明导电薄膜已成为液晶显示、触控...
磁控溅射法NiCr薄膜毕业论文开题报告.doc,苏州科技学院毕业论文开题报告论文题目磁控溅射法NiCr薄膜院系数理学院专业应用物理学系学生姓名赵春武学号0920112208指导教师沈娇艳2013年月日1．研究的背景、目的及意义背景：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩…
硕士论文开题报告—《磁控溅射法涂层导体缓冲层薄膜》摘要第1-7页Abstract第7-11页第1章绪论第11-28页·超导材料简介第11-12页
磁控溅射法沉积硅薄膜的研究(申请工学硕士学位论文)磁控溅射法沉积硅薄膜的研究刘本锋武汉理工大学培养单位:材料科学与工程学院学科专业:光电子及信息...
华中科技大学硕士学位论文PTCR磁控溅射电极及性能研究姓名:熊炫申请学位级别:硕士专业:微电子学与固体电子学指导教师:郝永德20060508华中科技大学硕士...
本论文首次进行了采用磁控溅射方法MgAlSnO三元复合金属氧化物薄膜的研究,并对其作TFT有源层的应用进行了初步的实验探索,主要研究工作及结果如下:1、首先寻找最佳的磁控溅...
采用磁控溅射法在MgO(100)衬底上了MnGa薄膜,采用振动样品磁强计与X射线衍射仪、原子力显微镜分析测量了MnGa薄膜的磁性能、晶体结构与表面形貌,主要研究了后退火温度、溅...
内容提示:I摘要磁控溅射镀膜是当前主要的薄膜沉积方式之一,被广泛应用在微电子、光学薄膜和材料表面处理领域中。特别是在大面积镀膜方面更具明显的优势。...
硕士博士毕业论文站内搜索分类:教育论文网→数理科学和化学论文→物理学论文→固体物理学论文→薄膜物理学论文→薄膜的生长、结构和外延论文磁控溅射氮化物薄膜及其表...
射频磁控溅射镀膜过程及机制(硕士论文草稿,有摘抄有实验有推断不保证正确).doc关闭预览想预览更多内容,点击免费在线预览全文免费在线预览全文射频磁控溅射...
21薄膜的方法溅射镀膜磁控溅射溅射过程迁移过程成膜过程溅射镀膜气相条件下沉积薄膜有两种主要的方式物理气相沉积PhysicalVaporDepositionPVD和化学气相沉积...
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硕士学位论文PTCR磁控溅射电极及性能研究姓名:熊炫申请学位级别:硕士专业:微电子学与固体电子学指导教师:郝永德20060508华中科技大学硕士学位论文摘要钛酸钡系半导体...