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影响磁控溅射均匀性的因素呜阅壬磁控溅射生成的薄膜厚度的均匀性是成膜性质的一项重要指标,因此有必要研究影响磁控溅射均匀性的因素,以更好的实现磁控溅射均匀镀膜.简单的说磁控溅射就…
磁场强度对磁约束磁控溅射源工作状态的影响.【摘要】：磁场强度及磁场的分布在磁控溅射镀膜机工作中影响着磁控溅射源工作的稳定性及靶材的利用率。.传统的"跑道环"形式的磁场设计理念,在薄膜沉积的过程中,溅射主要集中在靶材面的一个环形跑道区域内...
更多相关参考论文设计文档资源请访问/lzj781219本论文中样品采用中科院沈阳科学仪器厂JGP350型磁控溅射镀膜机，真空抽气系统由机械泵（前级泵）和分子泵（主泵）组成，极限真空度可达2.010-4Pa。
摘要：磁控溅射作为一种低温高速溅射技术,是新型的织物表面改性方法.通过对磁控溅射基本原理和纳米银(Ag),纳米二氧化钛(TiO_2),纳米氧化镁(MgO)和纳米氧化锌(ZnO)抗菌机理研究成果的介绍,对应用磁控溅射技术抗菌织物的方法,性能评价以及安全性问题进行了分析,探讨了镀膜厚度,预处理以及光照...
化，因此控制溅射镀膜时氧气的流量对出具有优异性能的AZO薄膜具有至关重要的影响。本实验详细探究氧气流量对磁控溅射[812]法所的AZO薄膜的性能影响及机理。
中国期刊网,期刊,杂志,读者服务,电子杂志,论文,文库,期刊网,电子刊[导读]国内外正在不断扩大应用磁控溅射技术的范围，促使磁控溅射现已发展成为镀膜工业生产中一项最关键的技术，但同时磁控溅射中的靶材也显现出一些不足。
硕士论文开题报告—《磁控溅射法涂层导体缓冲层薄膜》摘要第1-7页Abstract第7-11页第1章绪论第11-28页·超导材料简介第11-12页
近代物理实验磁控溅射镀膜宋爽核122011011723指导老师：王合英2013-5-24【摘要】本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射...
微颗粒表面磁控溅射镀膜研究.俞晓正.【摘要】：在粉体颗粒表面镀薄膜可显著增强其应用功效。.磁控溅射沉积作为一种高质量的镀膜方法,也逐渐被应用于粉体颗粒表面镀膜。.本论文根据磁控溅射及粉体颗粒的特点,设计并研制了一套微颗粒磁控溅射镀膜...
磁控溅射的均匀性和稳定性，就是真空腔室内维持动态的气氛平衡过程。所以你改变氩气流量，应该在这个前提下进行，才能说明压力的流量对镀膜的影响，
内容提示:磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求,真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能,提高工件的耐磨损、抗氧化、...
本文通过对控制单一变量的方法进行磁控溅射镀膜实验数据的对比分析,探究了气压,靶磁场电流,溅射电流对于铜膜生成速率的影响,并结合超声波清洗技术,比较了不同温...
关键词:磁控溅射较膜辉光放电,中图分类号:G4文献标识码:A文章编号:1673-9795(2013)1O(b)-O136—02溅射镀膜过程主要是将欲沉积成薄膜在150℃...
【摘要】:目的:探讨镍钛锉表面经磁控溅射镀膜技术处理后,其切割效率及耐磨性是否提高。研究方法:选用04锥度#25KV4镍钛锉20支,随机分为A组和B组,每组各10支,A组镍钛锉行镀膜...
134页文档大小:3.53M文档热度:文档分类:论文--毕业论文文档标签:论文专业离子材料学模拟计算射频溅射镀膜的磁控溅射法磁控溅射系统标签:溅...
DOh10.3969,j.issn.1009-9492.2017.07.004磁控溅射工艺对金属镀膜塑料结合力影响的研究曹一鸣,潘俊锋,黄沛(广州市光机电技术研究院,广东广州51066...
内容提示:毕业设计(论文)课题名称:磁控溅射镀膜设计专业:热能动力设备及应用毕业设计任务书毕业设计题目:在φ58×2100mm的玻璃管上,采用真空磁控溅射...
中国重要会议论文全文数据库前10条1钱锋;刘树红;林晶;;离子源对磁控溅射TiNC膜基结合力的影响[A];TFC'11全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2011年2刘伟基;冀鸣;;...
2004磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响12311王,余欧明,杭凌侠,赵保平,王忠厚(1.中国科学院西安光学精密机械研究所,陕西西安710068;...
中国博士学位论文全文数据库前1条1郭亚军;轴瓦磁控溅射镀膜技术及其材料力学性能研究[D];哈尔滨工程大学;2002年中国硕士学位论文全文数据库前4条1满小花;磁控溅射镀...